专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种蓝宝石晶片表面涂布用旋涂装置-CN202122564713.9有效
  • 洪文庆 - 锐捷光电科技(江苏)有限公司
  • 2021-10-25 - 2022-05-17 - B05B13/02
  • 本实用新型涉及一种蓝宝石晶片表面涂布用旋涂装置,包括工作柜,所述工作柜内部设有液压油缸,所述液压油缸底部固定连接有横板,所述横板底部两侧固定连接有连接杆,所述连接杆底部固定连接有安装板,所述安装板顶部固定连接有涂液箱,所述涂液箱底部贯穿安装板固定连接有滴液管,所述滴液管下方设有旋涂盘,所述旋涂盘底部固定连接有顶出箱,所述顶出箱底部固定连接有托板,所述托板下方设有支架,所述支架底部固定连接有伺服电机,所述伺服电机输出端与托板底部固定连接,本实用新型可控制涂液的供给量并对涂液进行均匀刮平,微型电动伸缩杆可对加工后的晶片进行顶出,便于拿取,可对涂液后的晶片进行快速吹干,不需等待自然风干。
  • 一种蓝宝石晶片表面涂布用旋涂装置
  • [实用新型]一种蓝宝石晶片涂布用定位装置-CN202122564564.6有效
  • 洪文庆 - 锐捷光电科技(江苏)有限公司
  • 2021-10-25 - 2022-04-19 - B05C13/02
  • 本实用新型公开了一种蓝宝石晶片涂布用定位装置,包括底板,所述底板的上方设有侧板,所述侧板的上方设有顶板,所述侧板的一端与所述底板的顶部固定连接,另一端与所述顶板的底部固定连接,所述底板的顶部中心处设有基台,所述基台的顶部开设有升降槽,所述基台的内腔设有升降组件,所述基台的上方设有基板,所述基板上设有横移组件,所述基板的上方设有置物台,所述顶板的底部中心处设有涂布组件,所述涂布组件的一侧设有控制器,所述侧板上对称设有安装板,本实用新型其定位效果优秀且精度较高,并且具有自动定位的功能,可以避免蓝宝石晶片在涂布工序中因定位不准确而造成的涂布偏移,从而保证了蓝宝石晶片的涂布效果。
  • 一种蓝宝石晶片涂布用定位装置
  • [实用新型]一种蓝宝石晶片微观装置用移取结构-CN202122564673.8有效
  • 洪文庆 - 锐捷光电科技(江苏)有限公司
  • 2021-10-25 - 2022-04-19 - B65G47/91
  • 本实用新型涉及一种蓝宝石晶片微观装置用移取结构,包括固定机箱,所述固定机箱的顶部固定连接有支撑架,所述支撑架的一侧固定连接有微观装置,所述支撑架的一侧固定连接有控制器,所述固定机箱的顶部固定连接有固定套筒;在进行观测晶片时,由调节电机的驱动,可使得限位转盘带动调节板转动调节转盘,进而便于转动活动接板,且设备每次只转动九十度,确保每次移送的晶片处于微观装置正下方,利于观测工作的进行,而且,设备调节后,限位转盘还可对调节转盘进行限位,同步的,晶片移取过程中,其放置可在限位吸盘的作用下进行固定,可有效避免出现因工作人员的误动作造成晶片偏移而影响观测工作的进行,有效的保证了观测的准确性。
  • 一种蓝宝石晶片微观装置用移取结构
  • [实用新型]一种蓝宝石晶片微观自动检查平台-CN202122693742.5有效
  • 洪文庆 - 锐捷光电科技(江苏)有限公司
  • 2021-11-05 - 2022-04-05 - B65G17/12
