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[发明专利]观察光学系统和显示装置-CN202310172349.2在审
发明人： 酒井洋辅 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2023-02-24 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：本公开涉及观察光学系统和显示装置。观察光学系统被配置为将来自显示设备的光引导至观察侧。观察光学系统包括具有第一半透射反射表面的透镜，以及与第一半透射反射表面相比更靠近显示设备部署的第二半透射反射表面。来自显示设备的光透射通过第二半透射反射表面、在第一半透射反射表面上反射、在第二半透射反射表面上反射、透射通过第一半透射反射表面，并且被引导到观察侧。第一半透射反射表面具有金属线微结构和偏振依赖性。金属线微结构的节距根据距透镜的光轴的高度而变化。
观察光学系统显示装置

[外观设计]等离子处理装置用基座-CN201830046879.2有效
发明人：矶崎真一;森政士;横川贤悦;荒濑高男;酒井洋辅 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2018-01-31 - 公布日： 2018-09-21 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称：等离子处理装置用基座。2．本外观设计产品的用途：本产品为在半导体制造的等离子处理装置中，从等离子中保护试料台的基座。3．本外观设计产品的设计要点：本外观设计产品的形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图。5．在使用状态及示出各部名称参考图中，D‑硅片，E‑等离子受光端口，F‑等离子处理装置用电极板，G‑等离子处理装置用电极板外周环，H‑本外观设计产品。
外观设计等离子处理装置用电极板等离子半导体制造试料台外周环硅片受光图片