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[发明专利]化学研磨液及使用了其的表面处理方法-CN201980054658.1有效
发明人：黑泽伸也;藤井智子;松永裕嗣 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2019-09-02 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： C23F3/03 文献下载
摘要：提供一种化学研磨液，其为用于铝或铝合金的化学研磨液，其含有过氧化氢(A)、氟化合物(B)、不属于前述氟化合物(B)的无机酸(C)、和含羟基的烃化合物(D)，前述过氧化氢(A)的含量按前述化学研磨液的总量基准计为2～20质量％，前述氟化合物(B)的以氟原子换算计的含量按前述化学研磨液的总量基准计为3～17质量％，前述无机酸(C)的含量按前述化学研磨液的总量基准计为20～55质量％，前述含羟基的烃化合物(D)的含量按前述化学研磨液的总量基准计为2～15质量％。
化学研磨使用表面处理方法

[发明专利]燃料电池隔离件用的不锈钢板-CN202180084000.2在审
发明人：矢野孝宜;水谷映斗;池田和彦;藤井智子;松永裕嗣 -专利权人：杰富意钢铁株式会社
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C22C38/00 文献下载
摘要：本发明提供一种低接触电阻的燃料电池隔离件用的不锈钢板，其不仅在安全性方面，而且在量产性方面也能够极其有利地制造。其ISO 25178中规定的参数Sa为0.15μm～0.50μm，并且ISO 25178中规定的参数Ssk大于0。
燃料电池隔离不锈钢板

[发明专利]水性组合物、使用其的不锈钢表面的粗糙化处理方法、以及粗糙化不锈钢的制造方法-CN202180083613.4在审
发明人：池田和彦;藤井智子;松永裕嗣 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C23F1/28 文献下载
摘要：提供水性组合物，其对不锈钢的表面通过少的工序进行充分且高效的粗糙化，并且处理后的不锈钢的厚度等品质保持良好。上述课题通过如下的用于对不锈钢的表面进行粗糙化的水性组合物解决。即水性组合物中：以水性组合物的总量计，包含0.1～10质量％的过氧化氢；以水性组合物的总量计，包含1～30质量％的卤化物离子；以水性组合物的总量计，包含0～3质量％的铜离子。
水性组合使用不锈钢表面粗糙处理方法以及制造

[发明专利]不锈钢表面的粗糙化处理方法、粗糙化不锈钢制造方法、及这些方法中使用的水性组合物-CN202180083201.0在审
发明人：池田和彦;藤井智子;松永裕嗣 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： C22C38/00 文献下载
摘要：提供充分地并且以少的工序有效率地使不锈钢的表面粗糙化、并且良好地保持处理后的不锈钢的表面品质的粗糙化处理方法等。上述的课题通过具有使用第1水性组合物的粗糙化处理工序和使用第2水性组合物的后处理工序的不锈钢的粗糙化处理方法来解决。即，一种粗糙化处理方法，其中，粗糙化处理工序为：使第1水性组合物与含有铜或离子化倾向比铜大的金属的不锈钢的表面接触而进行粗糙化处理的工序，第1水性组合物中，以第1水性组合物的总量基准计，包含0.1～20质量％的过氧化氢，以第1水性组合物的总量基准计，包含0.25～40质量％的铜离子，以第1水性组合物的总量基准计，包含1～30质量％的卤化物离子，后处理工序为：在酸性条件下使第2水性组合物与在粗糙化处理工序中进行了处理的不锈钢的表面接触而进行后处理的工序，第2水性组合物至少包含过氧化物。
不锈钢表面粗糙处理方法制造这些使用水性组合

[发明专利]排气净化装置的催化剂载体用不锈钢箔-CN202180083547.0在审
发明人：水谷映斗;矢野孝宜;池田和彦;藤井智子;松永裕嗣 -专利权人：杰富意钢铁株式会社
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C21D9/46 文献下载
摘要：本发明提供兼具优异的耐扩散接合性和钎焊性且高温下的耐氧化性也优异的排气净化装置的催化剂载体用不锈钢箔。该催化剂载体用不锈钢箔为规定的成分组成，且ISO 25178中规定的参数Sa和Str分别为0.50～3.00μm和0.20～1.00的范围。
排气净化装置催化剂载体不锈钢

[发明专利]非水电解质二次电池的集电体用的含铬钢板-CN202180083233.0在审
发明人：矢野孝宜;水谷映斗;池田和彦;藤井智子;松永裕嗣 -专利权人：杰富意钢铁株式会社
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C22C38/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种非水电解质二次电池的集电体用的含铬钢板，其在电池环境中的耐蚀性优异且作为二次电池的集电体使用时非水电解质二次电池的倍率特性和循环特性优异。一种非水电解质二次电池的集电体用的含铬钢板,具有含10质量％以上的Cr的成分组成，ISO 25178中规定的参数Sa为0.15μm～0.50μm，并且ISO 25178中规定的参数Ssk大于0。
水电二次电池体用铬钢

