专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种激光跟瞄定向发射试验系统及试验方法-CN202010522252.6在审
  • 杨武霖;武强;曹燕;田东波;张景川;陈川;张品亮;龚自正 - 北京卫星环境工程研究所
  • 2020-06-10 - 2020-09-08 - G02B17/08
  • 本申请公开了一种激光跟瞄定向发射试验系统及试验方法,所述试验系统包括方位和俯仰可调的旋转机构,承载于旋转机构中的激光引导单元和激光汇聚单元;激光引导单元包括若干反射镜,用于将入射的激光反射后引导至激光汇聚单元;激光汇聚单元包括一可动反射镜和一聚焦透镜,用于将入射的激光聚焦后输出光斑作用于目标对象,其中,可动反射镜的光轴与聚焦透镜的光轴在同一条直线上。本申请的试验系统能够用于在地面开展激光驱动微小目标飞行试验和激光驱动微小目标跟瞄实验,具有实时跟瞄、到靶激光能量密度可调的优势,并且本申请的试验系统没有当前已有微小目标激光跟瞄实验系统对入射激光能量的限制,避免了高能量密度入射激光对光路系统的损伤。
  • 一种激光定向发射试验系统方法
  • [发明专利]一种耐磨δ-TaN薄膜及其制备方法和应用-CN201811021251.2有效
  • 符立才;谭聘;周灵平;朱家俊;杨武霖;李德意 - 湖南大学
  • 2018-09-03 - 2020-06-02 - C23C14/06
  • 本发明涉及一种耐磨δ‑TaN薄膜及其制备方法和应用;属于耐磨材料设计制备技术领域。所述δ‑TaN薄膜的织构系数I(200)/[I(200)+I(111)]为0.2~0.8;所述薄膜的晶体结构为NaCl晶型的δ‑TaN。所述薄膜中,Ta/N的原子比约为0.72~1.33。其制备方法为:采用射频反应磁控溅射,以氮气和氩气作为工作气体、以钽靶为钽源,固定氮气和氩气的流量比;通过改变工作气压和/或钽靶功率来调控薄膜晶粒织构系数。所得薄膜的应用包括用作切割设备、电子封装的扩散阻挡层等。本发明开创了一种全新的调控薄膜晶粒织构系数的方法;所得产品性能优良,便于高精度、大规模的产生和应用。
  • 一种耐磨tan薄膜及其制备方法应用
  • [发明专利]一种超薄单晶NiCl2-CN201811387760.7有效
  • 符立才;林晓霞;周灵平;朱家俊;杨武霖;李德意 - 湖南大学
  • 2018-11-21 - 2020-04-17 - C30B29/12
  • 本发明涉及一种超薄单晶NiCl2纳米片及其制备方法和应用。所述纳米片厚度尺寸为2nm‑20nm;具有(003)晶面的择优取向。其制备方法为:首先,将六水合氯化镍置于管式炉中,在惰性气体保护下,脱水;然后,预处理的粉末置于洁净干燥的管式炉中,在惰性气体保护下升华,即可获得超薄单晶NiCl2纳米片。本发明所设计和制备的产品,其应用领域包括将其用于热电池正极材料、超级电容器、锂离子电池、钠离子电池及磁性材料中的至少一种。
  • 一种超薄niclbasesub
  • [发明专利]一种纳米多层膜及其制备方法-CN201711104256.7有效
  • 周灵平;谢添乐;符立才;杨武霖;朱家俊;李德意 - 湖南大学
  • 2017-11-10 - 2019-11-15 - C23C14/34
  • 本发明提供一种纳米多层膜及其制备方法,该制备方法采用真空溅射技术,溅射仪内设有样品台和溅射靶,至少两个溅射靶同时向同一样品台共同溅射沉积,其中,至少一个溅射靶的靶材为扩散元素,至少一个溅射靶的靶材为扩散阻挡元素或扩散阻挡化合物;当共同溅射沉积时,样品台自转。共沉积制备纳米多层膜时,两个或多个靶都是同时聚焦于同一样品台上,无需进行不同样品台间的切换即可制得多层膜。该方法效率高,成本较低。共沉积得到的是固溶体纳米多层膜,并非不同晶体结构的纯Cu和纯W膜机械的叠加,而是界面呈半共格或者共格关系,界面浸润,有利于提高薄膜的塑韧性及稳定性。
  • 一种纳米多层及其制备方法

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