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[发明专利]薄膜沉积设备和薄膜沉积系统-CN201080067349.7无效
发明人： 姜敞晧;权铉九;玄在根 -专利权人： SNU精密股份有限公司
申请日： 2010-06-14 - 公布日： 2013-05-08 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种薄膜沉积设备，该薄膜沉积设备使得基板和沉积掩膜的布置/对准时间的处理等待时间最短。为此，所述薄膜沉积设备包括：室，该室具有反应空间；第一基板保持件和第二基板保持件，在所述室中，在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件之间设置有用于接收基板的空间；沉积源，该沉积源设置在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件之间，以向所述第一基板保持件和所述第二基板保持件供应沉积材料；以及固定单元，当所述基板被接收在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件中时，该固定单元将所述第一基板保持件和所述第二基板保持件放置在所述室中的预定位置。因而，能够实现基板和掩膜的稳定对准。
薄膜沉积设备系统

[发明专利]有机半导体制造设备-CN201080067316.2有效
发明人： 姜敞晧;权铉九;崔虎重;金正镇 -专利权人： SNU精密股份有限公司
申请日： 2010-06-14 - 公布日： 2013-02-13 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：提供了一种有机半导体制造设备，该有机半导体制造设备使透明基底和喷射单元之间的距离最小化以阻止沉积材料沉积到任何毗邻的传感器上。为此，有机半导体制造设备包括暴露部和传感单元，暴露部形成在传送单元的至少一部分中，以向外排出通过传送单元传送的沉积材料中的一部分，传感单元设置为毗邻暴露部，以测量通过暴露部排出的沉积材料的量。由此，可以阻止从毗邻的分配单元喷射的沉积材料沉积到传感单元上。此外，可以准确地测量从传送单元传送的沉积材料的量。因此，可以提高在测量沉积到透明基底上的沉积材料的厚度方面的可靠性。
有机半导体制造设备

[发明专利]薄膜沉积装置及其系统-CN201080020337.9有效
发明人：裵勍彬;尹亨硕;姜敞晧 -专利权人：韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2010-05-06 - 公布日： 2012-04-18 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明揭示一种薄膜沉积装置，包含：传送室，用以传送基板；以及第一制程室及第二制程室，分别连接至所述传送室的两侧，所述第一制程室与所述第二制程室分别均包含：第一基板固定器及第二基板固定器，被配置成相互间隔开；以及喷射单元，设置于所述第一基板固定器与所述第二基板固定器之间，用以依序供应沉积原料至所述第一基板固定器与所述第二基板固定器。本发明同时揭示一种包含所述装置的薄膜沉积系统。本发明的装置具有多个用以执行相同制程的制程室，所述多个制程室分别连接至每一传送室的两侧，故可同时对多个基板执行薄膜制程，借此改良处理速度。
薄膜沉积装置及其系统

[发明专利]基板处理系统-CN201080021214.7有效
发明人：裵勍彬;尹亨硕;姜敞晧;韩坰录;南宫晟泰;李泰成 -专利权人：韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2010-05-10 - 公布日： 2012-04-18 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理系统，更详细而言，涉及一种具有一污染防止单元的基板处理系统，污染防止单元用以防止在将一基板涂覆以有机化合物工艺期间因有机化合物的散布而污染一腔室的内部。根据本发明的基板处理系统包含一涂覆模块以及一固化模块。涂覆模块包含一喷射单元以及一泵，喷射单元用以喷射有机化合物至一腔室中的基板并安装有一冷却板，冷却板与基板间隔开并形成有一供一冷却剂在其中循环的冷却路径，以防止未涂覆于基板的有机化合物散布，泵安装有一冷阱，位于腔室的一外侧下部，泵经一泵连接管连接至喷射单元，泵连接管于其纵向地延伸方向相交的一方向形成有分支部分或弯曲部分；固化模块用以经由一紫外线灯辐射紫外线至涂覆有机化合物的基板，并包含一加热盘管以加热安装于基板与紫外线灯间的一透射窗口。
处理系统

[发明专利]原料供应单元、薄膜沉积装置及沉积薄膜的方法-CN201080019359.3有效
发明人： 姜敞晧;南宫晟泰;鲁俊瑞;赵晃新;尹亨硕;裵勍彬 -专利权人：韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2010-04-23 - 公布日： 2012-04-11 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明提供一种原料供应单元、一种包含所述原料供应单元的薄膜沉积装置、以及一种沉积一薄膜的方法。所述原料供应单元包含：一液化部，用以液化一原料；一蒸发部，与所述液化部连通，用以蒸发所述已液化原料；以及一喷射器，与所述蒸发部连通，用以喷射所述已蒸发原料。所述液化部包含：一罐，具有一圆柱形状，用以储存所述原料；一活塞部，插入至所述罐的一侧，用以排放所述原料；以及一液化加热部，用以加热所述罐，以液化所述原料。于一固体原料被液化之后，自所述原料蒸发并供应一必要的部分，进而获得一较大的原料热量并使为蒸发及供应所述原料所耗用的热量最小化。
原料供应单元薄膜沉积装置方法