[发明专利]用于对铜和铜合金选择性地进行蚀刻的蚀刻液和使用其的半导体基板的制造方法-CN201980074655.4有效
发明人：深泽隼;藤井智子;松永裕嗣 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2019-11-19 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及抑制镍、锡、金和它们的合金的溶解、且能对铜和铜合金选择性地进行蚀刻的蚀刻液。本发明的蚀刻液的特征在于，其包含：相对于蚀刻液的总质量为5～10.5质量％的(A)过氧化氢；相对于蚀刻液的总质量为0.3～6质量％的(B)硝酸；(C)任选具有取代基的、选自由三唑和四唑组成的组中的1种以上的含氮五元环化合物，所述取代基选自由碳数1～6的烷基、氨基、以及具有选自由碳数1～6的烷基和苯基组成的组中的取代基的取代氨基组成的组中的1种以上；以及(D)(d1)选自由碱金属氢氧化物、氨、胺和铵盐组成的组中的1种以上的pH调节剂、(d2)膦酸化合物或(d3)它们的组合。
用于铜合金选择性进行蚀刻使用半导体制造方法

[发明专利]用于铜或铜合金的表面处理的化学研磨液和表面处理方法-CN202180040575.4在审
发明人：黑泽伸也;松永裕嗣;玉井聪 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2021-06-01 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： C23G1/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于适当地去除存在于铜或铜合金的表面的自然氧化膜、有机物的处理液。本发明提供一种化学研磨液，其为用于铜或铜合金的表面处理的化学研磨液，其包含：(A)以前述化学研磨液的总量基准计为0.1～3.5质量％的过氧化氢；(B)以前述化学研磨液的总量基准计为1～20质量％的选自由硫酸和硝酸组成的组中的1种以上；(C)作为按照氟原子换算的含量以前述化学研磨液的总量基准计为0.05～0.8质量％的氟化物；(D)以前述化学研磨液的总量基准计为0.01～1质量％的选自由邻氨基苯甲酸、环己胺、环己醇和1,5‑戊二醇组成的组中的1种以上；(E)以前述化学研磨液的总量基准计为0.0005～0.005质量％的氟系表面活性剂；和(F)水。
用于铜合金表面处理化学研磨方法

[发明专利]钛和/或钛合金的蚀刻液、使用该蚀刻液的钛和/或钛合金的蚀刻方法、以及使用该蚀刻液的基板的制造方法-CN202180028400.1在审
发明人：内藤幸英;松永裕嗣;玉井聪 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社;三菱瓦斯化学贸易株式会社
申请日： 2021-04-07 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：提供一种用于连续且稳定地进行处理的蚀刻方法以及该蚀刻方法中使用的组合物，该蚀刻方法能够抑制铜布线等其它金属的溶出而快速去除由钛和/或钛合金形成的晶种层。更详细而言，提供一种用于蚀刻钛和/或钛合金的组合物以及使用了该组合物的蚀刻方法，该组合物包含过氧化氢(A)、氟化物(B)、氟化物离子以外的卤化物离子(C)和水(D)，其中，以组合物的总量为基准，过氧化氢(A)的含量为0.01～0.23质量％；以组合物的总量为基准，氟化物(B)的含量为0.2～3质量％；以组合物的总量为基准，氟化物离子以外的卤化物离子(C)的含量为0.0005～0.025质量％。
钛合金蚀刻使用方法以及制造

[发明专利]光致抗蚀剂去除用组合物-CN202080054482.2在审
发明人：内藤幸英;大前健祐;松永裕嗣;玉井聪 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社;三菱瓦斯化学贸易株式会社
申请日： 2020-07-29 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供：除铜布线外、还可对镀锡及镀锡合金进行防腐，并且可以从印刷电路板或半导体晶圆上将光致抗蚀剂去除的水性组合物及使用其的光致抗蚀剂的去除方法。本发明的水性组合物的特征在于，其包含烷醇胺(A)、氢氧化季铵(B)、糖醇(C)、极性有机溶剂(D)及水(E)，以组合物的总量基准计，烷醇胺(A)的含量为2.5～50质量％，氢氧化季铵(B)的含量为0.5～4质量％，糖醇(C)的含量为0.5～20质量％。
光致抗蚀剂去除组合

