专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]可伸缩式万向刚性风管-CN202320319408.X有效
  • 阎江;苏松根;敬代云;曹君正 - 浙江双环传动机械股份有限公司
  • 2023-02-27 - 2023-08-18 - F16L27/02
  • 可伸缩式万向刚性风管,包括出风扁管,所述出风扁管通过万向结构与刚性伸缩管连接,所述刚性伸缩管的尾端与气源相连接,所述万向结构包括相连接的万向螺母和万向螺栓,所述万向螺母与出风扁管连接,所述万向螺栓与刚性伸缩管连接,所述出风扁管设有球形连接部,所述球形连接部安装于万向结构内。本实用新型通过万向螺母与万向螺栓的调节,可360度调整出风扁管的方向。刚性伸缩管在使用中,根据实际使用来调节长度。
  • 伸缩万向刚性风管
  • [发明专利]一种计算光刻中掩模版的处理方法及装置-CN201910072613.9有效
  • 阎江;梁文青 - 墨研计算科学(南京)有限公司
  • 2019-01-25 - 2020-12-04 - G03F7/20
  • 本申请公开了一种计算光刻中掩模版的处理方法及装置,在所述方法中,通过多边形的顶点数据,获取多边形中边的长度以及方向,并根据所述边的长度以及方向定义多边形的数据格式,令掩模版图形按照所述数据格式进行存储、读取以及传输。相较于现有技术,本申请公开的方法,通过对掩模版图形中多边形的边进行存储,有效的减小了掩模版图形的存储空间,并使得掩模版图形的数据在计算机程序之间能够实现快速读取以及传输。并且,在获取掩模版图形函数时,基于多边形中边的方向,对基本图形函数进行线性组合,提高计算光刻的效率。
  • 一种计算光刻模版处理方法装置
  • [发明专利]基于掩模版图形处理的光强分布快速确定方法及装置-CN201811157255.3有效
  • 阎江;梁文青 - 墨研计算科学(南京)有限公司
  • 2018-09-30 - 2020-09-01 - G03F7/20
  • 本申请公开了一种基于掩模版图形处理的光强分布快速确定方法及装置。该方法包括:根据光源函数和光瞳函数,建立交叉传递函数;对交叉传递函数进行奇异值分解,得到至少一个频域核函数;确定掩模版图形划分成的至少一个矩形,以及至少一个矩形中每个矩形的特征信息;确定每个矩形各自对应的矩形投影系数和至少一个频域核函数中每个频域核函数各自对应的核函数投影系数;根据矩形投影系数,核函数投影系数和每个矩形的特征信息,确定用户指定位置上的光强分布。本申请中,通过核函数投影系数和矩形投影系数,快速确定光强分布。由于掩模版图形划分的矩形中存在重复矩形,因此,计算矩形投影系数时能够避免重复计算,减少计算时间,提高光刻效率。
  • 基于模版图形处理分布快速确定方法装置
  • [发明专利]一种晶圆表面光强分布的快速获取方法及装置-CN201811157236.0有效
  • 阎江;梁文青 - 墨研计算科学(南京)有限公司
  • 2018-09-30 - 2020-09-01 - G03F7/20
  • 本申请公开了一种晶圆表面光强分布的快速获取方法及装置,通过将频域上的光源函数以及频域上的光瞳函数,分别投影到Fourier‑Bessel正交基函数上,获取光源函数的频域投影系数以及光瞳函数的频域投影系数。然后根据Fourier‑Bessel正交基函数与Circle‑Bessel正交基函数之间的变换关系,获取光源函数的空间域投影系数以及光瞳函数的空间域投影系数。接着,获取第一组预计算数据集,并根据所述第一组预计算数据集,获取交叉传递函数。然后,根据获取的第二组预计算数据集、交叉传递函数、第一组预计算数据集、光源函数的空间域投影系数以及光瞳函数的空间域投影系数,获取核函数的投影系数。最后,根据核函数的投影系数以及所获取的第三组预计算数据集,获取晶圆表面的光强分布。
  • 一种表面光分布快速获取方法装置
  • [发明专利]一种基于掩模版拐角圆化的计算光刻方法及装置-CN201910103564.0有效
  • 阎江;梁文青 - 墨研计算科学(南京)有限公司
  • 2019-02-01 - 2020-09-01 - G03F7/20
  • 本申请公开了一种基于掩模版拐角圆化的计算光刻方法及装置,在获取晶圆表面的光强分布之前,通过圆化处理图形对预先设计的理想的掩模版图形进行圆化处理,获取掩模版的几何图形,通过理想的掩模版图形以及圆化处理图形在频域上的响应函数,获取几何图形的响应函数,根据几何图形的响应函数,计算晶圆表面光强分布。相较于现有技术,本申请中的计算光刻方法所使用的圆化处理图形的一边为圆弧边,通过圆化处理图形对掩模版图形的拐角进行处理之后,能够有效消除与实际光刻工艺中圆化的拐角之间的偏差,保证了计算光刻结果的精确度。
  • 一种基于模版拐角计算光刻方法装置
  • [发明专利]基于非均匀计算的光强分布获取方法及装置-CN201811157268.0有效
  • 阎江;梁文青 - 墨研计算科学(南京)有限公司
  • 2018-09-30 - 2020-09-01 - G03F7/20
  • 本申请公开了一种基于非均匀计算的光强分布获取方法及装置,该方法包括:对频域上的光源函数和光瞳函数进行均匀采样,得到基于相交面积的光源采样矩阵和光瞳采样矩阵;对光源采样矩阵和光瞳采样矩阵进行非均匀傅里叶逆变换,得到交叉传递矩阵;确定交叉传递矩阵的频域核函数;建立频域上的掩模函数的采样矩阵和频域核函数的采样矩阵;根据频域上的掩模函数的采样矩阵和频域核函数的采样矩阵,通过非均匀傅里叶逆变换,获取用户指定位置上的光强分布。本申请中,由于采用基于相交面积的采样方法,提高了计算精度,同时,采用非均匀傅里叶逆变换,在相同的采样密度下,能够减小对光强分布的计算量,从而缩短计算时长,提高对光刻胶进行光刻的效率。
  • 基于均匀计算分布获取方法装置

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