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[发明专利]水处理方法以及水处理系统-CN201480038059.8有效
发明人： 江田昌之;冲野进;吉山隆士;樱井秀明;鹈饲展行;铃木英夫;中小路裕;吉冈茂 -专利权人：三菱重工工程株式会社
申请日： 2014-05-30 - 公布日： 2018-08-24 - 主分类号： C02F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。在本发明的水处理系统(400)以及水处理方法中，在向包含Ca离子、SO42‑离子、CO32‑离子及HCO3‑离子以及二氧化硅的被处理水供给钙水垢防止剂和二氧化硅水垢防止剂后，被处理水在第二脱盐部(210)中被分离为浓缩有Ca离子、SO42‑离子、CO32‑离子及HCO3‑离子以及二氧化硅的第二浓缩水与处理水。在第二析晶部(220)中向第二浓缩水供给石膏的晶种，从而石膏发生析晶而从第二浓缩水中被去除。
水处理方法以及系统

[发明专利]水处理方法以及水处理系统-CN201480037969.4有效
发明人： 江田昌之;冲野进;吉山隆士;樱井秀明;鹈饲展行;铃木英夫;中小路裕;吉冈茂 -专利权人：三菱重工业株式会社
申请日： 2014-05-30 - 公布日： 2018-06-08 - 主分类号： C02F9/00 文献下载
摘要：本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。在本发明的水处理系统(200)以及水处理方法中，在向包含Ca离子、SO₄离子、碳酸根离子以及二氧化硅的被处理水供给水垢防止剂和二氧化硅水垢防止剂后，被处理水在第二脱盐部(210)被分离为浓缩有Ca离子、SO₄离子、碳酸根离子以及二氧化硅的浓缩水与处理水。在第二析晶部(220)中向第二浓缩水供给石膏的晶种，从而石膏析晶而从第二浓缩水中被去除。
水处理系统二氧化硅水处理水垢防止剂碳酸根离子被处理水浓缩水石膏离子浓缩水回收率处理水析晶部晶种去除水中脱盐析晶再生

[发明专利]水处理系统、发电成套设备及水处理系统的控制方法-CN201580081693.4在审
发明人：鹈饲展行;樱井秀明;加藤克彦;铃木英夫;冲野进;竹内和久;江田昌之 -专利权人：三菱重工业株式会社
申请日： 2015-08-05 - 公布日： 2018-04-17 - 主分类号： C02F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种水处理系统、发电成套设备及水处理系统的控制方法，本发明的水处理系统(10A)处理从成套设备排出的废水(31)，且具备处理废水(31)的水处理设备(50)；从成套设备中获取成套设备运行信息的第1运行数据获取部(41)；根据在第1运行数据获取部(40)中获取的成套设备运行信息(40)预测废水(31)的水质的水质预测部(42)；及根据在水质预测部(42)预测到的预测水质(43)而对水处理设备(50)的运行条件进行前馈控制(45)的控制部(44)。
水处理系统发电成套设备控制方法

[发明专利]水处理方法以及水处理系统-CN201480036187.9有效
发明人： 江田昌之;冲野进;吉山隆士;樱井秀明;鹈饲展行;铃木英夫;中小路裕;吉冈茂 -专利权人：三菱重工业株式会社
申请日： 2014-05-30 - 公布日： 2017-12-22 - 主分类号： C02F9/00 文献下载
摘要：本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。在本发明的水处理系统(300)以及水处理方法中，向包含Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的被处理水供给水垢防止剂，将被处理水调整为二氧化硅能够溶解的pH。添加有钙水垢防止剂且调整了pH的被处理水在第一脱盐部(10)中分离为浓缩有Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的浓缩水与处理水。在第一析晶部(20)中向第一浓缩水供给石膏的晶种，石膏析晶而被从第一浓缩水中去除。被处理水中的二氧化硅在第一析晶部(20)的被处理水下游侧被从第一浓缩水中去除。被处理水中的碳酸钙在第一脱盐部(10)的上游侧或者第一析晶部(20)的下游侧被从第一浓缩水中去除。
水处理方法以及系统

[发明专利]膜分离装置-CN201580077542.1在审
发明人：上户龙;冲野进;杉山茂广;江田昌之;樱井秀明;鹈饲展行;铃木英夫;中小路裕;吉冈茂 -专利权人：三菱重工业株式会社
申请日： 2015-03-30 - 公布日： 2017-11-28 - 主分类号： B01D63/00 文献下载
摘要：本发明提供即使在密封构件劣化了的情况下也能够防止分离膜的破损的膜分离装置。本发明的膜分离装置(1)的特征在于，具备下部支承体(11)，其设置有被处理水导入口(112a)以及浓缩水排出口(112b)；上部支承体(12)，其设置有透过水排出口(122a)；分离膜(13)，其设置于下部支承体(11)与上部支承体(12)之间，用于将被处理水分离为透过水以及浓缩水；片状弹性构件(14)，其设置于分离膜(13)与下部支承体(11)之间，用于对分离膜(13)与下部支承体(11)之间以及下部支承体(11)与上部支承体(12)之间进行密封。
分离装置

