专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]OPC方法-CN202211037025.X在审
  • 夏文彬;肖燏萍;江志兴 - 华虹半导体(无锡)有限公司
  • 2022-08-29 - 2022-11-11 - G03F7/20
  • 本发明提供一种OPC方法,包括:定义所述凸类图形的目标图形的特征变量:凸高、凸宽和临边;设置所述凸类图形的特征条件和修正评价规则;获取凸高的影响因子;对凸高应用所述凸高的影响因子,进行OPC修正;获取凸类图形的模拟图形与凸类图形的目标图形在所述凸高上的交点;判断所述交点是否符合所述修正评价规则,若符合,则完成OPC修正。本申请通过获取所述凸高的影响因子,并利用所述凸高的影响因子对凸类图形进行OPC处理,再评价交点是否符合所述修正评价规则,这样可以在减少OPC修正次数的同时,避免OPC修正过程中报错的情况,提高了凸类图形对内部的通孔层的覆盖率,节省了OPC修正时间,提高了OPC修正效率。
  • opc方法
  • [发明专利]提升通孔工艺窗口的OPC方法-CN202210855800.6在审
  • 肖燏萍;夏文彬;江志兴 - 华虹半导体(无锡)有限公司
  • 2022-07-19 - 2022-11-01 - G03F7/20
  • 本发明提供一种提升通孔工艺窗口的OPC方法,方法包括:提供一孔层图形,并从孔层图形中选出主目标通孔及次目标通孔;通过计算得到第一SRAF的最小缩短值及最大缩短值;根据最小缩短值及最大缩短值得到N种不同长度的第一SRAF,并将各第一SRAF添加于主目标通孔的一侧以得到N种不同添加方式下的SRAF层;于各SRAF层的整个孔层添加第二SRAF以得到N种目标层;将各目标层进行修正后模拟来获取主目标通孔及次目标通孔周边不同方位处的EPE值,以选择出第一SRAF的最佳添加方式。通过本发明解决了现有通孔因SRAF添加不合理导致其周围SRAF不一致或者EPE较大的问题。
  • 提升工艺窗口opc方法
  • [发明专利]CMOS图像传感器及其制造方法-CN202110345055.6有效
  • 肖燏萍;李佳龙;范晓 - 华虹半导体(无锡)有限公司
  • 2021-03-31 - 2022-08-16 - H01L27/146
  • 本发明公开了一种CMOS图像传感器,像素区的像素单元的光电二极管之间隔离有深沟槽隔离结构;光电二极管的N型区由形成于半导体衬底表面上的N型外延层组成,P型区由N型区底部的半导体衬底组成;N型外延层的厚度根据光电二极管的反偏时的耗尽区的深度要求值设置以实现对光电二极管进行纵向尺寸拓展;深沟槽隔离结构由形成于N型外延层中的深沟槽中的第一P型外延层、第二介质层和第三多晶硅层叠加而成。本发明还公开了一种CMOS图像传感器的制造方法。本发明能实现对光电二极管的反偏时的耗尽区深度进行精确调节并从而能对光电二极管进行纵向尺寸进行很好的拓展,同时能提高光电二极管之间的光学或电学隔离。
  • cmos图像传感器及其制造方法
  • [发明专利]一种D-A型TADF材料及其制备方法和应用-CN201910874617.9有效
  • 叶尚辉;项太;李洁;肖燏萍;周舟;黄维 - 南京邮电大学
  • 2019-09-16 - 2022-07-26 - C07D209/86
  • 本发明揭示了一种D‑A型TADF材料及其制备方法和应用,D‑A型TADF材料结构通式如下:其中,A表示受体单元,D表示供体单元,通过改变供体单元在受体单元二苯砜上的链接位置,分别有三个位置(m1,m2,m2’)和四个位置(m1,m2,m1’,m2’)的两种链接方式,可得到两种D‑A型TADF材料。该两种材料兼具有较高的荧光量子效率,良好的成膜性和形貌稳定性;其良好的载流子传输能力,有利于载流子的注入和传输;同时具有合适的HOMO、LUMO能级,使器件能级更加匹配。该材料在OLED中有良好的应用前景,该材料合成方法简单、可操作性强、合成成本低。
  • 一种tadf材料及其制备方法应用
  • [发明专利]一种稠环化合物及其合成方法和应用-CN201910302795.4有效
  • 叶尚辉;李洁;肖燏萍;张猛;项太;周舟;黄维 - 南京邮电大学
  • 2019-04-16 - 2021-09-07 - C07F5/02
  • 本发明公开了一种稠环化合物和合成方法,以及该稠环化合物作为发光材料在OLEDs中的应用。其结构通式如式(1)所示。取代基R1=氢原子、咔唑基、吩噻嗪基、吡啶基、喹喔啉基、氰基、卤原子、芴基、苯胺基、吖啶基、苊烯基、稠环基、吲哚基,n是1~4的整数;R2=氢原子、C1~C3烷基、取代或非取代的苯基;R3、R4=氢原子、C1~C3烷氧基、咔唑基、吡啶基,R3、R4相同或者不同;R5、R6=氢原子、C1~C3烷基、咔唑基、氰基、苯基,R5、R6相同或者不同。本发明的稠环化合物兼具热稳定性、高效率荧光发射特性;在OLEDs中有良好的应用前景,其发光效率和最大亮度都很高;本发明合成方法简单。
  • 一种环化及其合成方法应用
  • [发明专利]一种涂膜设备-CN201811047686.4有效
  • 陈雅茜;叶尚辉;肖燏萍;张猛;周舟;黄维 - 南京邮电大学
  • 2018-09-10 - 2021-03-12 - B05C5/02
  • 本发明公开了一种涂膜设备,其特征是,包括机架、样品台、监控模块和涂布头;所述涂布头、样品台均位于机架上;所述机架侧面设置有滑动模块;所述涂布头通过千分尺连接支撑座;所述支撑座与滑动模块相连接;沿所述滑动模块滑动方向,涂布头在样品台上进行涂膜;所述监控模块分别与机架和涂布头相连接;所述涂布头包括金属槽、出料孔、加压模块和压力显示及控制器;所述金属槽中部的槽设置为V型柱体;所述出料孔均匀分布在金属槽的底面,且与V型柱体连通;所述加压模块、压力显示及控制器均设置在金属槽顶部。本发明所达到的有益效果:本涂膜机可以一次涂膜、干燥、再涂膜、再干燥,实现多层涂膜,有利于制备多层薄膜器件。
  • 一种设备

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