专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]磁控溅射装置阳极部件-CN201510373209.7有效
  • 李金城;刘力明;邓泽新;黄伟东;李建华 - 信利(惠州)智能显示有限公司
  • 2015-06-29 - 2017-10-13 - C23C14/35
  • 本发明公开了一种磁控溅射装置阳极部件,包括阳极模块、电源连接模块、第一至第四绝缘模块、水冷模块,以及第一至第二遮挡模块;所述阳极模块为矩形结构,中心设有开口;所述电源连接模块为框形结构,连接所述阳极模块的边缘;所述第一绝缘模块设置在所述阳极模块的开口处,且连接所述第一遮挡模块;所述第二绝缘模块设置在所述阳极模块和所述第一绝缘模块的下方;所述水冷模块设置在所述第二绝缘模块的下方;所述第二绝缘模块和所述水冷模块中心也设有开口,开口紧邻所述第一遮挡模块,且所述第一遮挡模块嵌入在所述水冷模块的豁口中;所述第三绝缘模块设置在所述水冷模块的下方靠近开口的一侧;所述第四绝缘模块嵌入所述第二遮挡模块中,且连接所述第三绝缘模块。本方案采用模块化的设计来降低维护成本,并且可以提高靶材利用率和成膜均匀性。
  • 磁控溅射装置阳极部件
  • [发明专利]一种延长Mo/Al蚀刻药液的使用寿命方法-CN201510225289.1有效
  • 陈明耀;邓泽新;黄伟东;李建华 - 信利(惠州)智能显示有限公司
  • 2015-05-06 - 2017-06-16 - C23F1/08
  • 本发明公开了一种延长Mo/Al蚀刻药液的使用寿命方法,通过实时检测药液槽中的金属离子含量,根据实时测得金属离子的浓度与设定的最高浓度值进行比较,判断采用哪一方式进行,如果金属离子含量超过预设值,则药液先通过交换系统把金属离子置换掉再进入药液监控系统,反之,则直接进入药液监控系统。本发明提高了检测精度,提高了自动化程度,提高了药液的检测精度,增加药液对金属的蚀刻能力,提高了蚀刻效率;同时,药液内硝酸盐中的硝酸根能够再度利用,成倍地延长了蚀刻药液在蚀刻过程中的使用寿命,无需频繁更换蚀刻药液,缩短了蚀刻时间,大大减少了药液的使用量,节约了生产成本,优化了蚀刻工艺,提高生产效益。
  • 一种延长moal蚀刻药液使用寿命方法
  • [发明专利]一种宽视角模式TFT基板制备方法-CN201610630003.2在审
  • 朱东梅;刘力明;邓泽新;黄伟东;李建华 - 信利(惠州)智能显示有限公司
  • 2016-08-01 - 2016-11-09 - H01L21/77
  • 本发明公开了一种宽视角模式TFT基板制备方法。所述方法包括:在基板上沉积Gate层的工序;采用CVD工艺,沉积岛层的工序;沉积第一ITO层的工序;沉积源极漏极层的工序;采用PECVD工艺,沉积PA层的工序;在本工序中,包括:以一相对较低的功率将本工序的工艺气体解离成等离子体,进行反应沉积为第一PA层,以及以另一相对较高的功率将所述工艺气体解离成等离子体,进行反应沉积为第二PA层;沉积第二ITO层的工序。应用本发明技术方案,能够在制备过程中避免将第一ITO层还原,进而可以保护第一ITO层的电学和光学性能,同时可以提升TFT基板的透过率,从而减小TFT显示器的功耗。
  • 一种视角模式tft制备方法
  • [发明专利]氧化铟锡镀膜方法-CN201510751242.9在审
  • 陈建伦;黄伟东;邓泽新;刘力明;李建华 - 信利(惠州)智能显示有限公司
  • 2015-11-04 - 2016-02-17 - C23C14/08
