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[发明专利]水性组合物、使用其的不锈钢表面的粗糙化处理方法、以及粗糙化不锈钢的制造方法-CN202180083613.4在审
发明人：池田和彦;藤井智子;松永裕嗣 -专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C23F1/28 文献下载
摘要：提供水性组合物，其对不锈钢的表面通过少的工序进行充分且高效的粗糙化，并且处理后的不锈钢的厚度等品质保持良好。上述课题通过如下的用于对不锈钢的表面进行粗糙化的水性组合物解决。即水性组合物中：以水性组合物的总量计，包含0.1～10质量％的过氧化氢；以水性组合物的总量计，包含1～30质量％的卤化物离子；以水性组合物的总量计，包含0～3质量％的铜离子。
水性组合使用不锈钢表面粗糙处理方法以及制造

[发明专利]电子材料用钼酸锌铵水合物、电子材料用树脂组合物、预浸料、树脂片、层叠板、覆金属箔层叠板和印刷电路板-CN202180003952.7有效
发明人：工藤博章;高村达郎;志田典浩 -专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2021-05-25 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C08K3/28 文献下载
摘要：一种电子材料用钼酸锌铵水合物，其具有下述化学式所示的结构。(H3O)(NH4)Zn2Mo2O9。
电子材料钼酸水合物树脂组合预浸料层叠金属印刷电路板

[发明专利]多环化合物-CN201980068352.1有效
发明人：白武宗宪;石原健太朗;广瀬晃司;池田慎也;加藤宣之;近藤光辉;村田章子;大岛健辅;F·施托尔茨 -专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2019-10-18 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C07C39/23 文献下载
摘要：本发明涉及式(I)的化合物，其适合作为用于制备具有有益光学特性的热塑性树脂的单体，并且可用于制造光学装置：其中A1、A2选自单环或双环芳基和单环或双环杂芳基，X表示例如单键、O、NH、CR6R7，Y例如不存在或表示单键、O、NH、CR8R9；R1、R2是氢、Ar’基团或Ra基团；R3是Aik、O‑Alk’‑、O‑Alk’‑[0‑Alk’]0、0‑CH2‑Ar‑C(0)‑、0‑C(0)‑Ar‑C(0)‑或O‑Alk‑C(O)‑，其中在后五个部分中左边的O分别结合至A1和A2，m、n是0、1或2；o是1至10的整数；R4、R5例如选自CN和Ra基团；R6、R8例如选自氢、Ar’基团和Ra基团；R7、R9例如选自氢、C1‑C4‑烷基和Ar’基团；Ra选自C≡C‑R11和Ar‑C≡C‑R11；R11例如选自氢、甲基、具有6‑26个碳原子的单环或多环芳基和具有总共5‑26个作为环成员的原子的单环或多环杂芳基，其中杂芳基的环原子中的1、2、3或4个选自氮、硫和氧，而这些原子中的其余原子是碳原子，其中单环或多环芳基未被取代或被取代；且Ar是例如亚苯基或亚萘基。本发明还涉及包括式(I)的化合物的聚合单元的热塑性树脂，以及由这种树脂制成的光学装置。
环化

[发明专利]树脂组合物、平板状成型体、多层体、成型品及成型品的制造方法-CN202180085240.4在审
发明人：山口圆 -专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社;MGC菲尔须特股份有限公司
申请日： 2021-12-03 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： B32B27/30 文献下载
摘要：本发明提供一种可以提供能抑制裂纹的产生且不易出现流痕的多层体的树脂组合物，以及采用了上述树脂组合物的平板状成型体、多层体及成型品。该树脂组合物包含含有(甲基)丙烯酸化合物单元和芳香族乙烯基化合物单元的树脂，该树脂组合物中的上述(甲基)丙烯酸化合物单元和芳香族乙烯基化合物单元的合计为55质量％以上，通过差示扫描量热法测得的树脂组合物的初始玻璃化转变温度(Tig)在135℃以上，将树脂组合物成型为3mm厚的ISO试验片时的无缺口夏比冲击强度为10.0kJ/m2以上，无缺口夏比冲击强度是在JIS K 7111‑1中将ISO试验片的厚度从4mm变更为3mm，除此以外同样地进行而测得的值，树脂组合物在240℃、1220秒﹣1的剪切速度下的熔融粘度为500Pa·s以下。
树脂组合平板成型多层制造方法

[发明专利]化合物、聚合物、组合物、膜形成用组合物、图案的形成方法、绝缘膜的形成方法及化合物的制造方法-CN202180086595.5在审
发明人：大松祯;冈田悠;小熊威;松本正裕;新美结士;越后雅敏 -专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2021-12-21 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： C07C39/373 文献下载
摘要：提供能得到曝光灵敏度优异的抗蚀剂的、化合物、聚合物、组合物、膜形成用组合物、图案形成方法、绝缘膜的形成方法及化合物的制造方法。下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，RA为氢原子、甲基或三氟甲基，RX为ORB或氢原子，RB为取代或未取代的碳数1～30的烷基，P为羟基、烷氧基、酯基、缩醛基、羧基烷氧基、碳酸酯基、硝基、氨基、羧基、硫醇基、醚基、硫醚基、膦基、膦酸基、氨基甲酸酯基、脲基、酰胺基、酰亚胺基或磷酸基。)
化合物聚合物组合形成图案方法绝缘制造

