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[发明专利]照明光学系统、曝光装置及组件制造方法-CN201710727064.5有效
发明人：田中裕久;大木裕史;中岛伸一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2012-10-18 - 公布日： 2020-09-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种照明光学系统、曝光装置及组件制造方法，能够形成具有所需的光束剖面的光瞳强度分布。利用来自光源的光对被照射面进行照明的照明光学系统包括：空间光调变器，包括排列于规定面上且被个别地控制的多个光学组件，将光强度分布可变化地形成于照明光学系统的照明光瞳；发散角赋予构件，配置于包含与规定面成光学共轭的面的共轭空间内，对入射光束赋予发散角而射出；以及偏光构件，配置于规定面的附近位置或共轭空间，使经由光路传播的传播光束中的一部分光束的偏光状态发生变化。
照明光学系统曝光装置组件制造方法

[发明专利]照明系统、曝光装置及制造、图像形成、照明与曝光方法-CN201710727062.6有效
发明人：田中裕久;大木裕史;中岛伸一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2012-10-18 - 公布日： 2020-02-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种照明光学系统、曝光装置及组件制造、图像形成、照明与曝光方法，能够形成具有所需的光束剖面的光瞳强度分布。利用来自光源的光对被照射面进行照明的照明光学系统包括：空间光调变器，包括排列于规定面上且被个别地控制的多个光学组件，将光强度分布可变化地形成于照明光学系统的照明光瞳；发散角赋予构件，配置于包含与规定面成光学共轭的面的共轭空间内，对入射光束赋予发散角而射出；以及偏光构件，配置于规定面的附近位置或共轭空间，使经由光路传播的传播光束中的一部分光束的偏光状态发生变化。
照明系统曝光装置制造图像形成方法

[发明专利]照明光学系统、曝光装置及组件制造方法-CN201280064004.5有效
发明人：田中裕久;大木裕史;中岛伸一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2012-10-18 - 公布日： 2017-09-19 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种照明光学系统、曝光装置及组件制造、图像形成、照明与曝光方法，能够形成具有所需的光束剖面的光瞳强度分布。利用来自光源的光对被照射面进行照明的照明光学系统包括空间光调变器，包括排列于规定面上且被个别地控制的多个光学组件，将光强度分布可变化地形成于照明光学系统的照明光瞳；发散角赋予构件，配置于包含与规定面成光学共轭的面的共轭空间内，对入射光束赋予发散角而射出；以及偏光构件，配置于规定面的附近位置或共轭空间，使经由光路传播的传播光束中的一部分光束的偏光状态发生变化。
照明光学系统曝光装置以及组件制造方法

[发明专利]成像设备和程序-CN201280017763.6有效
发明人：福武直树;中岛伸一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2012-01-30 - 公布日： 2017-06-16 - 主分类号： G02B21/14 文献下载
摘要：一种成像设备（100），其包括成像单元（80），其对检测对象成像；分析单元（202），其输出由成像单元捕获的图像特征量；存储单元（206），其存储评估函数，该评估函数具有作为用于图像评估的变量的图像特征量；选择单元（203），其从包括基于评估函数的值所指定的图像的两个或更多个图像中选择一个图像；以及改变单元（204），其基于在其中由选择单元所选择的一个图像与指定图像不同的情况中的一个图像来改变评估函数。
成像设备程序

[发明专利]显微镜系统、服务器和程序-CN201280017713.8有效
发明人：福武直树;中岛伸一;太平博久 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2012-01-30 - 公布日： 2016-11-30 - 主分类号： G02B21/12 文献下载
摘要：一种显微镜系统（100），其包括用于观察检测对象的显微镜（30至80）和被连接到该显微镜的计算机（20）。显微镜（30至80）包括：照明光学系统（40），其在预定的照明条件下照明检测对象；成像光学系统（70），其形成检测对象的图像；以及图像传感器（80），其输出图像信号。该计算机（20）包括：图像分析单元（202），其基于由图像传感器检测的图像信号来获取检测对象的图像特征量；比较单元（205），其比较检测对象的图像特征量与多个样本检测对象的图像特征量，并且指定最接近检测对象的图像特征量的样本检测对象的图像特征量；以及设定单元（212），其基于适用于具有由比较单元指定的图像特征量的样本检测对象的观察的照明状态，来设定照明光学系统的照明条件。
显微镜系统服务器程序