  • 本实用新型涉及晶片检查技术领域,尤其为一种蓝宝石晶片微观自动检查平台,包括底座、固定框和固定架,所述底座的上端固定连接有固定框,所述固定框的内侧右端固定连接有滑轨,所述滑轨的内侧滑动连接有滑块,所述滑块的内侧固定连接有显微检测头,所述滑块的左端转动连接有传动杆,所述传动杆的左端转动连接有转动杆,所述底座的上端外侧固定连接有固定架,本实用新型中,通过设置的滑块、显微检测头和转动杆,利用转动杆的转动作用使传动杆能够带动滑块进行左右移动,进而使显微检测头能够对蓝宝石晶片进行同步移动检测使用,提升蓝宝石晶片微观检测效率,并能够通过设置的对比显示器将检测结果进行数显,进而便于后续的区分处理。
  • 一种蓝宝石晶片微观自动检查平台
  • [实用新型]一种显影液喷涂装置-CN202122694461.1有效
  • 洪文庆 - 锐捷光电科技(江苏)有限公司
  • 2021-11-05 - 2022-04-05 - G03F7/30
  • 本实用新型涉及一种显影液喷涂装置,包括底座,所述底座的顶端固定设有框架,所述框架的内壁上滑动设有固定板一和固定板二,所述固定板一的中间位置处固定嵌设有电机一,所述电机一的输出端固定连接有齿轮一,所述固定板二上对称转动嵌设有储料壳体,所述储料壳体的上部均固定套设有齿轮二,所述齿轮二均与所述齿轮一齿轮啮合,所述储料壳体的底端均固定设有支架,所述支架之间均转动设有喷嘴,所述喷嘴的输入端均与相邻的所述储料壳体之间通过伸缩软管固定连接,所述框架的两侧内壁上均开设有滑槽,所述滑槽内均滑动设有滑块,本实用新型可以有效的提高喷涂的效率和喷涂的质量。
  • 一种显影液喷涂装置
  • [实用新型]一种蓝宝石晶片用显影液喷嘴结构-CN202122694486.1有效
  • 洪文庆 - 锐捷光电科技(江苏)有限公司
  • 2021-11-05 - 2022-04-05 - G03F7/30
  • 本实用新型公开了一种蓝宝石晶片用显影液喷嘴结构,包括固定框,所述固定框的内部放置有喷嘴本体,所述喷嘴本体的顶部固定连接有运输软管,所述固定框的底部固定连接有固定板,所述固定板的表面连接有滑动组件,所述滑动组件的表面通过圆槽转动连接有滚球,所述滚球的表面与喷嘴本体的侧面滚动连接,所述固定框的侧面通过轴承转动连接有转杆,所述转杆的表面固定连接有蜗杆,所述固定框内壁的表面通过销轴转动连接有蜗轮。本实用新型通过上述等结构的配合,实现了便于工作人员进行调节喷嘴的角度倾斜调整,工作人员能够自由的调节喷嘴的水平高度,且减少了外部因素对喷嘴输送管内部温度造成影响的情况,给工作人员的工作带来了便利。
  • 一种蓝宝石晶片显影液喷嘴结构
  • [实用新型]一种蓝宝石衬底曝光机的对位辅助治具-CN202121676452.3有效
  • 洪文庆 - 锐捷光电科技(江苏)有限公司
  • 2021-07-22 - 2022-02-22 - G03F9/00
  • 本实用新型涉及一种蓝宝石衬底曝光机的对位辅助治具,包括底板,所述底板上方设有金属固定框,所述底板顶部固定连接有滑轨,所述滑轨滑动连接有滑块,所述滑块顶部固定连接有第一驱动框,所述第一驱动框一侧固定连接有第一伺服电机,所述第一伺服电机输出端固定连接有第一丝杆,所述第一丝杆螺纹连接有第一螺纹套,所述第一螺纹套顶部固定连接有吸盘板,所述吸盘板上方设有曝光基板,所述曝光基板上方设有摄像头,所述摄像头顶部与金属固定框内壁固定连接,所述摄像头两侧设有照明装置,本实用新型可对曝光基板的位置进行自行调整,不需工作人员手动调整,提高了加工效率,同时提高了对位精准度。
  • 一种蓝宝石衬底曝光对位辅助
  • [实用新型]一种蓝宝石衬底加工镭刻机的导轨装置-CN202121676455.7有效
