“韩商SNU精密股份有限公司”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果13个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]用于形成薄膜的大容量沉积设备-CN201210120364.4无效
发明人：宋基哲;赵晃新;郑胜哲;安佑正 -专利权人： 韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2012-04-13 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明揭示了一种用于形成薄膜的大容量沉积设备，所述设备包括：多个源容器，待沉积于衬底上的源材料以固态或液态容纳于所述多个源容器中；蒸发室，所述蒸发室在所述源容器上方与所述源容器耦合并连通，且来自所述源容器的已蒸发源材料穿过所述蒸发室；喷孔，所述喷孔形成于所述蒸发室的顶部上并向上喷射穿过所述蒸发室的所述已蒸发源材料；第一加热器，所述第一加热器在所述蒸发室内部提供于所述源容器上方并供热给所述源容器以蒸发容纳于所述源容器中的所述源材料；传感器，所述传感器安装在所述蒸发室中并感测穿过所述蒸发室的已蒸发源材料的量；和控制器，所述控制器从所述传感器获得关于所述蒸发室中的已蒸发源材料的量的反馈并控制从源容器蒸发的源材料的量。
用于形成薄膜容量沉积设备

[发明专利]用于供应材料的设备-CN201210120337.7无效
发明人：郑胜哲;赵晃新;宋基哲;安祐正 -专利权人： 韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2012-04-13 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明揭示一种用于供应材料的设备，所述设备蒸发将要作为薄膜沉积在衬底上的源材料，且所述设备将经蒸发源材料供应到面向衬底的喷射孔，所述设备包括：源容器，将要沉积在衬底上的源材料以固态或液态容纳在源容器中；蒸发室，蒸发室包括用于将源容器安装在其中的内部空间，且来自源容器的经蒸发源材料通过蒸发室；第一加热器，第一加热器提供在位于蒸发室内的源容器上方，且第一加热器将热供应到源容器，以蒸发容纳在源容器中的源材料；以及传递单元，传递单元使第一加热器和源容器中的一者在与另一者接近或与另一者远离的方向上往复运动。
用于供应材料设备

[发明专利]用于形成薄膜的沉积设备-CN201210120348.5无效
发明人：赵晃新;宋基哲;郑胜哲;安祐正 -专利权人： 韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2012-04-13 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明揭示了一种用于形成薄膜的沉积设备，所述设备包括：源容器，待沉积于衬底上的源材料以固态或液态容纳于所述源容器中；蒸发室，所述蒸发室在所述源容器上方耦接所述源容器并与所述源容器相通，且从所述源容器蒸发的源材料穿过所述蒸发室；喷孔，所述喷孔形成于所述蒸发室的顶部上且向上喷射穿过所述蒸发室的所述蒸发源材料；第一加热器，所述第一加热器提供于所述蒸发室或所述源容器内部的所述源材料上方且向所述源材料供应热量以蒸发容纳于所述源容器中的所述源材料；以及阻挡板，所述阻挡板提供于所述蒸发室内部的所述第一加热器上方，且在所述第一加热器向所述源材料供应热量时防止容纳于所述源容器中的所述源材料或外来杂质飞溅和附着到所述喷孔。
用于形成薄膜沉积设备

[发明专利]汽化装置及其控制方法-CN201080060061.7有效
发明人：徐承彻;孔斗源;李锺夏;李璟范;郑成在;赵晃新 -专利权人： 韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2010-12-24 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明揭示一种汽化装置及其控制方法，包含：汽化坩埚（vaporization crucible），用以容置原料；汽化加热单元，用以藉由加热所述汽化坩埚而汽化所述原料；温度量测单元，用以量测所述汽化坩埚的温度；功率量测单元，用以量测所述汽化加热单元的施加功率；以及控制单元，用以根据所述温度量测单元的温度变化值与所述功率量测单元的功率变化值其中之任一者，控制所述原料的汽化量。所述汽化装置使用非接触式/电子方法，所述非接触式/电子方法藉由原料的汽化期间的温度变化值与功率变化值而量测汽化量。因此，因不同于接触式方法，汽化量量测单元并不直接接触原料气体，故可供应各种原料并可达成大量原料供应或长时间原料供应而不会使功能劣化。另外，因所述电子方法能够精确地量测汽化量，故可提高原料供应的精确度。
汽化装置及其控制方法

