专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]有源硅D2D桥-CN202310097479.4在审
  • 乔治斯·康斯塔迪尼迪斯;权云星;李在植;特克久·康;金鎭永;苏卡尔帕·比斯瓦斯;贺彪;沈柔政 - 谷歌有限责任公司
  • 2023-01-18 - 2023-04-04 - H10B80/00
  • 本公开涉及有源硅D2D桥。微电子系统可以包括:基底,其具有第一表面;一个或多个中介层,其安装到并且电气地连接到该第一表面;第一和第二专用集成电路(ASIC),其各自至少部分地覆盖并且电气地连接到中介层中的一个;多个高带宽存储器元件(HBM),其各自至少部分地覆盖并且电气地连接到中介层中的一个;以及有源硅桥,其安装到并且电气地连接到该第一表面,并在第一和第二ASIC之间提供电气连接,该有源硅桥在其中具有有源微电子器件。该微电子系统可以配置成使得第一和第二ASIC以及有源硅桥各自在其中具有纯数字CMOS接口。在ASIC和有源硅桥之间提供电气连接的多个凸块可以配置成接收通过其中的串行数据。
  • 有源d2d
  • [发明专利]覆晶堆叠的方法-CN201380036940.X有效
  • 权云星;苏芮戌·瑞玛林嘉 - 吉林克斯公司
  • 2013-04-11 - 2017-06-27 - H01L23/14
  • 一种覆晶堆叠的方法,其包含形成(201)一空腔晶圆(301),其包括多个空腔(303)以及一对转角导轨(305);放置(203)一直通硅穿孔(TSV)中介片在该空腔晶圆上,该TSV中介片具有被耦合至该TSV中介片的一表面的多个焊接凸块(107),使得该焊接凸块位于该多个空腔中,而该TSV中介片位于该对转角导轨之间;放置(205)一集成电路(IC)晶粒(109)在该TSV中介片的另一表面上,使得该IC晶粒、该TSV中介片、以及该焊接凸块会形成一已堆叠的中介片单元(113);从该空腔晶圆处移除(207)该已堆叠的中介片单元;以及将该已堆叠的中介片单元的该焊接凸块粘结(209)至一有机基板(101),使得该已堆叠的中介片单元与该有机基板会形成覆晶(300)。
  • 堆叠方法

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