  • 洪文庆 - 锐捷光电科技(江苏)有限公司
  • 2021-07-22 - 2022-02-22 - B23K26/70
  • 本实用新型涉及一种蓝宝石衬底加工镭刻机的导轨装置,包括工作台,所述工作台的一侧固定连接有支撑架,所述支撑架的一侧固定连接有调节支板,所述调节支板的内侧开设有连接滑槽,所述连接滑槽的内侧设有调节旋钮,所述调节旋钮的外侧套接有连接垫片;在加工的过程时,能通过驱动电机带动调节丝杆进行调整镭刻机的位置,且调节过程中其它结构相互配合使用,能有效保障设备运行时的稳定与安全,并且镭刻机移动时,活动连杆也会移动,能观察工作台上的刻度表进行精准调节,此设置使得设备在水平方向移动时能更加精准的移动至指定位置,综上,本设备导向调整设备进行加工蓝宝石衬底时,尤为简单便捷,并且工作人员能直观的了解到调节的距离等。
  • 一种蓝宝石衬底加工镭刻机导轨装置
  • [实用新型]用于蓝宝石衬底加工曝光机的板件的保持装置-CN202121732799.5有效
  • 洪文庆 - 锐捷光电科技(江苏)有限公司
  • 2021-07-28 - 2022-02-22 - G03F7/20
  • 本实用新型涉及用于蓝宝石衬底加工曝光机的板件的保持装置,包括基座,所述基座上方一侧设有垫板,所述垫板上方一侧设有若干垫块,所述垫块上方设有支撑板,所述支撑板上方设有若干垫片,所述垫片上方位于所述支撑板相邻一侧设有推板,所述推板一侧与第一气缸输出端固定连接,所述基座一端设有立板,所述立板上方一侧设有安装板,所述安装板上方固定连接有第二气缸。本实用新型通过推板与挡板,挡板上的滚筒方便移动板件的位置将板件位置固定,方便对板件进行定位,并且通过设置独立的垫片,并在支撑板上设置通风口,通风口与垫片可以配合时板件下方空间流通,从而有效降低板件的温度,方便生产工作,提高生产质量。
  • 用于蓝宝石衬底加工曝光保持装置
  • [实用新型]一种蓝宝石加工蚀刻机用出料装置-CN202121732812.7有效
  • 洪文庆 - 锐捷光电科技(江苏)有限公司
  • 2021-07-28 - 2022-02-22 - B65D88/68
  • 本实用新型公开了一种蓝宝石加工蚀刻机用出料装置,包括导料斗,所述导料斗的下方设有导料管,所述导料管的下方设有出料箱,所述出料箱的一侧壁设有第二驱动电机,所述第二驱动电机的输出端上设有第一传动杆,所述第一传动杆远离所述第二驱动电机的一端贯穿所述出料箱的侧壁并延伸至所述出料箱的内腔,所述第一传动杆的贯穿端上设有第一锥齿轮,所述第一锥齿轮上啮合连接设有第二锥齿轮,所述第二锥齿轮上设有第二传动杆,所述第二传动杆的两侧对称设有清料杆,本实用新型可以避免发生堵塞的情况,保证了正常的出料,提高了出料的效果和效率,并且不但对废料进行干湿分离,以便于后续对废料进行方便的处理,省时省力,便于实际情况的使用。
  • 一种蓝宝石加工蚀刻机用出料装置
  • [实用新型]一种新型蓝宝石衬底加工用曝光机校正机构-CN202121738258.3有效
  • 洪文庆 - 锐捷光电科技(江苏)有限公司
  • 2021-07-28 - 2022-02-22 - G03F7/20
  • 本实用新型涉及蓝宝石衬底加工技术领域,尤其为一种新型蓝宝石衬底加工用曝光机校正机构,包括底座、支撑框和曝光灯,所述底座的内侧中间位置处固定连接有支撑板,所述支撑板的内侧转动连接有第一螺纹轴,所述第一螺纹轴的外端螺旋连接有活动板,所述活动板的内侧固定连接有连接杆,所述连接杆的内端固定连接有校正板,本实用新型中,通过设置的第一螺纹轴、活动板和校正板,利用第一螺纹轴的转动使活动板带动校正板能够向内侧移动,从而使校正板能够对放置的蓝宝石衬底进行移动,使蓝宝石衬底能够移动至曝光位置处,从而能够提升蓝宝石衬底的生产加工效果,并防止人工校正对蓝宝石衬底造成污染而影响蓝宝石衬底的曝光加工处理。
