专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]共阴极LED阵列芯片结构以及电子设备-CN202321162796.1有效
  • 郝茂盛;张楠;马艳红;刘利;艾进保 - 上海芯元基半导体科技有限公司
  • 2023-05-15 - 2023-10-03 - H01L33/36
  • 本实用新型提供了一种共阴极LED阵列芯片结构以及电子设备,包括:衬底以及设置于衬底表面沿第一方向环状排列的第一芯片结构、第一芯片单元、第二芯片单元和第三芯片单元;其中,在衬底上,仅第一芯片单元、第二芯片单元、第三芯片单元以及第一芯片结构包括N型外延层,或仅第一芯片单元、第二芯片单元以及第三芯片单元包括N型外延层;以使得第一芯片结构、第一芯片单元、第二芯片单元以及第三芯片单元相互隔离;其中,所述N型外延层具有第一台阶结构;通过第一金属空气桥将芯片单元与芯片结构中的金属层互连,以解决芯片单元之间光束串扰的问题。
  • 阴极led阵列芯片结构以及电子设备
  • [实用新型]一种Micro LED显示器件和Micro LED芯片-CN202320295743.0有效
  • 郝茂盛;袁根如;陈朋;徐志伟;马后永;韦慧 - 上海芯元基半导体科技有限公司
  • 2023-02-23 - 2023-09-08 - H01L33/38
  • 本实用新型提供了一种MicroLED显示器件和MicroLED芯片,其中,MicroLED显示器件包括MicroLED芯片和CMOS驱动芯片,MicroLED芯片包括依次堆叠的第一绝缘层、第一ITO膜层以及所述MicroLED芯片与CMOS驱动芯片键合后分割出的若干像素点,第一绝缘层中分布多个P电极金属柱,CMOS驱动芯片包括若干正电极金属层,每一正电极金属层分别与若干的P电极金属柱电连接,以使MicroLED芯片与CMOS驱动芯片键合;若干像素点间隔设置在第一ITO膜层上,正电极金属层与像素点一一对应设置。MicroLED芯片在与CMOS驱动芯片做像素对准键合工艺时,在像素点分割出来之前,先通过多个P电极金属柱与CMOS驱动芯片进行无差别的粗对准键合,因此,对准精度要求可以降低至200μm,大大降低了像素对准键合工艺的制作难度。
  • 一种microled显示器件芯片
  • [实用新型]倒装薄膜芯片结构-CN202320110383.2有效
  • 郝茂盛;张楠;马艳红;刘利;艾进宝;袁根如;陈朋 - 上海芯元基半导体科技有限公司
  • 2023-01-19 - 2023-07-18 - H01L21/60
  • 本实用新型公开了一种倒装薄膜芯片结构,包括:第一芯片模块、第二芯片模块以及键合模块;第一芯片模块包括:第一衬底、若干第一P电极以及第一N电极;所述第二芯片模块与所述第一P电极以及第一N电极键合;第二芯片模块包括:基板、绝缘层、第一连接端子以及第二连接端子;所述基板内设有若干通孔且通孔内填充第一金属材料;所述通孔的第一端与所述第一P电极以及第一N电极一一对应连接;且所述若干第一P电极连接的通孔的第二端通过第二金属材料相连通,所述绝缘层内设有贯穿所述绝缘层的第一金属通道以及第二金属通道;所述第一金属通道与所述第一金属材料连接;所述第二金属通道与连接了所述第一N电极的通孔的第二端相连接。
  • 倒装薄膜芯片结构
  • [实用新型]垂直薄膜芯片结构-CN202320114788.3有效
  • 郝茂盛;张楠;马艳红;刘利;艾进宝;袁根如;陈朋 - 上海芯元基半导体科技有限公司
  • 2023-01-19 - 2023-07-18 - H01L21/60
