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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]自由形式畸变校正-CN202310822557.2在审
发明人：塔纳·科斯坤;托马斯·L·莱蒂格;建峰·陈 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在一些实施方式中提供了打印并处理层的方法和系统。所述层可以在晶片上或在应用面板上。之后，测量实际打印并处理的特征的位置。基于这些特征的测量差异与设计位置之间的差异，创建至少一个畸变模型。反演每个畸变模型以创建相应的校正模型。当有多个区段时，可以为每个区段创建畸变模型和校正模型。可以组合多个校正模型以创建全局校正模型。
自由形式畸变校正

[发明专利]用于无掩模光刻技术的半色调方案-CN202080015262.9有效
发明人：克里斯多弗·丹尼斯·本彻;约瑟夫·R·约翰逊;托马斯·L·莱蒂格 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-01-24 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本文描述的实施方式提供光刻工艺的系统、软件应用、及方法，以在单程中写入全色调部分及灰色调部分。实施方式包括经构造以提供掩模图案数据至光刻系统的控制器。控制器经构造以通过至少灰色调组的空间光调制器像素和全色调组的空间光调制器像素来在空间上划分多个空间光调制器像素。当由控制器划分时，灰色调组的空间光调制器像素是可操作的，以将第一数量的多次发射投射至多个全色调曝光多边形及多个灰色调曝光多边形，而全色调组的空间光调制器像素是可操作的，以将第二数量的多次发射投射至多个全色调曝光多边形。
用于无掩模光刻技术色调方案

[发明专利]自适应替换图在数字光刻中用于进行局部单元格替换的用途-CN202080107422.2在审
发明人：阿拉文德·因姆普迪;托马斯·L·莱蒂格 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-12-17 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本文所述的实施方式涉及一种系统、软件和使用该系统编辑要由光刻系统打印的设计的方法。该系统和方法利用无掩模光刻装置的服务器。该服务器包括存储器。该存储器包括虚拟掩模文件。虚拟掩模文件包括单元格，并且所述单元格包括形成一个或多个多边形的子单元格。该服务器进一步包括耦接至存储器的控制器。控制器被配置为接收替换表。替换表包括替换虚拟掩模文件的单元格的指令。控制器进一步被配置为根据替换表用替换单元格替换单元格，以创建经编辑的虚拟掩模文件。
自适应替换数字光刻用于进行局部单元格用途

[发明专利]自由形式畸变校正-CN201880032584.7有效
发明人：塔纳·科斯坤;托马斯·L·莱蒂格;建峰·陈 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：在一些实施方式中提供了打印并处理层的方法和系统。所述层可以在晶片上或在应用面板上。之后，测量实际打印并处理的特征的位置。基于这些特征的测量差异与设计位置之间的差异，创建至少一个畸变模型。反演每个畸变模型以创建相应的校正模型。当有多个区段时，可以为每个区段创建畸变模型和校正模型。可以组合多个校正模型以创建全局校正模型。
自由形式畸变校正

[发明专利]用于空间光调制器的减少数据流的方法-CN201980039171.6有效
发明人：约瑟夫·R·约翰逊;托马斯·L·莱蒂格;克里斯多弗·丹尼斯·本彻 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-05-22 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式提供了使用固态发射器阵列的改进的光刻系统和方法。固态发射器阵列包括以行和列布置的固态发射器装置，其中每个固态发射器装置包括两个或更多个子像素。每个固态发射器装置包括一个程序栅极，其可将电压传送到状态存储节点。状态存储节点与驱动栅极电连通。驱动栅极与两个或更多个固态发射器子像素连通。与单个驱动栅极连通的多个子像素的布置允许多于一个脉冲被传送到驱动栅极，导致在每个驱动栅极处照射有多于一个子像素。冗余的结果是改善的数据效率。
用于空间调制器减少数据流方法

[发明专利]用于数字光刻的图像稳定化-CN202080099720.1在审
发明人： 托马斯·L·莱蒂格;克里斯多弗·丹尼斯·本彻 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-04-29 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开内容提供当存在包括子像素交叉扫描振动的交叉扫描振动时，用于校正从空间光调制器(SLM)到基板的图像的投射的方法和系统。这些方法和系统包括：偏移相对于基板上的横向扫描行进方向旋转的SLM上的掩模图案，沿着SLM的轴偏移以对交叉扫描振动进行校正，以及延迟或加速投射掩模图案到基板上。
用于数字光刻图像稳定

[发明专利]具有防闪耀DMD的分辨率增强的数字光刻-CN201780083540.2有效
发明人： 托马斯·L·莱蒂格;黄·J·郑 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-12-21 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式整体涉及用于处理一个或多个基板的方法和设备，并且更具体地涉及用于数字光刻系统的改善的空间光调制器和使用改善的空间光调制器的数字光刻方法。所述空间光调制器经构造以使得在相邻空间光调制器像素之间存在180度的相移。所述空间光调制器对于通过形成多个部分重叠的图像的像素混合是有用的，所述多个部分重叠的图像中的至少一个具有由其间具有180度相移的第一对相邻空间光调制器像素形成的至少两个像素。所述空间光调制器产生改善的分辨率、焦深和像素混合。
具有闪耀 dmd 分辨率增强数字光刻

