专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体装置及电力变换装置-CN202310433327.7在审
  • 原田健司;曾根田真也 - 三菱电机株式会社
  • 2023-04-21 - 2023-10-27 - H01L27/02
  • 提供使半导体装置的散热性提高的半导体装置。还涉及电力变换装置。半导体装置具有如下特征,即,在俯视观察时具有IGBT区域(10)及二极管区域(20)各自被以直线状交替地配置的交替区域,在由俯视观察时沿交替区域的第1方向上的宽度各自具有大于或等于2种的IGBT区域(10)及二极管区域(20)构成的单元区域中,在交替区域,最靠近单元区域的中心的IGBT区域(10a)的第1方向上的宽度小于或等于其它IGBT区域(10)的第1方向上的宽度,最靠近单元区域的中心的二极管区域(20a)的第1方向上的宽度小于或等于其它二极管区域(20)的第1方向上的宽度。
  • 半导体装置电力变换
  • [发明专利]半导体装置的制造方法-CN202310822279.0在审
  • 曾根田真也;原田健司;中田洋辅 - 三菱电机株式会社
  • 2019-01-14 - 2023-09-22 - H01L21/285
  • 本发明的目的在于提供一种半导体装置的制造方法,该半导体装置的制造方法能够兼顾热应力环境下的半导体装置的可靠性以及制造工序中的组装性的提高。在半导体装置的制造方法中,在半导体基板的一个主面,通过将第1导电膜堆积、图案化,从而形成第1电极,在第1电极之上,形成与第1电极所具有的图案对应的第1金属膜,在半导体基板的另一个主面,通过将第2导电膜堆积,从而形成第2电极,在第2电极之上,形成比第1金属膜薄的第2金属膜,分别在第1金属膜之上以及第2金属膜之上通过非电解镀而一起形成第3金属膜。
  • 半导体装置制造方法
  • [发明专利]半导体装置的制造方法-CN201910031363.4有效
  • 曾根田真也;原田健司;中田洋辅 - 三菱电机株式会社
  • 2019-01-14 - 2023-06-13 - H01L21/285
  • 本发明的目的在于提供一种半导体装置的制造方法,该半导体装置的制造方法能够兼顾热应力环境下的半导体装置的可靠性以及制造工序中的组装性的提高。在半导体装置的制造方法中,在半导体基板的一个主面,通过将第1导电膜堆积、图案化,从而形成第1电极,在第1电极之上,形成与第1电极所具有的图案对应的第1金属膜,在半导体基板的另一个主面,通过将第2导电膜堆积,从而形成第2电极,在第2电极之上,形成比第1金属膜薄的第2金属膜,分别在第1金属膜之上以及第2金属膜之上通过非电解镀而一起形成第3金属膜。
  • 半导体装置制造方法
  • [外观设计]轨道盘玩具-CN202130227338.1有效
  • 高城雄太;原田健司 - 株式会社多美
  • 2021-04-20 - 2023-04-07 - 21-01
  • 1.本外观设计产品的名称:轨道盘玩具。2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于形态可变化的轨道盘玩具,并且可与其他轨道玩具连接使用。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图1。5.参考图1~3中施加红色的部分为透明;使用状态参考图中,A为盖部,B为门部,C为轨道部,D为主体部,E和F为其他轨道玩具。
  • 轨道玩具
  • [发明专利]排出玩具-CN202110546283.X在审
  • 高城雄太;原田健司 - 株式会社多美
  • 2021-05-19 - 2022-08-30 - A63H17/44
  • 本发明提供一种在排出汽车玩具时演出效果高的排出玩具。排出玩具具备螺旋状斜坡和包围螺旋状斜坡的围绕体,在螺旋状斜坡上设置有卡止最下方的所述汽车玩具而阻止汽车玩具的移动的卡止部,多台汽车玩具能够沿着轨道载置,在围绕体上设置有将汽车玩具向外部排出的第一排出口,并且在通过旋转而第一排出口与所述螺旋状斜坡的下端部一致时,解除基于所述卡止部的卡止而使汽车玩具从第一排出口排出。
  • 排出玩具
  • [发明专利]半导体装置及半导体装置的制造方法-CN202210071008.1在审
  • 池田宗谦;新田哲也;原田健司 - 三菱电机株式会社
  • 2022-01-21 - 2022-07-26 - H01L29/06
  • 提供抑制了耐压降低的半导体装置及半导体装置的制造方法。IGBT区域(10)具有:n型载流子积蓄层(2),其与n型漂移层(1)接触而设置于n型漂移层(1)的第1主面(1a)侧,与n型漂移层(1)相比n型杂质浓度高;p型基极层(15),其设置于n型载流子积蓄层(2)和1主面(1a)之间;n+型的发射极层(13),其选择性地设置于p型基极层(15)的表层部;以及栅极电极(11a),其设置为隔着绝缘膜与n+型发射极层(13)及p型基极层(15)相对,二极管区域(20)具有p型阳极层(25),其设置于n型漂移层(1)和第1主面(1a)之间,并设置于距离第1主面(1a)的深度比n型载流子积蓄层(2)和n型漂移层(1)的边界深的位置为止。
  • 半导体装置制造方法
  • [发明专利]半导体装置-CN202111105778.5在审
  • 曾根田真也;原田健司;大塚翔瑠 - 三菱电机株式会社
  • 2021-09-22 - 2022-04-01 - H01L29/08
  • 本发明涉及半导体装置,其目的在于,在RC‑IGBT中确保动作区域,并且降低恢复损耗。在RC‑IGBT(100、101)的俯视观察时,边界区域(50)的单位面积中的n+型源极层(13)的占有比率比IGBT区域(10)的单位面积中的n+型源极层(13)的占有比率小,边界区域(50)的单位面积中的p+型接触层(14)的占有比率比IGBT区域(20)的单位面积中的p+型接触层(14)的占有比率小。
  • 半导体装置
  • [发明专利]半导体装置-CN202110836558.3在审
  • 原田健司;大塚翔瑠;大木博文 - 三菱电机株式会社
  • 2021-07-23 - 2022-02-18 - H01L29/739
  • 本发明提供减少元件损坏的半导体装置。半导体装置包含半导体基板、晶体管区域、二极管区域、边界沟槽栅极以及载流子控制区域。边界沟槽栅极设置于晶体管区域与二极管区域之间的边界部。载流子控制区域被作为半导体基板的表层而设置于比位于边界沟槽栅极与沟槽栅极之间的源极层更靠近边界沟槽栅极处。该载流子控制区域所包含的第1导电型的杂质浓度比源极层所包含的第1导电型的杂质浓度高,或者,该载流子控制区域所包含的第2导电型的杂质浓度比源极层所包含的第2导电型的杂质浓度低。
  • 半导体装置

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