[发明专利]水处理系统以及方法-CN201580075773.9在审
发明人：鹈饲展行;中小路裕;铃木英夫;吉冈茂;江田昌之;冲野进;牛久哲 -专利权人：三菱重工业株式会社
申请日： 2015-02-19 - 公布日： 2017-09-26 - 主分类号： C02F1/16 文献下载
摘要：水处理系统具备湿式脱硫装置(16)，其去除锅炉废气(12)中的硫氧化物；脱水装置(42)，其从包含石膏料浆的脱硫排水(41)中分离出石膏(32)；反应槽(101)，向反应槽(101)中导入来自脱水装置(42)的分离水(43)且投入螯合剂(102)，从而将分离水(43)中的重金属固定；固液分离部(103)，其对分离水(43)中的重金属淤泥(104)进行固液分离；混合部(110)，其将来自固液分离部(103)的分离水(43)与在工厂设备内产生的排出水(22)混合；脱盐处理装置(30)，其去除由混合部(110)混合后的混合水(111)中的盐分；喷雾干燥装置(23)，其具有对由脱盐处理装置(30)浓缩了盐分后的浓缩水(31)进行喷雾的喷雾机构，且使用锅炉废气(12)的一部分(12a)进行喷雾干燥。
水处理系统以及方法

[发明专利]水处理方法以及水处理系统-CN201480037826.3有效
发明人： 江田昌之;冲野进;吉山隆士;樱井秀明;鹈饲展行;铃木英夫;中小路裕;吉冈茂 -专利权人：三菱重工业株式会社
申请日： 2014-05-30 - 公布日： 2017-09-01 - 主分类号： C02F9/00 文献下载
摘要：本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。本发明的水处理系统包括第一脱盐部，其将包括Ca离子、SO4离子以及碳酸离子的被处理水分离为浓缩有Ca离子、SO4离子以及碳酸离子的浓缩水与处理水；析晶部，其设置在第一脱盐部的下游侧，且具有使石膏从浓缩水中析晶的第一析晶槽(21)与向第一析晶槽(21)供给石膏的晶种的晶种供给部(22)；第一pH计测部(543)，其对第一析晶槽(21)内的第一浓缩水的pH进行计测；以及控制部(24)，在由第一pH计测部(543)计测出的pH处于钙水垢防止剂的水垢防止功能降低的pH范围内的情况下，该控制部使石膏的晶种的供给量降低，在由第一pH计测部(543)计测出的pH比pH范围高的情况下，该控制部使石膏的晶种的供给量增大。
水处理方法以及系统

[发明专利]水处理方法以及水处理系统-CN201480038042.2有效
发明人： 江田昌之;冲野进;吉山隆士;樱井秀明;鹈饲展行;铃木英夫;中小路裕;吉冈茂 -专利权人：三菱重工业株式会社
申请日： 2014-05-30 - 公布日： 2017-08-18 - 主分类号： C02F9/00 文献下载
摘要：本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。本发明的水处理系统(100)具备第二脱盐部(210a、210b)，其将包含Ca离子、SO4离子以及碳酸离子的被处理水分离为浓缩有Ca离子以及SO4离子的浓缩水与处理水；析晶部，其设置在第二脱盐部(210a、210b)的下游侧，具有使石膏从浓缩水中析晶的第二析晶槽(221a、221b)以及向第二析晶槽(221a、221b)供给石膏的晶种的晶种供给部；以及分离部，其在析晶部的下游侧将石膏从浓缩水中分离。
水处理方法以及系统

[发明专利]水处理系统和方法-CN201380076819.X有效
发明人：鹈饲展行;冲野进;江田昌之;香川晴治;铃木英夫;中小路裕;牛久哲;吉冈茂 -专利权人：三菱重工业株式会社
申请日： 2013-07-05 - 公布日： 2017-06-09 - 主分类号： C02F1/12 文献下载
摘要：本发明的在工厂设备内发生的废水的水处理系统，具备如下处理来自锅炉(11)的锅炉废气(12)的废气处理系统(18)；具有对于在工厂设备内的例如冷却塔(21)中发生废水(22)进行喷雾的喷雾机构，使用所述锅炉废气(12)的一部分(12a)进行喷雾干燥的喷雾干燥装置(23)，将排出的废水(22)导入喷雾干燥装置(23)的内部，以废气(12)的一部分(12a)的热干燥喷雾液，因此不需要用工业废水处理设备另行处理废水(22)，能够实现在工厂内发生的废水(22)的零排放化。
水处理系统方法