[发明专利]用于无掩模光刻技术的半色调方案-CN202080015113.2在审
发明人：克里斯多弗·丹尼斯·本彻;约瑟夫·R·约翰逊;托马斯·L·莱蒂格 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-01-24 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本文描述的实施方式提供光刻工艺的系统、软件应用、及方法，以在单程中写入全色调部分及灰色调部分。系统的一个实施方式包括经构造以提供掩模图案数据至光刻系统的控制器。控制器经构造以通过多次发射中的灰色调发射及全色调发射，而在时间上划分多个空间光调制器像素，且控制器经构造以在变化由光源生成的光束的第二强度，并在全色调发射时变化由每个影像投射系统的光源生成的光束的第一强度。
用于无掩模光刻技术色调方案

[发明专利]适应性封装布局的动态生成-CN201980075424.5在审
发明人：乌韦·霍勒巴赫;托马斯·L·莱蒂格 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-08-28 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开内容的多个方面提供用于将导线连接(wiring connections)附接至部件的方法，通过使用部件的设计数据与场测量数据(field measured data)两者以制造精确的导线连接。
适应性封装布局动态生成

[发明专利]用于校正基板上的不均匀图像图案的方法、计算机系统和非暂时性计算机可读介质-CN202011563493.1在审
发明人： 托马斯·L·莱蒂格;约瑟夫·约翰逊;克里斯多弗·丹尼斯·本彻 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-08-08 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开一种与在制造工艺中将无掩模光刻图案施加到基板的能力有关的图像校正应用。本文所述的实施方式涉及软件应用平台，所述软件应用平台校正基板上的不均匀图像图案。应用平台方法包括：禁用DMD中的至少一整列镜，其中DMD具有多个列，每个列具有多个镜；将基板的第一部分曝光于第一电磁辐射范围；将基板的第二部分曝光于第二电磁辐射范围；并且重复将基板的第二部分曝光于第二范围，直至基板被完全地处理。
用于校正基板上不均匀图像图案方法计算机系统暂时性计算机可读介质

[发明专利]预备空间光调制器区段以解决场不均匀性-CN201980052865.3在审
发明人：约瑟夫·R·约翰逊;托马斯·L·莱蒂格;克里斯多弗·丹尼斯·本彻 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-07-02 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式总体提供使用数字微镜装置(DMD)的改进的光刻系统和方法。DMD包括与基板相对设置的微镜的列和行。光束从微镜反射至基板上，产生图案化基板。微镜的列和行的某些子集可定位至“关闭”位置，使得这些子集废弃光，以便校正图案化基板中的均匀性误差，即，比期望的大的特征。类似地，微镜的列和行的某些子集可默认为“关闭”位置并且选择性地允许这些子集返回到它们的编程位置，以便校正图案化基板中的均匀性误差，即，比期望的小的特征。
预备空间调制器区段解决不均匀

[发明专利]偏移图案以减少线波动-CN201980039094.4在审
发明人：约瑟夫·R·约翰逊;克里斯多弗·丹尼斯·本彻;托马斯·L·莱蒂格 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-05-15 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本案描述的实施方式提供了一种在数字光刻工艺期间偏移掩模图案数据的方法，以减少曝光图案的线波动。所述方法包括将具有多个曝光多边形的掩模图案数据提供给数字光刻系统的处理单元。处理单元具有多个图像投射系统，其接收掩模图案数据。每个图像投射系统对应于基板的多个部分的一部分，并接收对应于所述部分的曝光多边形。在多个图像投射系统下扫描基板，且在偏移掩模图案数据时将多个发射投射到所述多个部分。多个发射的每个发射在对应于所述部分的曝光多边形内。
偏移图案减少波动

[发明专利]用于校正基板上的不均匀图像图案的方法、计算机系统和非暂时性计算机可读介质-CN201680064756.X有效
发明人： 托马斯·L·莱蒂格;约瑟夫·约翰逊;克里斯多弗·丹尼斯·本彻 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-08-08 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开一种与在制造工艺中将无掩模光刻图案施加到基板的能力有关的图像校正应用。本文所述的实施方式涉及软件应用平台，所述软件应用平台校正基板上的不均匀图像图案。应用平台方法包括：禁用DMD中的至少一整列镜，其中DMD具有多个列，每个列具有多个镜；将基板的第一部分曝光于第一电磁辐射范围；将基板的第二部分曝光于第二电磁辐射范围；并且重复将基板的第二部分曝光于第二范围，直至基板被完全地处理。
用于校正基板上不均匀图像图案方法计算机系统暂时性计算机可读介质

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