  • 一种新型蓝宝石衬底工用曝光校正机构
  • [实用新型]一种用于蓝宝石衬底加工用曝光机的冷却机构-CN202121731271.6有效
  • 洪文庆 - 锐捷光电科技(江苏)有限公司
  • 2021-07-28 - 2021-12-14 - G03F7/20
  • 本实用新型涉及一种用于蓝宝石衬底加工用曝光机的冷却机构,包括底座,所述底座顶端一侧固定连接有支柱,所述支柱顶端固定连接有冷却柜,所述冷却柜右端内壁固定连接有抽风机,所述冷却柜左端内部设置有过滤网,所述冷却柜内部中间设置有冷却板,所述冷却板左端经第一连接管固定连接有冷却液箱,所述冷却板右端经第一连接管固定连接有抽液泵,所述抽液泵另一端经进液管固定连接有集液箱,所述冷却柜底端右侧固定连接有出风管,所述出风管周侧缠绕有冷却管,所述冷却管底部一端经第二连接管固定连接有水泵,本实用新型通过上述等装置的配合实现了对蓝宝石衬底加工用曝光机的曝光室和工作台的降温效果,同时确保了曝光机内部气压的稳定的效果。
  • 一种用于蓝宝石衬底工用曝光冷却机构
  • [实用新型]一种防止酸气腐蚀的蚀刻机台-CN202121679412.4有效
  • 洪文庆 - 锐捷光电科技(江苏)有限公司
  • 2021-07-22 - 2021-12-14 - C23F1/08
  • 本实用新型涉及蚀刻机技术领域,尤其为一种防止酸气腐蚀的蚀刻机台,包括蚀刻框、支撑板和蚀刻器,所述蚀刻框的内侧上端中间位置处滑动连接有反应框,所述蚀刻框的上端外侧密封连接有碱性进气管,所述蚀刻框的上端中间位置处固定连接有排气框,所述排气框的内侧设有排气扇,所述蚀刻框的侧壁中间位置处固定连接有支撑板,所述支撑板的内侧滑动连接有蚀刻台,本实用新型中,通过设置的反应框、碱性进气管和排气扇,利用排气扇的作用使蚀刻机台内部的酸气能够向上流动,并通过反应框内注入的碱性液体进行酸碱反应处理,同时通过设置的碱性进气管对进入的酸气进行化学反应,使酸气能够快速排出的同时,又能够保证不会对环境造成影响。
  • 一种防止腐蚀蚀刻机台
  • [发明专利]一种凹形光阻涂布的制作过程-CN201810903832.2有效
  • 洪文庆 - 锐捷光电科技(江苏)有限公司
  • 2018-08-09 - 2021-08-13 - B05D1/00
  • 本发明公开了一种凹形光阻涂布的制作过程,包括如下步骤:步骤1:先将蓝宝石芯片放置在电浆清洗机腔体内部,利用氧电浆去除表面有机物质与改变电荷分布状态;步骤2:在进行光阻涂布之前,将附着剂喷涂至蓝宝石芯片表面;增加蓝宝石芯片对光阻附着力,对附着剂进行二次涂布喷涂达到稳定膜厚分布的效果;涂布完附着剂并旋转蓝宝石芯片;步骤3:进行第一次喷涂光阻;光阻喷头置于蓝宝石芯片中心进行喷涂;步骤5:光阻喷头移至距蓝宝石芯片中心点250mm处,进行第二次光阻喷涂;步骤6:将旋转转速提升至2000~3000rpm用喷枪蓝宝石芯片去除多余光阻,冲洗蓝宝石芯片背面去除多余光阻;本发明制作的蓝宝石芯片上光阻为中间薄外围厚的分布状态。
  • 一种凹形光阻涂布制作过程

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