[发明专利]薄膜沉积装置及其系统有效

专利信息
申请号: 201080020337.9 申请日: 2010-05-06
公开(公告)号: CN102421933A 公开(公告)日: 2012-04-18
发明(设计)人: 裵勍彬;尹亨硕;姜敞晧 申请(专利权)人: 韩商SNU精密股份有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/24
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 骆希聪
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明揭示一种薄膜沉积装置,包含:传送室,用以传送基板;以及第一制程室及第二制程室,分别连接至所述传送室的两侧,所述第一制程室与所述第二制程室分别均包含:第一基板固定器及第二基板固定器,被配置成相互间隔开;以及喷射单元,设置于所述第一基板固定器与所述第二基板固定器之间,用以依序供应沉积原料至所述第一基板固定器与所述第二基板固定器。本发明同时揭示一种包含所述装置的薄膜沉积系统。本发明的装置具有多个用以执行相同制程的制程室,所述多个制程室分别连接至每一传送室的两侧,故可同时对多个基板执行薄膜制程,借此改良处理速度。
搜索关键词: 薄膜 沉积 装置 及其 系统
【主权项】:
一种薄膜沉积装置,其特征在于,包含:传送室,用以在其中传送基板;以及第一制程室及第二制程室,分别连接至所述传送室的两侧,所述第一制程室与所述第二制程室分别包含:第一基板固定器及第二基板固定器,被配置成相互间隔开;以及喷射单元,设置于所述第一基板固定器与所述第二基板固定器之间,用以依序供应沉积材料至所述第一基板固定器与所述第二基板固定器。
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  • 2018-11-15 - 2019-09-20 - C23C14/56
  • 本实用新型公开了一种基片加热传输装置,包括:加热板,设置在基片载板的下表面;隔热背板,设置在所述加热板的下方;夹紧件,将所述基片载板、加热板和隔热背板夹持固定;传输组件,与所述夹紧件相连,用于驱动所述夹紧件移动。本实用新型提供的基片加热传输装置,通过设置加热板与基片载板直接接触,通过热传导的方式实现对基片载板的加热,通过设置夹紧件和传输组件使基片在加热的过程中被传输,从而能对基片持续地加热,避免了在基片被传输的过程中产生热量的损失,提高了基片加热的均匀性,并提高了太阳能电池产品的质量。
  • 连续真空镀膜装置及镀膜系统-201822059569.1
  • 王君;郭爱云;汪友林 - 沈阳爱科斯科技有限公司
  • 2018-12-07 - 2019-09-17 - C23C14/56
  • 本申请涉及真空镀膜技术领域,尤其是涉及一种连续真空镀膜装置及镀膜系统,一种连续真空镀膜装置,包括:运送机构、进片室、镀膜室、出片室和传送机构;进片室与所述镀膜室之间设置有第一竖推式插板阀,镀膜室与所述出片室之间设置有第二竖推式插板阀,运送机构至少设置有两个,其中至少一个运送机构用于将待镀件输送至进片室内,其中至少另一个运送机构用于将已镀件由出片室输送到外部;进片室的顶部、镀膜室的顶部与所述出片室的顶部均设置有传送机构。本申请可实现对工件在相邻真空室内的传送,自动化成都高,生产效率高。
  • 一种可实现织物连续镀膜的生产线-201810177527.X
  • 王银川;余荣沾;刘琼溪;张欣;梁媛;尹华平 - 广东欣丰科技有限公司
  • 2018-03-05 - 2019-09-13 - C23C14/56
  • 一种可实现织物连续镀膜的生产线,按照工艺流程包括放卷室,真空沉积室和收卷室,其中,所述放卷室包括真空除气室和烘烤室,所述真空室包括上盖可打开的腔室,可移动取出的放卷轴,驱动电机,观察窗,位于放卷轴下游的导辊,冷却盘管,抽气口,充气口及真空测量探头;所述烘烤室包括:烘烤箱,抽气口,烘烤箱外部设置的冷却盘管,温度测量探头,真空测量探头,烘烤箱外设置的导辊。本发明提供的生产线,解决了不能采用真空沉积方法在织物上沉积膜层的问题,可实现织物上沉积膜层的连续化大生产。
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