专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]高速接收器中的数据校正及相位优化-CN202211175221.3在审
  • 林有为;陈南渊 - 达尔科技股份有限公司
  • 2022-09-26 - 2023-10-24 - H04L25/03
  • 本申请案涉及高速接收器中的数据校正及相位优化。在一些实施方案中,一种用于执行数据校正的系统包括:模/数转换器ADC,其经配置以从连续时间线性均衡器CTLE接收差分数据,并生成包括多个数据位及对应的多个数据符号位的位流;决策反馈均衡DFE块,其经配置以从所述ADC接收所述位流并将数据提供到时钟及数据恢复CDR块;及数据校正电路系统。在一些实施方案中,所述数据校正电路系统经配置以:从所述ADC接收所述位流;确定是否校正数据符号位;响应于确定将要校正所述数据符号位,翻转所述数据符号位;及将包含所述经翻转的数据符号位的所述多个数据符号位提供到所述DFE。
  • 高速接收器中的数据校正相位优化
  • [发明专利]半导体结构及其制造方法-CN202210102438.5在审
  • 龙涛;陈则瑞;黄品豪 - 达尔科技股份有限公司
  • 2022-01-27 - 2023-08-08 - H01L29/732
  • 本发明系关于半导体结构及其制造方法。所述半导体结构包括具有第一导电型的核心层,且具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面的衬底。所述半导体结构还包括第一扩散层,其具有第一导电型、安置于所述衬底中并邻近于所述第一表面;及第一电极层,其安置于所述第一扩散层上。所述半导体结构还包括第二扩散层,其具有第二导电型、安置于所述衬底中并邻近于所述第二表面;及复数个扩散区,其具有第一导电型且安置于所述第二扩散层中。所述半导体结构还包括第二电极层,其安置于所述第二扩散层上,并使所述衬底被包夹在所述第一电极层和所述第二电极层之间。本揭露的另一实施例涉及一种半导体结构之制造方法。
  • 半导体结构及其制造方法
  • [发明专利]位级模式重定时器-CN202210677397.2在审
  • 林有为;林益生;陈南渊 - 达尔科技股份有限公司
  • 2022-06-15 - 2023-04-21 - H04L7/00
  • 本发明公开重定时器电路系统、系统及方法的一些实例。在一些实施方案中,时钟数据恢复电路系统耦合在接收器与发射器之间。所述时钟数据恢复电路系统经配置以:从与所述接收器相关联的输入数据信号提取数据分量,将所述数据分量提供到所述发射器,及产生相位控制信号。相位内插器电路系统与所述时钟数据恢复电路系统耦合。所述相位内插器电路系统包含相位内插器,所述相位内插器经配置以:接收所述相位控制信号,基于所述相位控制信号产生输出时钟信号,及将所述输出时钟信号提供到所述发射器以跟踪所述数据分量的数据分组。
  • 模式定时器
  • [发明专利]具有集成可切换短路的双极结晶体管-CN202111248006.7在审
  • P·H·布莱尔 - 达尔科技股份有限公司
  • 2021-10-26 - 2023-02-10 - H01L27/06
  • 本申请案涉及具有集成可切换短路的双极结晶体管。本发明通过在同一半导体芯片中集成双极结晶体管BJT的基极与发射极之间的可切换短路而解决当在开路基极配置中操作时所述BJT的SOA降低的问题。所述可切换短路在所述BJT的集电极电压低于基极电压时的高电阻值与所述集电极电压高于所述基极电压时的较低电阻值之间切换以有效地降低BJT电流增益(hFE)。在本发明的一个实施方案中,所述可切换短路呈其中其栅极连接到所述BJT集电极的MOSFET的形式。本发明进一步教示在集成电路芯片中安置具有低于所述BJT的BVCBO的击穿电压的结二极管。所述结二极管的添加提供在减小大小的情况下维持所述MOSFET作为可切换短路的有效性的措施。
  • 具有集成切换短路结晶体
  • [发明专利]分离栅极沟槽MOSFET-CN202110528744.0在审
  • 庄乔舜;顾昀浦;白宗纬 - 达尔科技股份有限公司
  • 2021-05-14 - 2022-10-04 - H01L29/78
  • 本申请案涉及分离栅极沟槽MOSFET。分离栅极沟槽装置芯片具有其中安置多个作用沟槽的作用区。所述作用区由安置在终止区中的终止沟槽围封,所述终止区延伸到所述芯片的边缘。栅极金属引线安置在装置表面上。所述栅极金属引线通过安置在所述作用区中的接触孔与所述作用沟槽中的栅极电极接触。源极或漏极金属引线也安置在所述表面上。所述源极或所述漏极金属引线通过安置在所述作用区外部的接触孔与场板电极接触。所述作用区中的每一作用沟槽具有合并到第一终止沟槽中的第一端及与邻近第二终止沟槽分开的第二端。
  • 分离栅极沟槽mosfet
  • [发明专利]用于栅极驱动器的自举电路-CN202110635722.4在审
  • 吴畏 - 达尔科技股份有限公司
  • 2021-06-08 - 2022-05-27 - G05F1/56
  • 本申请案涉及用于栅极驱动器的自举电路。本发明涉及一种自举二极管电路,所述自举二极管电路包含用于耦合到电源电压端子的阳极及用于耦合到自举电压端子的阴极。所述自举二极管电路还包含高压p型金属氧化物半导体PMOS晶体管,其具有形成所述自举二极管电路的所述阴极的源极及形成所述自举二极管电路的所述阳极的漏极。所述高压PMOS晶体管具有在量值上高于最大自举电压与电源电压之间的电压降的击穿电压。
  • 用于栅极驱动器电路

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