[发明专利]基板处理装置及方法-CN201080046511.7有效
发明人：朴昞慜;孔斗源;孙成官;赵晃新;郑成在;朴喜载 -专利权人： 韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2010-10-04 - 公布日： 2012-09-12 - 主分类号： H01L21/20 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置及一种基板处理方法，其能够防止基板受热并有效地收集残余沉积材料。该基板处理装置包括：一腔室单元，包括一内部空间，该内部空间被划分成一引入段、一薄膜形成段及一卸出段；至少一个材料喷嘴单元，设置于该腔室单元的该薄膜形成段中，用以喷射一沉积材料至所传送的一基板；以及一冷却板单元，设置成围绕该腔室单元的该薄膜形成段并适以冷却该薄膜形成段的内部。此外，该基板处理装置更包括至少一个冷阱单元，该至少一个冷阱单元设置于该材料喷嘴单元的一下部，用以收集由该材料喷嘴单元喷射的全部沉积材料中未沉积于基板上而遗留的残余沉积材料。
处理装置方法

[发明专利]薄膜沉积装置及其系统-CN201080020337.9有效
发明人：裵勍彬;尹亨硕;姜敞晧 -专利权人： 韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2010-05-06 - 公布日： 2012-04-18 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明揭示一种薄膜沉积装置，包含：传送室，用以传送基板；以及第一制程室及第二制程室，分别连接至所述传送室的两侧，所述第一制程室与所述第二制程室分别均包含：第一基板固定器及第二基板固定器，被配置成相互间隔开；以及喷射单元，设置于所述第一基板固定器与所述第二基板固定器之间，用以依序供应沉积原料至所述第一基板固定器与所述第二基板固定器。本发明同时揭示一种包含所述装置的薄膜沉积系统。本发明的装置具有多个用以执行相同制程的制程室，所述多个制程室分别连接至每一传送室的两侧，故可同时对多个基板执行薄膜制程，借此改良处理速度。
薄膜沉积装置及其系统

[发明专利]基板处理系统-CN201080021214.7有效
发明人：裵勍彬;尹亨硕;姜敞晧;韩坰录;南宫晟泰;李泰成 -专利权人： 韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2010-05-10 - 公布日： 2012-04-18 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理系统，更详细而言，涉及一种具有一污染防止单元的基板处理系统，污染防止单元用以防止在将一基板涂覆以有机化合物工艺期间因有机化合物的散布而污染一腔室的内部。根据本发明的基板处理系统包含一涂覆模块以及一固化模块。涂覆模块包含一喷射单元以及一泵，喷射单元用以喷射有机化合物至一腔室中的基板并安装有一冷却板，冷却板与基板间隔开并形成有一供一冷却剂在其中循环的冷却路径，以防止未涂覆于基板的有机化合物散布，泵安装有一冷阱，位于腔室的一外侧下部，泵经一泵连接管连接至喷射单元，泵连接管于其纵向地延伸方向相交的一方向形成有分支部分或弯曲部分；固化模块用以经由一紫外线灯辐射紫外线至涂覆有机化合物的基板，并包含一加热盘管以加热安装于基板与紫外线灯间的一透射窗口。
处理系统

[发明专利]原料供应单元、薄膜沉积装置及沉积薄膜的方法-CN201080019359.3有效
发明人：姜敞晧;南宫晟泰;鲁俊瑞;赵晃新;尹亨硕;裵勍彬 -专利权人： 韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2010-04-23 - 公布日： 2012-04-11 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明提供一种原料供应单元、一种包含所述原料供应单元的薄膜沉积装置、以及一种沉积一薄膜的方法。所述原料供应单元包含：一液化部，用以液化一原料；一蒸发部，与所述液化部连通，用以蒸发所述已液化原料；以及一喷射器，与所述蒸发部连通，用以喷射所述已蒸发原料。所述液化部包含：一罐，具有一圆柱形状，用以储存所述原料；一活塞部，插入至所述罐的一侧，用以排放所述原料；以及一液化加热部，用以加热所述罐，以液化所述原料。于一固体原料被液化之后，自所述原料蒸发并供应一必要的部分，进而获得一较大的原料热量并使为蒸发及供应所述原料所耗用的热量最小化。
原料供应单元薄膜沉积装置方法