[发明专利]氧化塔和具备氧化塔的过氧化氢制造装置-CN201810126750.1有效
发明人：茂田耕平;池田英俊 -专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2018-02-08 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： C01B15/023 文献下载
摘要：本发明提供至少能够防止在最下侧的小氧化塔的下部积累过氧化氢的氧化塔、以及使用该氧化塔的过氧化氢制造装置。本发明涉及在通过蒽醌法制造过氧化氢时用于使工作溶液和空气接触的氧化塔(10)。氧化塔(10)包括沿上下方向连结的三个小氧化塔(12a～12c)。至少最下侧的小氧化塔(12c)构造成使工作溶液和空气逆流接触。剩余的小氧化塔(12a、12b)构造成使工作溶液和空气并流接触。
氧化塔具备过氧化氢制造装置

[发明专利]双酰亚胺苯酚化合物-CN202280005998.7有效
发明人：引地达也;若原大晖;大西展义 -专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2022-03-07 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C08G73/10 文献下载
摘要：下述通式(1)所示的双酰亚胺苯酚化合物。(通式(1)中，R1和R2各自独立地表示氢原子、羟基或碳数1～10的有机基团，R1和R2中的2个以上为羟基，n各自独立地为1～5的整数。)
亚胺苯酚化合物

[发明专利]芳香族腈化合物的制造方法和碳酸酯的制造方法-CN201780077926.2有效
发明人：原田英文;新开洋介;刘红玉;矶部刚彦;伊佐早祯则 -专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2017-11-30 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C07D213/84 文献下载
摘要：本发明提供一种能够在从芳香族酰胺化合物向对应的芳香族腈化合物的再生中进行抑制副产物的产生、高收率且高选择性地得到目标化合物的脱水反应的方法。还提供一种减少该脱水反应的工序数，并且即使在接近于常压的压力下，也大幅度改善反应速度的芳香族腈化合物的制造方法。进而将上述制造方法应用于碳酸酯的制造方法，实现高效的碳酸酯的制造方法。本发明利用如下的芳香族腈化合物的制造方法解决上述的课题，该制造方法包括对芳香族酰胺化合物进行脱水的脱水反应，在上述脱水反应中，溶剂使用1,2‑二甲氧基苯、1,3‑二甲氧基苯和1,3,5‑三甲氧基苯中的任意种。
芳香族化合物制造方法碳酸

[发明专利]不锈钢表面的粗糙化处理方法、粗糙化不锈钢制造方法、及这些方法中使用的水性组合物-CN202180083201.0在审
发明人：池田和彦;藤井智子;松永裕嗣 -专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： C22C38/00 文献下载
摘要：提供充分地并且以少的工序有效率地使不锈钢的表面粗糙化、并且良好地保持处理后的不锈钢的表面品质的粗糙化处理方法等。上述的课题通过具有使用第1水性组合物的粗糙化处理工序和使用第2水性组合物的后处理工序的不锈钢的粗糙化处理方法来解决。即，一种粗糙化处理方法，其中，粗糙化处理工序为：使第1水性组合物与含有铜或离子化倾向比铜大的金属的不锈钢的表面接触而进行粗糙化处理的工序，第1水性组合物中，以第1水性组合物的总量基准计，包含0.1～20质量％的过氧化氢，以第1水性组合物的总量基准计，包含0.25～40质量％的铜离子，以第1水性组合物的总量基准计，包含1～30质量％的卤化物离子，后处理工序为：在酸性条件下使第2水性组合物与在粗糙化处理工序中进行了处理的不锈钢的表面接触而进行后处理的工序，第2水性组合物至少包含过氧化物。
不锈钢表面粗糙处理方法制造这些使用水性组合

[发明专利]二氧化碳吸收剂-CN202180084536.4在审
发明人：河野和起;川岛裕贵 -专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2021-12-14 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C01B32/50 文献下载
摘要：一种二氧化碳吸收剂，其包含具有脂环式烃结构的多胺化合物(A)，所述多胺化合物(A)的含量为60质量％以上。
二氧化碳吸收剂

[发明专利]环氧树脂组合物、阻气性薄膜和层叠体-CN202080056687.4有效
发明人：河野和起;桥本凌马 -专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2020-07-13 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C09D163/00 文献下载
摘要：一种环氧树脂组合物、使用了该环氧树脂组合物的阻气性薄膜和层叠体，所述环氧树脂组合物含有：环氧树脂、包含胺系固化剂的环氧树脂固化剂、和酸性化合物，前述环氧树脂组合物中的碱性氮的摩尔当量与源自前述酸性化合物的酸基的摩尔当量之比(碱性氮/酸基)为0.10～3.0。
环氧树脂组合气性薄膜层叠

