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[发明专利]等离子处理装置-CN201980005077.9有效
发明人：岩瀬拓;矶崎真一;横川贤悦;森政士;佐山淳一 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2019-07-29 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：为了能够使中心高的分布和节分布这两方独立地对等离子密度分布进行控制，针对处理的均匀性能够以更高精度对试料进行等离子处理，将等离子处理装置构成为具备：真空容器，试料被等离子处理；高频电源，提供用于生成等离子的高频电力；试料台，载置试料；和磁场形成部，使真空容器的内部形成磁场并被配置于真空容器的外侧，磁场形成部中具备：第1线圈；第2线圈，被配置于比第1线圈更靠内侧的位置且直径比第1线圈的直径小；第1磁轭，覆盖第1线圈、真空容器的上方以及侧面且第1线圈被配置于内部；和第2磁轭，沿着第2线圈的周方向覆盖第2线圈并在第2线圈的下方侧具有开口部。
等离子处理装置

[发明专利]等离子体处理装置-CN201810153827.4有效
发明人：岩濑拓;手束勉;矶崎真一;横川贤悦;森政士 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2018-02-22 - 公布日： 2021-03-12 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种等离子体处理装置，具备：处理室，配置于真空容器内部；样品台，配置于该处理室内部，在上表面放置处理对象的晶片；电介质制的圆板构件，在处理室上方与样品台上表面对置配置；圆板状的上部电极，面向样品台的一侧被圆板构件覆盖而配置，被提供用于形成用于在处理室内形成等离子体的电场的第1高频电力；线圈，覆盖处理室的上方和周围配置于真空容器的外部，产生用于形成等离子体的磁场；和下部电极，配置于样品台的内部，被提供用于在放置于样品台的晶片上形成偏置电位的第2高频电力，具备：环状的凹部，在圆板构件与上部电极之间形成于圆板构件一侧；和金属制的环状的构件，嵌入该环状的凹部并且与上部电极相接。据此，提升处理的成品率。
等离子体处理装置

[外观设计]等离子处理装置用环-CN201930195899.0有效
发明人： 矶崎真一;森政士;横川贤悦;荒濑高男;岩濑拓 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2019-04-25 - 公布日： 2019-11-01 - 主分类号： 08-08 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称：等离子处理装置用环。2．本外观设计产品的用途：本产品为一种等离子处理装置用环，其在半导体制造装置上使用，设置在气体流路上用于优化等离子形成空间。3．本外观设计产品的设计要点：如立体图所示内容最能体现本外观设计产品的设计要点。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图。5．在使用状态及示出各部名称参考图中，E‑等离子处理室，F‑电极头，G‑半导体晶圆，H‑绝缘环，I‑基座，J‑本外观设计产品，K‑环壳。
外观设计等离子处理装置半导体制造装置等离子形成空间等离子处理室半导体晶圆电极头绝缘环气体流环壳优化图片

[外观设计]等离子处理装置用电极板外周环-CN201830046523.9有效
发明人： 矶崎真一;森政士;横川贤悦;荒濑高男;桥本尊久 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2018-01-31 - 公布日： 2018-09-21 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称：等离子处理装置用电极板外周环。2．本外观设计产品的用途：如使用状态及示出各部名称参考图所示，本产品为在半导体制造的等离子处理装置中，设置在喷出气体的电极板外周附近的外周环。3．本外观设计产品的设计要点：本外观设计产品的形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图2。5．在使用状态及示出各部名称参考图中，F ‑硅片，G ‑等离子受光端口，H‑等离子处理装置用电极板，I‑本外观设计产品，J‑等离子处理装置用感受器，K‑本外观设计产品，L‑锥形部。
外观设计等离子处理装置用电极板外周环半导体制造等离子电极板感受器锥形部硅片喷出受光外周图片

[外观设计]等离子处理装置用电极板-CN201830046524.3有效
发明人： 矶崎真一;森政士;横川贤悦;荒濑高男;桥本尊久 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2018-01-31 - 公布日： 2018-09-21 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称：等离子处理装置用电极板。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于作为在半导体制造中等离子处理装置的气体喷出板上使用的电极板。3．本外观设计产品的设计要点：如立体图所示内容，最能体现本外观设计产品的设计要点。特别在于B部放大图中所示产品形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图。5．在使用状态及示出各部名称参考图中，E‑硅片，F‑等离子受光端口，G‑上部对侧电极，H‑本外观设计产品，I‑等离子处理装置用电极板外周环，J‑等离子处理装置用感受器。在各个示出透光及透明部参考图中，斜线所示的外环部具有透光性，中间灰色部分为透明。
外观设计等离子处理装置用电极板半导体制造产品形状侧电极等离子电极板感受器喷出板透光性透明部外环部外周环透光斜线硅片受光透明图片

[外观设计]等离子处理装置用基座-CN201830046879.2有效
发明人： 矶崎真一;森政士;横川贤悦;荒濑高男;酒井洋辅 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2018-01-31 - 公布日： 2018-09-21 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称：等离子处理装置用基座。2．本外观设计产品的用途：本产品为在半导体制造的等离子处理装置中，从等离子中保护试料台的基座。3．本外观设计产品的设计要点：本外观设计产品的形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图。5．在使用状态及示出各部名称参考图中，D‑硅片，E‑等离子受光端口，F‑等离子处理装置用电极板，G‑等离子处理装置用电极板外周环，H‑本外观设计产品。
外观设计等离子处理装置用电极板等离子半导体制造试料台外周环硅片受光图片

[发明专利]真空处理装置-CN201580001457.7有效
发明人：小川芳文;角谷匡规;矶崎真一;布村畅英 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2015-01-30 - 公布日： 2018-01-30 - 主分类号： B01J3/02 文献下载
摘要：本发明提供一种具备具有一对气阀的硬件互锁的气体供给单元的真空处理装置。本发明的真空处理装置具备气体供给部，该气体供给部使用常闭型的空气驱动阀来将用于进行真空处理的气体供给到进行所述真空处理的处理室中，该真空处理装置的特征在于，所述气体供给部具有在一对所述空气驱动阀中的一方开启的情况下一对所述空气驱动阀中的另一方关闭的互锁功能，且具备对用于驱动所述空气驱动阀的空气进行控制的空气电路，使用具有与一对所述空气驱动阀分别对应的螺线管的电磁阀来构成所述空气电路。
真空处理装置