[发明专利]电子装置-CN201080062838.3有效
发明人： 中岛伸一;关口政一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2010-11-22 - 公布日： 2016-11-02 - 主分类号： G06F3/01 文献下载
摘要：随着在电子装置搭载复杂的功能，使用者应设定的菜单项目、想要参照的引导项目的数量变得庞大。有时使用者从显示在显示部的这些分类的菜单项目、引导项目中查找想要设定的菜单、想要参照的引导来构成层次结构。因此，提供一种电子装置，具备：处理部，进行处理；显示部，进行显示；以及控制部，当获取了使用者的生物体信息的变化时，使显示部显示作为与处理部的处理有关的设定画面以及引导画面中的至少一个的显示画面。
电子装置

[发明专利]显微镜系统-CN201280021356.2有效
发明人：福武直树;矢泽洋纪;中山繁;中岛伸一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2012-01-25 - 公布日： 2014-01-22 - 主分类号： G02B21/14 文献下载
摘要：一种相位对比显微镜系统，该系统包含：照明光学系统，其采用来自光源的照明光照明样本；成像光学系统，其从来自样本的光形成样本的图像;第一空间调制元件，其布置在成像光学系统的光瞳位置处并且改变来自样本的光振幅透射率分布；图像传感器，其检测由成像光学系统所形成的样本的图像并且输出图片信号；计算部件，其基于由图像传感器检测到的输出数据以及由第一空间调制元件形成的来自样本的光振幅透射率分布来计算适合用于观察样本的来自样本的光振幅透射率分布。
显微镜系统

[发明专利]图像处理装置以及图像处理方法-CN201110305655.6在审
发明人： 中岛伸一;斋藤郁哉 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2011-09-29 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： G06K9/34 文献下载
摘要：本发明提供一种图像处理装置以及图像处理方法。本发明的图像处理装置的特征在于，具备：检测单元，检测相对于图像设定的多个基准区域中满足预定条件的基准区域，作为适当区域；确定单元，确定所述多个基准区域中除所述适当区域以外的基准区域的相邻状态；以及区域分割单元，基于由所述确定单元确定的除去所述适当区域以外的基准区域的相邻状态，对所述图像包含的每个构成要素进行区域分割。
图像处理装置以及方法

[发明专利]位置信息测量方法及装置、和曝光方法及装置-CN200480014713.8无效
发明人： 中岛伸一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-05-27 - 公布日： 2006-06-28 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种可用散射测量或反射测量简单求取两个标记的相对位置偏差信息的位置信息测量方法。在晶片(W)上以间隔P1预先形成标记(25A)，在其上的中间层(27)上以不同于间距P1的间距P2形成标记(28A)。使检出光(DL)垂直入射晶片(W)，按照波长仅将来自两个标记(25A、28A)的正反射光(22)进行分光后进行光电转换。从获得的检出信号求出各波长的反射率，按照标记(25A、28A)在测量方向(X方向)上的各个位置求出预定波长上的反射率，根据求出的反射率分布求出由两个标记(25A、28A)重合而形成的波纹图形的形状，根据其形状求出标记(28A)的位置偏差量。
位置信息测量方法装置曝光方法

[发明专利]位置探测法和装置、曝光法和设备、控制程序以及器件制造法-CN01817611.9无效
发明人： 中岛伸一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2001-10-19 - 公布日： 2004-01-21 - 主分类号： G01B21/00 文献下载
摘要：移动多个在观察坐标系上具有预定的彼此位置关系的区域的同时，根据观察单元观察目标的结果，重合度计算单元根据给定的区域间对称性计算多个区域的观察结果部分中至少一对观察结果部分的区域间重合度(步骤151－160)，并且位置信息计算单元通过获得多个区域的位置而获得目标的位置信息，其中在该位置处做为观察坐标系中多个区域的位置的函数的区域间重合度例如取最大值(步骤161)。结果，精确地探测到目标的位置信息。
位置探测装置曝光设备控制程序以及器件制造

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