  • 一种氧化铟锡镀膜方法,包括如下步骤:S110、将彩色滤光片置于安装有氧化铟锡靶材的磁控溅射真空腔内;S120、对所述真空腔内进行抽真空;S130、通入工作气体,并稳定3~30s;S140、对所述工作气体进行通电,并控制所述氧化铟锡靶材的表面磁场强度,在所述彩色滤光片上形成氧化铟锡镀膜;S150、停止通入所述工作气体及停止通电,取出氧化铟锡镀膜完成的彩色滤光片,准备待处理的下一彩色滤光片,继续执行步骤S110。上述氧化铟锡镀膜方法,可以保证真空腔的洁净度,避免杂质对镀膜过程的影响,从而有效解决彩色滤光片氧化铟锡镀膜后的电阻超标现象,提高镀膜良率。
  • 氧化镀膜方法
  • [发明专利]一种用于蚀刻液浓度监控系统的滴定装置-CN201510555563.1在审
  • 张正洋;邓泽新;黄伟东;李建华 - 信利(惠州)智能显示有限公司
  • 2015-09-01 - 2015-12-23 - G01N31/16
  • 本发明提供一种用于蚀刻液浓度监控系统的滴定装置,蚀刻液浓度监控系统与中央蚀刻液供应系统通讯连接,滴定装置包括滴定腔室,在滴定腔室的顶部设有蚀刻液进液管、去离子水进液管、搅拌器、滴液口、高感度复合电极,在滴定腔室的底部设有气动阀,在滴定腔室顶部的左右两端还各设有一个压缩干燥空气喷头,压缩干燥空气喷头的壁部和底部密集分布有出气孔,压缩干燥空气喷头的出气孔均位于滴定腔室内。本发明在滴定腔室顶部的左右两端各安装一个压缩干燥空气喷头,喷头喷出来的压缩干燥空气可以把处于腔室各个位置的残留水分彻底吹干,保证了残留水分不进入到下次测量的蚀刻液内,提高测量蚀刻液浓度的准确性,降低蚀刻液的使用量,减少生产成本。
  • 一种用于蚀刻浓度监控系统滴定装置
  • [实用新型]磁控溅射装置-CN201520450817.9有效
  • 何海山;刘力明;邓泽新;黄伟东;李建华 - 信利(惠州)智能显示有限公司
  • 2015-06-25 - 2015-11-04 - C23C14/35
  • 一种磁控溅射装置,其包括腔体,设置于所述腔体内的基板、靶材、防着板及悬浮电位板,所述防着板位于所述基板与所述靶材之间,所述防着板的末端靠近所述靶材的一侧设有第一台阶状凹槽,所述悬浮电位板位于所述防着板与所述基板之间,并与所述防着板平行设置,且所述悬浮电位板与所述防着板相互绝缘,所述悬浮电位板的末端靠近所述防着板的一侧设有第二台阶状凹槽。上述磁控溅射装置,通过在现有的防着板的末端设置第一台阶状凹槽,在悬浮电位板的末端设置第二台阶状凹槽,可以增加防着板与悬浮电位板末端之间的距离,减少防着板与悬浮电位板之间因为碎屑累积而造成短路,延长短路维护周期,减少了设备中断的次数。
  • 磁控溅射装置
  • [发明专利]一种CVD成膜方法-CN201410736855.0在审
  • 刘力明;黄伟东;邓泽新;陈建伦;黄亚清;李建华 - 信利(惠州)智能显示有限公司
  • 2014-12-05 - 2015-04-08 - C23C16/513
  • 本发明公开了一种CVD成膜方法。所述包括:通过RPSC工序利用氟离子清洁反应室内部残留的薄膜;进行预处理工序,所述预处理工序为无晶片成膜工序:在反应室中不放置晶片,而通过反应气体在反应室中进行反应并成膜,以供产生的薄膜消耗RPSC工序后的氟离子;常规成膜工序,即将若干片晶片先后置于反应室中,通过反应气体在晶片表面反应成膜,并吸附在晶片上;循环上述步骤。应用本发明技术方案,能够减少CVD成膜中气泡产生的几率,从而提升半导体器件的品质。
  • 一种cvd方法

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