[发明专利]用于沉积薄膜的装置、方法及系统-CN201080015804.9有效
发明人：裵勍彬;尹亨硕;姜敞晧;权铉九 -专利权人：韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2010-03-30 - 公布日： 2012-03-07 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种用于沉积一薄膜的装置、一种适用于所述装置的用于沉积一薄膜的方法、以及一种包含所述装置的用于沉积一薄膜的系统，所述装置包含：一腔室，用以提供一反应空间；一第一基板支架及一第二基板支架，彼此间隔开并安装于所述腔室中；以及一沉积源，安装于所述第一基板支架与所述第二基板支架之间，且用以于所述第一基板支架与所述第二基板支架的方向依序供应一沉积原料。根据本发明，因可透过设置于各所述工艺腔室中的单个沉积源对设置于各所述工艺腔室中的二或更多条生产线依序执行薄膜工艺，故可节约制造成本并同时提高生产率。
用于沉积薄膜装置方法系统

[发明专利]蒸镀装置、薄膜沉积装置及提供原料予其装置的方法-CN201080004944.6有效
发明人：尹亨硕;孙成官;姜敞晧;权铉九 -专利权人：韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2010-01-13 - 公布日： 2011-12-14 - 主分类号： H01L21/203 文献下载
摘要：本发明提供一种蒸镀装置以及一种薄膜沉积装置及其原料填充方法。该薄膜沉积装置包括：一腔室，具有一内部空间；一基板传送构件，用以固定一基板并在该内部空间内移动该基板；以及数个蒸镀构件，用以供应一沉积原料至该基板，其中各该蒸镀构件被设置成容许其中央延伸线与移动的该基板的一表面形成一锐角。因此，可经由利用这些蒸镀构件沿相对于该基板倾斜的一方向提供蒸发的原料至该基板而形成一薄膜于该基板上，并经由选择性地控制仅一其原料已用尽的蒸镀构件而在不关闭整个装置的条件下填充该原料。
装置薄膜沉积提供原料方法

[发明专利]沉积仪器及利用该沉积仪器的沉积方法-CN200980135093.6有效
发明人： 姜敞晧;权铉九;南宫晟泰;孙成官 -专利权人：韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2009-09-01 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： H01L21/203 文献下载
摘要：一传送腔室，连接至处理腔室；一基板承放部件，位于该处理腔室中，以承放一基板；一沉积源，面对该基板承放部件并储存一来源材料；以及一厚度测量部件，安装于该传送腔室中，以直接测量形成于该基板上的一沉积层的一实际厚度。利用采用该厚度测量部件的该沉积仪器可直接测量及监测该沉积层的实际厚度。因此，通过实时地监测该沉积层的实际厚度并修正用于控制该沉积层的实际厚度的沉积控制厚度，可准确地控制该沉积层的一厚度，进而可提高制作于该基板的一器件的可靠性及良率。
沉积仪器利用方法

[发明专利]沉积材料供应装置及包含所述沉积材料供应装置的基板处理装置-CN200980146469.3无效
发明人：尹亨硕;崔上和;孙成官;姜敞晧;权铉九;南宫晟泰;韩垧录 -专利权人：韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2009-11-13 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种沉积材料供应装置及一种包含所述沉积材料供应装置的基板处理装置，所述沉积材料供应装置不使所述有机材料劣化的条件下储存大量有机材料并汽化所需量的所述有机材料至基板。所述沉积材料供应装置包含：槽，其中储存空间与汽化空间互相连通，所述储存空间填充有原材料，所述原材料于所述汽化空间中汽化；运送单元，用以连续地或周期性地运送填充于所述储存空间中的所述原材料至所述汽化空间；加热单元，设置于所述槽的所述汽化空间的外侧，用以供应使所述原材料汽化的热量；以及冷却单元，设置于所述储存空间的外侧，以防止储存于所述储存空间中的所述原材料出现热劣化。
沉积材料供应装置包含处理

[发明专利]用于蒸发的掩模，包括该掩模的掩模框架组件，及其制造方法-CN03145465.8有效
发明人： 姜敞晧;金兑承 -专利权人：三星日本电气移动显示株式会社
申请日： 2003-05-31 - 公布日： 2004-02-04 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：用于蒸发的掩模框架组件，包括掩模和支撑掩模的框架。掩模包括有一层预定图形的金属层，和为提高预定图形精度和掩模表面粗糙度形成在金属层表面上的一层涂层。
用于蒸发包括框架组件及其制造方法

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