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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]极紫外遮罩及其制造方法-CN201910818426.0有效
发明人：石志聪;简聪智;傅士奇;傅啟华;郑国堂;刘柏村;李宗泉 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-08-30 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： G03F1/22 文献下载
摘要：一种极紫外线遮罩及其制造方法。极紫外(extreme ultraviolet；EUV)遮罩包括：多层钼/硅堆叠、覆盖层及在覆盖层上的吸收体层。钼/硅堆叠包含安置于遮罩基板的第一主表面之上的交替的钼及硅层；覆盖层由钌制成并且安置在多层钼/硅堆叠之上。极紫外遮罩包括电路图案区域及粒子吸引区域，并且覆盖层在粒子吸引区域的图案的底部处暴露。
紫外及其制造方法

[发明专利]倍缩光罩容器及微影系统-CN202110569403.8在审
发明人：石志聪;简聪智;李宗泉;张皓翔 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2021-05-25 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： G03F1/66 文献下载
摘要：一种倍缩光罩容器及微影系统，倍缩光罩容器包含底座，包含第一表面；以及遮盖，包含第二表面，遮盖以第一表面朝向第二表面的方式耦合至底座。底座与遮盖形成包含倍缩光罩的内部空间。此倍缩光罩容器包含限制机构配置于内部空间中，以固定内部空间中的倍缩光罩与邻设于倍缩光罩的结构。此结构至少局部围绕倍缩光罩，且限制倍缩光罩容器的外部环境与内部空间之间的污染的通路。此结构包含阻障设于第一表面与第二表面上。在其他例子中，填料设置于阻障与第一表面及第二表面之间的间隙中。在其他例子中，此结构包含墙结构设于第一表面与第二表面上以及限制机构之间。
倍缩光罩容器系统

[发明专利]曝光方法-CN201911057025.4在审
发明人：石志聪;简聪智;李宗泉 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-10-31 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：曝光方法包括降低在极紫外(extreme ultraviolet；EUV)遮罩处或相邻于极紫外遮罩的环境的折射率至1.0以下。EUV遮罩为EUV微影系统，该EUV微影系统使用从辐射源发射的EUV辐射形成EUV辐射的投影光束。方法进一步包括将EUV遮罩曝光于EUV辐射的投影光束。
曝光方法

[发明专利]用于带电粒子光刻系统的装置-CN201410829755.2在审
发明人：王世奇;简聪智;黄晖闵;许照荣;林世杰;林本坚 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2014-12-26 - 公布日： 2016-03-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了用于带电粒子多束光刻系统的装置。该装置包括多个带电粒子双合透镜，每个双合透镜均具有第一孔径并且均配置为缩小入射在第一孔径上的细光束，从而产生缩小的细光束。该装置还包括多个带电粒子透镜，每个带电粒子透镜均与带电粒子双合透镜中的一个相关，每个带电粒子透镜均具有第二孔径，并且每个带电粒子透镜均配置为从相关的带电粒子双合透镜接受缩小的细光束并且实现以下两种状态中的一种：开启状态，其中允许缩小的细光束沿着期望的路径传输，以及关闭状态，其中阻止缩小的细光束沿着期望的路径传输。在实施例中，第一孔径大于第二孔径，从而改进带电粒子多束光刻系统中的粒子束效率。
用于带电粒子光刻系统装置

[发明专利]晶片边缘曝光模块及晶片边缘曝光方法-CN201010290341.9有效
发明人： 简聪智;陈永镇;李宏仁 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2010-09-20 - 公布日： 2011-08-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种晶片边缘曝光模块及晶片边缘曝光方法，该晶片边缘曝光模块连接至一半导体晶片涂布显影系统。该晶片边缘曝光模块包括一晶片旋转装置、一光学系统、一扫描机界面模块以及一控制器。该晶片旋转装置支持一晶片，以进行加工。该光学系统同时将一曝光光线指向该晶片的一各别边缘部分，以于该晶片的边缘上创造一伪图案。该扫描机界面模块通过一计算机网络传送及/或接收来自一扫描机的一伪边缘曝光信息。该控制器接收来自该扫描机界面模块的该伪边缘曝光信息，并利用该伪边缘曝光信息控制该光学系统。本发明可减少扫描机曝光时间及增加产率。
晶片边缘曝光模块方法

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