专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种紫外发光二极管及其制作方法-CN201811277372.3有效
  • 何苗;丛海云;黄仕华;熊德平 - 广东工业大学
  • 2018-10-30 - 2020-05-08 - H01L33/32
  • 本发明公开了一种紫外发光二极管,包括蓝宝石衬底与GaN缓冲层,所述紫外发光二极管包括GaN纳米线层与GaN纳米线融合层;所述GaN纳米线层设置在所述紫外发光二极管的蓝宝石衬底表面;所述GaN纳米线层包括GaN纳米线,所述GaN纳米线的两端分别连接所述GaN纳米线融合层和所述蓝宝石衬底,实现所述GaN纳米线融合层与所述蓝宝石衬底间的电连接;所述GaN纳米线融合层设置在所述GaN纳米线层与所述紫外发光二极管的GaN缓冲层之间。本发明通过将传统的GaN层替换成GaN纳米线层,减少了GaN材料与衬底的接触面积,同时也就减少了接触面间的缺陷和位错,提升了内量子效率,进而提高了元件效率。本发明同时还提供了一种具有上述有益效果的紫外发光二极管的制作方法。
  • 一种紫外发光二极管及其制作方法
  • [发明专利]深紫外LED芯片、深紫外LED外延片及其制备方法-CN201811527141.3有效
  • 何苗;丛海云;黄仕华;熊德平 - 广东工业大学
  • 2018-12-13 - 2020-04-28 - H01L33/32
  • 本发明公开了一种深紫外LED芯片、深紫外LED外延片及其制备方法,其中,制备方法包括:在衬底上生长AlGaN缓冲层,并在AlGaN缓冲层上生长N型AlGaN层;在N型AlGaN层上生长Al组分渐变的N型AlGaN层,并在Al组分渐变的N型AlGaN层上生长Al0.5Ga0.5N/Al0.15Ga0.85N有源区;在Al0.5Ga0.5N/Al0.15Ga0.85N有源区上生长AlGaN阻挡层,并在AlGaN阻挡层上生长P型GaN层。本申请公开的上述技术方案,由于生长Al组分渐变的N型AlGaN层在生长有源区之前,因此,则不会引起有源区能带结构发生变化,从而可以提高深紫外LED芯片的发光效率。
  • 深紫led芯片外延及其制备方法
  • [发明专利]LED芯片、垂直结构的LED外延片及其制备方法-CN201811527124.X有效
  • 何苗;丛海云;黄仕华;熊德平 - 广东工业大学
  • 2018-12-13 - 2020-04-28 - H01L33/06
  • 本发明公开了一种LED芯片、垂直结构的LED外延片及其制备方法,其中,制备方法包括:在清洗后的金属衬底表面生长GaN成核层,并在GaN成核层表面生长P型GaN层;在P型GaN层表面生长GaN阻挡层,并在GaN阻挡层表面生长多量子阱层;在多量子阱层上生长N型GaN层,以得到垂直结构的LED外延片。本申请公开的上述技术方案,直接在金属衬底上依次生长GaN成核层、P型GaN层、GaN阻挡层、多量子阱层、及N型GaN层,以得到垂直结构的LED外延片,这样就不需要对LED外延片的衬底进行剥离和键合,因此,则可以提高LED外延片的制备效率,并且可以提高最终所制备出的LED外延片的良品率和内量子效率。
  • led芯片垂直结构外延及其制备方法
  • [发明专利]一种新型阻变存储器及其制造方法-CN201710903360.6有效
  • 黄仕华;陈达 - 浙江师范大学
  • 2017-09-29 - 2020-04-17 - H01L45/00
  • 本发明公开了一种新型阻变存储器及其制造方法,包括硅片衬底、背电极,硅片衬底上方具有二氧化硅保护层,二氧化硅保护层上蚀刻有若干圆柱形凹穴,该凹穴与硅片衬底接触处为阻变介质层,阻变介质层上方为硅化物层,硅化物层上方及其对应凹穴的圆周内壁为防金属扩散层,防金属扩散层内为金属顶电极。本发明得到的阻变存储单元具有优异稳定的电阻转变特性,通过引入硅化物层,减小了上电极与阻变介质层之间的势垒电阻,使得阻变介质层发生电阻转变可不受上电极材料的影响,进一步提升了存储单元的稳定性。
  • 一种新型存储器及其制造方法

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