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[发明专利]一种宽带平坦透过的多芯光纤耦合器的制备方法及其应用-CN202010611598.3有效
发明人：唐明;康逸凡;甘霖;郭显聪;杜灏泽;付松年 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2020-06-29 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： G02B6/245 文献下载
摘要：本发明公开了一种宽带平坦透过的多芯光纤耦合器的制备方法及其应用，属于光纤通信和传感领域，包括：剥除N根非多包层光纤表面的部分涂覆层并切割，剥除N根多包层光纤表面的涂覆层并切割，将两个切割端熔接，得到第三中间件；将圆形毛细管拉伸，得到第四中间件；将第三中间件插入第四中间件，使第二非多包层光纤区全部或部分位于第一锥腰区，多包层光纤区同时位于第一锥腰区和第一上升锥区，得到第五中间件；将第五中间件的第一锥腰区进行加热并拉伸后，将其中的第二锥腰区进行切割，选取左端至切割端的部分，将切割端与多芯光纤对准熔接，得到宽带平坦透过的多芯光纤耦合器。本发明能够实现宽带范围的低损耗连接，并抑制传输损耗的波动程度。
一种宽带平坦透过光纤耦合器制备方法及其应用

[发明专利]一种高强韧变形镁合金及其制备方法-CN201910345709.8有效
发明人：邓朝燕;揭英琳;郭显聪 -专利权人：陕西鼎卓材料科技有限公司
申请日： 2019-04-26 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： C22C23/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种高强韧变形镁合金及其制备方法，在保护气氛下，加热纯镁锭至熔化，加入合金化元素，待合金化元素溶解后精炼浇铸成锭，将得到的铸态镁合金进行均匀化退火，再经热挤压和固溶时效处理，最后制得高强韧镁合金。本发明克服现有技术缺点，与现有技术相比，本发明所制备的变形镁合金，工艺简单，可控性强，具有更加优良的综合力学性能。
一种强韧变形镁合金及其制备方法

[发明专利]一种单模式光纤及多芯光纤耦合器-CN202010231292.5有效
发明人：唐明;郭显聪;甘霖;付松年 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2020-03-27 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： G02B6/036 文献下载
摘要：本发明公开了一种单模式光纤及多芯光纤耦合器，属于光纤技术领域。单模式光纤包括从内到外依次设置的纤芯，第一外包层，下陷外包层和机械包层，各自内部的折射率均匀分布；纤芯和第一外包层的分界面处折射率发生突变，下陷外包层与机械包层的分界面处折射率发生突变，下陷外包层的折射率小于机械包层的折射率。光纤耦合器包括套管和单模式光纤，单模式光纤嵌套在套管中且套管一端被拉锥；套管拉锥的一端用于与多芯光纤熔接；未拉锥一端中的每根单模式光纤分别与对应的标准单模光纤熔接，本发明解决了现有多芯光纤耦合器损耗较大的问题。
一种模式光纤耦合器

[发明专利]一种轻合金光伏支架及其生产工艺-CN201910386254.4在审
发明人：邓朝燕;揭英琳;郭显聪 -专利权人：陕西鼎卓材料科技有限公司
申请日： 2019-05-09 - 公布日： 2019-09-10 - 主分类号： C22C23/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种轻合金光伏支架及其生产工艺，轻合金重量百分比为：Al0.5‑9.2％，Zn0.2‑2.2％，Mn0.15‑1％，Zr0‑1％，Nd0‑0.5％，Sr0‑0.8％，杂质元素为Si、Fe、Ni、Cu，单个杂质含量小于0.01％，总含量小于0.05％，余量为Mg。通过对纯镁微合金化精炼铸造、均匀化退火、挤压成型、固溶时效、机械加工及表面处理等生产工艺，制备的轻合金支架比钢支架和铝合金支架的重量更轻，成型加工更高效，包装运输更方便，搬运安装更快捷，降低了光伏发电系统的综合成本。
轻合金生产工艺光伏支架光伏发电系统均匀化退火铝合金支架重量百分比包装运输成型加工机械加工挤压成型微合金化杂质元素综合成本钢支架纯镁固溶支架制备精炼搬运铸造

[发明专利]一种高纯度纳米多孔铜膜的制备方法-CN201910058508.X在审
发明人：胡义锋;吴兆虎;陈玉洁;郭显聪 -专利权人：西安理工大学
申请日： 2019-01-22 - 公布日： 2019-05-24 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种高纯度纳米多孔铜膜的制备方法，包括以下具体的步骤，步骤1，切割铜基片；步骤2，清洗铜基片，调整铜靶材和铝靶材的溅射电流和溅射电压，预溅射4分钟～6分钟，对铜基片进行清洗；步骤3，制备合金前驱体，在铜靶材和铝靶材的溅射过程中，控制薄膜材料中铜原子含量在25％～35％，溅射后制得合金前驱体；步骤4，腐蚀合金前驱体，将制备出来的合金前驱体放在0.1mol/L～2mol/L的H₂SO₄溶液中腐蚀后放入去离子水中，除去离子杂质，即可制备出纳米多孔铜薄膜。本发明采用铜基片选用基体材料，通过增强膜和基体之间的结合力，从而达到了提高纳米多孔铜膜纯度的目的。
制备纳米多孔铜前驱体铜基片合金高纯度铝靶材铜靶材溅射清洗腐蚀薄膜材料基体材料溅射电压离子杂质结合力铜原子预溅射增强膜放入水中薄膜离子切割