[发明专利]水处理装置及水处理装置的运行方法-CN201480081210.6在审
发明人：樱井秀明;铃木英夫;中小路裕;吉冈茂;冲野进;仙波范明;杉山茂广;江田昌之;阿部飞太;上户龙;鹈饲展行 -专利权人：三菱重工业株式会社
申请日： 2014-09-03 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： B01D65/10 文献下载
摘要：本发明提供一种水处理装置及水处理装置的运行方法。本发明的水处理装置具备分离膜装置，具有从被处理水(11)浓缩溶解成分和分散成分而获得透过水的分离膜；第1附着物检测部(24A)，设置于从排出非透过水(15)的非透过水管路(L11)分支的非透过水分支管路(L12)，且具有第1检测用分离膜(21A)，所述第1检测用分离膜(21A)将分支的非透过水的一部分作为检测液(15a)并将该检测液(15a)分离为检测用透过水(22)和检测用非透过水(23)，所述非透过水(15)浓缩溶解成分和分散成分而成；及第1检测用分离液流量测量装置，测量在第1检测用分离膜(21A)中分离的检测用透过水(22)或检测用非透过水(23)的任一者或两者的流量。
水处理装置运行方法

[发明专利]水处理装置的附着物监控装置、水处理装置及其运行方法以及水处理装置的清洗方法-CN201480081417.3在审
发明人：樱井秀明;铃木英夫;中小路裕;吉冈茂;冲野进;仙波范明;杉山茂广;江田昌之;阿部飞太;上户龙;鹈饲展行 -专利权人：三菱重工业株式会社
申请日： 2014-09-03 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： B01D65/10 文献下载
摘要：本发明提供一种水处理装置的附着物监控装置、水处理装置及其运行方法以及水处理装置的清洗方法。本发明的水处理装置的附着物监控装置具备非透过水管路(L11)，从分离膜装置排出浓缩溶解成分和分散成分而成的非透过水(15)，所述分离膜装置从被处理水(11)通过分离膜浓缩溶解成分和分散成分而获得透过水；第1附着物检测部(24A)，设置于从非透过水管路(L11)分支的非透过水分支管路(L12)，且具有第1检测用分离膜(21A)，所述第1检测用分离膜(21A)将分支的非透过水的一部分作为检测液(15a)并将该检测液(15a)分离为检测用透过水(22)和检测用非透过水(23)；附着条件变更装置，变更附着于第1检测用分离膜(21A)的附着物的附着条件；及第1检测用分离液流量测量装置，测量在第1检测用分离膜(21A)中分离的检测用透过水(22)或检测用非透过水(23)的任一者或两者的流量。
水处理装置附着物监控及其运行方法以及清洗

[发明专利]浓缩装置的水垢检测装置及方法以及水再生处理系统-CN201480041630.1在审
发明人：上户龙;冲野进;江田昌之;樱井秀明;鹈饲展行;铃木英夫;中小路裕;吉冈茂 -专利权人：三菱重工业株式会社
申请日： 2014-12-08 - 公布日： 2016-03-16 - 主分类号： B01D65/00 文献下载
摘要：本浓缩装置的水垢检测装置具备：作为浓缩装置的反渗透膜装置(13)，其具有作为滤膜的反渗透膜(13a)，该反渗透膜(13a)对至少包含石膏的被处理水(11)浓缩盐分，获得淡水(12)；以及水垢检测部(15)，其设置在从用于排出盐分被浓缩的浓缩水(14)的浓缩水管线(L13)分支出的分支管线(L14)上，具有对上述浓缩水(14)进一步浓缩盐分，获得检测用淡水(16)并且检测浓缩水(14)中有无析出水垢成分的检测膜(15a)。
浓缩装置水垢检测方法以及再生处理系统

[发明专利]水处理方法以及水处理系统-CN201480038013.6在审
发明人： 江田昌之;冲野进;吉山隆士;樱井秀明;鹈饲展行;铃木英夫;中小路裕;吉冈茂 -专利权人：三菱重工业株式会社
申请日： 2014-05-30 - 公布日： 2016-02-24 - 主分类号： C02F9/00 文献下载
摘要：本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。在本发明的水处理系统(1)以及水处理方法中，向包含Ca离子、SO₄离子、碳酸离子以及二氧化硅的被处理水供给水垢防止剂，将被处理水调整为二氧化硅能够溶解的pH。添加有钙水垢防止剂且调整了pH的被处理水在脱盐部(10)中被分离为浓缩有Ca离子、SO₄离子、碳酸离子以及二氧化硅的浓缩水与处理水。在析晶部(20)中向浓缩水供给石膏的晶种，石膏析晶而被从浓缩水中去除。被处理水中的二氧化硅在析晶部(20)的被处理水下游侧被从浓缩水中去除。被处理水中的碳酸钙在脱盐部(10)的上游侧或者析晶部(20)的下游侧被从浓缩水中去除。
水处理方法以及系统

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