[发明专利]组合物、使用其的不锈钢表面的粗糙化处理方法以及粗糙化处理过的不锈钢及其制造方法-CN202080054240.3在审
发明人：池田和彦;藤井智子;松永裕嗣;玉井聪 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2020-07-22 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： C23F1/28 文献下载
摘要：提供：能够充分地、且以较少的工序使不锈钢的表面高效地粗糙化的组合物、不锈钢的粗糙化处理方法等。上述的课题通过用于对不锈钢的表面进行粗糙化的组合物解决，该组合物中，以前述组合物的总量基准计，包含0.1～25质量％的选自由过硫酸及过硫酸盐组成的组中的1种以上，且以前述组合物的总量基准计，包含1～30质量％的卤化物离子。
组合使用不锈钢表面粗糙处理方法以及及其制造

[发明专利]水性组合物、使用了其的不锈钢表面的粗糙化处理方法、以及经过粗糙化处理的不锈钢及其制造方法-CN202080036980.4在审
发明人：池田和彦;藤井智子;松永裕嗣;玉井聪 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2020-06-03 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： C23F1/28 文献下载
摘要：提供充分且利用少的工序有效地将不锈钢的表面进行粗糙化的水性组合物、不锈钢的粗糙化处理方法等。上述问题通过一种水性组合物解决，该水性组合物用于将不锈钢的表面进行粗糙化，其按前述水性组合物的总量基准计含有0.1～20质量％的过氧化氢、按前述水性组合物的总量基准计含有0.25～40质量％的铜离子、按前述水性组合物的总量基准计含有1～30质量％的卤化物离子。
水性组合使用不锈钢表面粗糙处理方法以及经过及其制造

[发明专利]铜箔用蚀刻液和使用其的印刷电路板的制造方法以及电解铜层用蚀刻液和使用其的铜柱的制造方法-CN201980026980.3有效
发明人：瀬户一彰;玉井聪;松永裕嗣 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2019-04-22 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及：边抑制铜布线的侧蚀刻的发生、边能对铜箔进行蚀刻的铜箔用蚀刻液和使用其的铜箔的蚀刻方法和印刷电路板的制造方法。另外，本发明涉及：边抑制电解铜层的侧蚀刻的发生、边能对电解铜层进行蚀刻的电解铜层用蚀刻液和使用其的电解铜层的蚀刻方法和铜柱的制造方法。本发明的蚀刻液的特征在于，含有：过氧化氢(A)、硫酸(B)、和选自由5‑氨基‑1H‑四唑、1,5‑五亚甲基四唑和2‑正十一烷基咪唑组成的组中的至少1种唑化合物(C)，过氧化氢(A)相对于硫酸(B)的摩尔比处于6～30的范围内，唑化合物(C)的浓度处于0.001～0.01质量％的范围内，所述蚀刻液实质上不含有磷酸。
铜箔蚀刻使用印刷电路板制造方法以及电解铜

[发明专利]压延铜箔的表面处理液及表面处理方法以及压延铜箔的制造方法-CN201880021257.1在审
发明人：曽根昌弥;松永裕嗣;玉井聪 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2018-03-23 - 公布日： 2019-11-15 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及压延铜箔的制造方法、压延铜箔的表面处理方法以及压延铜箔用表面处理液。本发明中，使含有过氧化氢(A)、硫酸(B)、醇(C)和苯基脲(D)、并且过氧化氢(A)/硫酸(B)的摩尔比处于0.3～3.0的范围内、硫酸(B)处于0.5～15.0质量％的范围内、醇(C)处于0.1～5.0质量％的范围内的表面处理液与压延铜箔表面接触而将压延铜箔表面溶解，由此处理压延铜箔表面。根据本发明的优选方式，可以将压延铜箔表面平滑化而不会产生环形山状的蚀刻、坑。
压延铜箔硫酸表面处理液过氧化氢蚀刻表面平滑化表面溶解环形山状苯基脲摩尔比优选制造

[发明专利]晶体管的制造方法-CN201180040397.1有效
发明人：岛田宪司;松永裕嗣;安部幸次郎;山田健二 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2011-07-26 - 公布日： 2013-05-22 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：提供一种通过对硅自然氧化膜、进而对由硅构成的虚拟栅极进行选择性蚀刻，以高成品率制造高精度、高品质的晶体管的方法。一种晶体管的制造方法，其特征在于，所述方法使用如下的结构体，具有使用规定的蚀刻液的蚀刻工序，且将虚拟栅极置换为铝金属栅极，所述结构体在基板上具有至少将高介电材料膜和由其表面具有硅自然氧化膜的硅构成的虚拟栅极层叠而成的虚拟栅极层叠体、按照覆盖该层叠体的侧面的方式设置的侧壁、及按照覆盖该侧壁的方式设置的层间绝缘膜。
晶体管制造方法

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