[发明专利]感光性聚酰亚胺树脂组合物、树脂膜和电子装置-CN202180080165.2在审
发明人：佐藤由实;宫原大治;梅木美穗 -专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2021-11-10 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： C08F290/06 文献下载
摘要：一种感光性聚酰亚胺树脂组合物，其包含已闭环聚酰亚胺树脂(A)和多官能自由基聚合性化合物(B)，所述已闭环聚酰亚胺树脂(A)具有下述式(1)所示的结构，且重均分子量为70,000以下，所述多官能自由基聚合性化合物(B)具有4个以上且100个以下的自由基聚合性官能团。
感光性聚酰亚胺树脂组合电子装置

[发明专利]凹部蚀刻液、凹部蚀刻方法及表面处理过的半导体基板的制造方法-CN202180081678.5在审
发明人：冈部哲;尾家俊行;安谷屋智幸;本望圭纮;陈重伊;王舶纮 -专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2021-12-06 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： C23F1/28 文献下载
摘要：本发明涉及，在半导体基板的制造工艺中，用于对金属布线实施凹部蚀刻的凹部蚀刻液及使用它的凹部蚀刻方法。本发明的凹部蚀刻液用于对含钴金属层的表面实施凹部蚀刻，所述含钴金属层埋入在半导体基板上形成的通孔或沟槽内，所述凹部蚀刻液包含：(A)有机酸；(B)含氮杂环式化合物及(C)有机溶剂中的任一者或二者；和(D)水。另外，本发明的凹部蚀刻方法包括：凹部蚀刻工序，其使前述凹部蚀刻液与含钴金属层的表面接触，从而对前述含钴金属层的表面实施凹部蚀刻，所述含钴金属层埋入在半导体基板上形成的通孔或沟槽内。
蚀刻方法表面处理半导体制造

[发明专利]树脂、树脂的制造方法、固化性树脂组合物及固化物-CN202180056485.4在审
发明人：鱼谷拓矢;高野与一;印南享;伊藤祥一;芳仲聪;铃木美香;荻原雅司;冈弘明 -专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2021-07-02 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： C08F299/02 文献下载
摘要：提供介电特性优异的新型树脂、以及树脂的制造方法、固化性树脂组合物及固化物。具有组(1)所述的结构单元的树脂。R1各自独立地表示亚甲基、亚甲基氧基、亚甲基氧基亚甲基或氧基亚甲基。R2及R3各自独立地表示卤素原子、碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为1～10的卤代烷基、碳原子数为1～10的羟基烷基或碳原子数为6～12的芳基。R4、R5及R6各自独立地表示氢原子、卤素原子、碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为1～10的卤代烷基、羟基、碳原子数为1～10的羟基烷基或碳原子数为6～12的芳基。
树脂制造方法固化组合

[发明专利]多环多酚树脂、组合物、多环多酚树脂的制造方法、膜形成用组合物、抗蚀剂组合物、抗蚀图案形成方法、辐射敏感组合物、光刻用下层膜形成用组合物、光刻用下层膜的制造方法、电路图案形成方法、及光学构件形成用组合物-CN202180060882.9在审
发明人：松浦耕大;堀内淳矢;牧野岛高史;越后雅敏 -专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2021-07-15 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G03F7/023 文献下载
摘要：一种多环多酚树脂，其为具有源自选自由式(1A)及式(1B)所示的芳香族羟基化合物构成的组中的至少1种单体的重复单元的多环多酚树脂，或者为包含源自下述式(C‑1A)所示的芳香族羟基化合物的重复单元的多环多酚树脂，前述重复单元彼此通过芳香环彼此的直接键合来连接。(式(1A)中，R1为碳数1～60的2n价的基团或单键，R2各自独立地为任选具有取代基的碳数1～40的烷基、任选具有取代基的碳数6～40的芳基、任选具有取代基的碳数2～40的烯基、任选具有取代基的碳数2～40的炔基、任选具有取代基的碳数1～40的烷氧基、卤素原子、硫醇基、氨基、硝基、氰基、硝基、杂环基、羧基或羟基，m各自独立地为0～3的整数。n为1～4的整数。另外，式(1B)中，R2及m与前述式(1A)中说明的含义相同。)(式(C‑1A)中，R1为碳数1～60的2n价的基团或单键，R2各自独立地为任选具有取代基的碳数1～40的烷基、任选具有取代基的碳数6～40的芳基、任选具有取代基的碳数2～40的烯基、任选具有取代基的碳数2～40的炔基、任选具有取代基的碳数1～40的烷氧基、卤素原子、硫醇基、氨基、硝基、氰基、硝基、杂环基、羧基或羟基，m各自独立地为0～9的整数。n为1～4的整数，p各自独立地为0～3的整数。)
多环多酚树脂组合制造方法形成抗蚀剂图案辐射敏感光刻下层电路光学构件