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[发明专利]一种曝光用投影物镜以及光刻系统-CN201710060955.X有效
发明人： 韦婧宇 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2017-01-25 - 公布日： 2020-05-01 - 主分类号： G02B7/02 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光用投影物镜以及使用这种曝光用投影物镜的光刻系统，从上至下依次包括若干个物镜腔室，在顶层的物镜腔室的顶部设置有气体导流装置，在底层的物镜腔室设置有出气孔，气体从所述气体导流装置从上至下依次流入所有所述物镜腔室并从所述出气孔流出。本发明使得外部气体从该气体导流装置进入投影物镜的物镜腔室内，这样改变了气体的流动方向，从而改变了气体流动时受到的压力，避免了流动死角的产生，从而可以减小投影物镜镜片被污染的几率。
一种曝光投影物镜以及光刻系统

[发明专利]物镜防污染装置-CN201810844511.X在审
发明人：王锋;郁健;湛宾洲;章富平;张洪博;韦婧宇;张丽;王伟伟 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-07-27 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种物镜防污染装置，安装在物镜的镜头上，物镜防污染装置包括壳体和具有多个第一通气孔的第一通气板，壳体上开设有通光孔，第一通气板设置在壳体内，位于通光孔的周围并与壳体的外壳围绕形成吹气腔，吹气腔与壳体上的进气口连通，吹气腔具有两个吹气口，两个吹气口相对设置在通光孔两侧，且两个吹气口距离进气口的距离相同，第一通气板设置在吹气口处。上述的物镜防污染装置能够在物镜下方形成均匀稳定分布的正压腔，正压腔内保护气体分布均匀，不会出现部分区域无保护气体的现象，从而避免镜片局部污染以保证物镜透过率，能够有效保证光刻机的曝光精度。
物镜吹气口壳体防污染装置吹气腔通光孔通气板进气口正压腔无保护气体保护气体相对设置光刻机通气孔透过率镜片连通体内保证镜头曝光污染

[发明专利]一种浸液限制机构-CN201410114022.0有效
发明人： 韦婧宇;聂宏飞;张洪博;赵旭 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2014-03-25 - 公布日： 2017-06-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种浸液限制机构，包括第一水平供液通道、第一水平出液通道、垂直供液通道、气液回收通道及供气通道，第一水平供液通道和第一水平出液通道相对设置，垂直供液通道、气液回收通道和供气通道的出口由内向外依次排列于浸液限制机构的底部，第一水平供液通道、垂直供液通道分别连接至供液设备，第一水平出液通道和气液回收通道分别连接至气液回收设备，供气通道连接至供气设备，还包括与供液设备连接的第二水平供液通道和与气液回收设备连接的第二水平出液通道。本发明通过增设第二水平供液通道和第二水平出液通道，并对其位置和尺寸进行约束，改善主流场的流速及均匀性，并减小曝光场的压力波动，防止压力波动对浸液焦深及套刻的影响。
一种浸液限制机构

[发明专利]用于光刻设备的掩模重力补偿装置-CN201310563528.5有效
发明人：龚辉;许琦欣;张洪博;韦婧宇;聂宏飞 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2013-11-14 - 公布日： 2017-01-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出一种用于光刻设备的掩模重力补偿装置，其特征在于，包括：一掩模，该掩模通过位于掩模下方分布于两侧的吸附装置放置于一掩模台上，该掩模的上表面设置两个水平位置固定的吸附条，根据该掩模运动时的不同位置，调整该吸附条的压力值，以补偿该掩模因自身重量产生的形变；所述吸附条通过调节与其连接的流量控制器、比例调压阀或磁服阀来控制吸附条的抽速。
用于光刻设备重力补偿装置