[发明专利]用于沉积薄膜的装置、方法及系统-CN201080015804.9有效
发明人：裵勍彬;尹亨硕;姜敞晧;权铉九 -专利权人： 韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2010-03-30 - 公布日： 2012-03-07 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种用于沉积一薄膜的装置、一种适用于所述装置的用于沉积一薄膜的方法、以及一种包含所述装置的用于沉积一薄膜的系统，所述装置包含：一腔室，用以提供一反应空间；一第一基板支架及一第二基板支架，彼此间隔开并安装于所述腔室中；以及一沉积源，安装于所述第一基板支架与所述第二基板支架之间，且用以于所述第一基板支架与所述第二基板支架的方向依序供应一沉积原料。根据本发明，因可透过设置于各所述工艺腔室中的单个沉积源对设置于各所述工艺腔室中的二或更多条生产线依序执行薄膜工艺，故可节约制造成本并同时提高生产率。
用于沉积薄膜装置方法系统

[发明专利]原料供应单元、用于供应原料的方法以及薄膜沉积装置-CN201080015828.4无效
发明人：裵勍彬;魯俊瑞;赵晃新;权眞焕;李锺夏;金猷泫;尹亨硕 -专利权人： 韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2010-03-26 - 公布日： 2012-02-29 - 主分类号： H01L21/203 文献下载
摘要：本发明提供一种原料供应单元和一种用于供应原料的方法。所述原料供应单元包括：罐，用以存储原材料；喷射器，与所述罐连通，用以喷射自所述罐蒸发的所述原材料；高频线圈部件，环绕于所述罐的外侧；以及电阻型加热部件，设置于所述喷射器的外侧。由于将高频感应加热方法和电阻型加热方法结合起来对拟供应的原材料进行蒸发，所以可以使用大量的原材料，并且薄膜的厚度和质量可易于控制。
原料供应单元用于方法以及薄膜沉积装置

[发明专利]蒸镀装置、薄膜沉积装置及提供原料予其装置的方法-CN201080004944.6有效
发明人：尹亨硕;孙成官;姜敞晧;权铉九 -专利权人： 韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2010-01-13 - 公布日： 2011-12-14 - 主分类号： H01L21/203 文献下载
摘要：本发明提供一种蒸镀装置以及一种薄膜沉积装置及其原料填充方法。该薄膜沉积装置包括：一腔室，具有一内部空间；一基板传送构件，用以固定一基板并在该内部空间内移动该基板；以及数个蒸镀构件，用以供应一沉积原料至该基板，其中各该蒸镀构件被设置成容许其中央延伸线与移动的该基板的一表面形成一锐角。因此，可经由利用这些蒸镀构件沿相对于该基板倾斜的一方向提供蒸发的原料至该基板而形成一薄膜于该基板上，并经由选择性地控制仅一其原料已用尽的蒸镀构件而在不关闭整个装置的条件下填充该原料。
装置薄膜沉积提供原料方法

[发明专利]沉积仪器及利用该沉积仪器的沉积方法-CN200980135093.6有效
发明人：姜敞晧;权铉九;南宫晟泰;孙成官 -专利权人： 韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2009-09-01 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： H01L21/203 文献下载
摘要：一传送腔室，连接至处理腔室；一基板承放部件，位于该处理腔室中，以承放一基板；一沉积源，面对该基板承放部件并储存一来源材料；以及一厚度测量部件，安装于该传送腔室中，以直接测量形成于该基板上的一沉积层的一实际厚度。利用采用该厚度测量部件的该沉积仪器可直接测量及监测该沉积层的实际厚度。因此，通过实时地监测该沉积层的实际厚度并修正用于控制该沉积层的实际厚度的沉积控制厚度，可准确地控制该沉积层的一厚度，进而可提高制作于该基板的一器件的可靠性及良率。
沉积仪器利用方法

[发明专利]沉积材料供应装置及包含所述沉积材料供应装置的基板处理装置-CN200980146469.3无效
发明人：尹亨硕;崔上和;孙成官;姜敞晧;权铉九;南宫晟泰;韩垧录 -专利权人： 韩商SNU精密股份有限公司
申请日： 2009-11-13 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种沉积材料供应装置及一种包含所述沉积材料供应装置的基板处理装置，所述沉积材料供应装置不使所述有机材料劣化的条件下储存大量有机材料并汽化所需量的所述有机材料至基板。所述沉积材料供应装置包含：槽，其中储存空间与汽化空间互相连通，所述储存空间填充有原材料，所述原材料于所述汽化空间中汽化；运送单元，用以连续地或周期性地运送填充于所述储存空间中的所述原材料至所述汽化空间；加热单元，设置于所述槽的所述汽化空间的外侧，用以供应使所述原材料汽化的热量；以及冷却单元，设置于所述储存空间的外侧，以防止储存于所述储存空间中的所述原材料出现热劣化。
沉积材料供应装置包含处理

1
共 13 条