  • 本实用新型提供了一种垂直薄膜芯片结构,该芯片结构包括:基板、第一芯片模块、连接端子以及绝缘层;其中,所述第一芯片模块包括:第一衬底、若干第一P电极以及第一N电极;所述若干第一P电极以及第一N电极位于所述第一衬底的第一面,所述连接端子与所述第一N电极的第一面相连接;所述第一N电极的第二面与所述绝缘层的第一面相连接,所述绝缘层的第二面与所述基板相连接;所述绝缘层内设置有若干第一键合结构,所述第一键合结构贯穿所述绝缘层;所述若干第一P电极的第一面通过所述若干第一键合结构实现与所述基板的键合;所述绝缘层上设置有第二键合结构,所述第二N电极通过所述第二键合结构实现与外部金属键合。
  • 垂直薄膜芯片结构
  • [实用新型]具备空气桥结构的阵列micro芯片-CN202320131005.2有效
  • 郝茂盛;陈朋;袁根如;张楠;魏帅帅;马后永;马艳红;杨磊 - 上海芯元基半导体科技有限公司
  • 2023-01-13 - 2023-06-23 - H01L27/15
  • 本实用新型提供了一种具备空气桥结构的阵列micro芯片,包括:阵列芯片N电极;若干LED像素单元,所述LED像素单元与所述N电极相连接,每个LED像素单元均包括N型外延层、MQW层和P型外延层,所述N型外延层具有第一台阶;若干金属空气桥,所述金属空气桥覆盖在LED像素单元的N型外延层的侧壁上以及连接在所述相邻两个N电极之间;金属反射层;绝缘层,所述绝缘层填充在所述金属空气桥上;金属微结构,所述金属微结构形成在LED像素单元的N型外延层的第一台阶上且所述金属微结构连接所述金属空气桥,以使得所有的LED像素单元通过所述金属微结构与所述金属空气桥实现与所述N电极的电性连接;阵列芯片P电极;金属键合层以及导电衬底。
  • 具备空气结构阵列micro芯片
  • [发明专利]一种非平面结构外延层及其芯片结构的制备方法-CN202310060677.3在审
  • 郝茂盛;袁根如;陈朋;马后永 - 上海芯元基半导体科技有限公司
  • 2023-01-18 - 2023-05-23 - H01L33/00
  • 本发明提供了一种非平面结构外延层及其芯片结构的制备方法,该方法包括:提供一复合衬底,其中,复合衬底包括第一衬底以及形成在第一衬底上的图形化层,图形化层包括周期性排布的若干第一结构;生长第一外延层,第一外延层形成于周期性排布的若干第一结构之间的间隙中,且填满间隙;生长第二外延层,第二外延层形成于第一外延层上,且控制第二外延层的纵向生长速率,以使得第二外延层具有若干生长顶峰;且控制第二外延层的横向生长速率,以使得第二外延层相邻的生长顶峰之间形成横向闭合低谷;且横向闭合低谷的高度低于生长顶峰;按照第二外延层的形状,在第二外延层的表面依次生长N型外延层、发光层、P型外延层。
  • 一种平面结构外延及其芯片制备方法
  • [发明专利]LED芯片的制作方法、LED芯片、设备的制作方法以及设备-CN202211398271.8在审
  • 郝茂盛;岑岗;陈朋 - 上海芯元基半导体科技有限公司
  • 2022-11-09 - 2023-04-04 - H01L25/075
  • 本发明提供了一种LED芯片的制作方法,包括:形成键合有临时转移衬底的若干LED芯片模组结构;LED芯片模组结构包括:依次堆叠的N型外延层、发光层以及P型外延层;所述临时转移衬底键合于所述P型外延层上;提供第一基板;所述第一基板包括若干第一基板单元;第一基板单元包括N电极和P电极;将所述LED芯片模组结构中的所述N型外延层与对应所述第一基板单元键合,同时去除所述临时转移衬底,以将所述若干LED芯片模组结构整体转移到所述第一基板上;将每个所述LED芯片模组结构中的所述P型外延层与对应的所述P电极电性连接,所述N型外延层与对应的所述N电极电性连接;对所述若干LED芯片模组进行整体封装。
  • led芯片制作方法设备以及

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