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[发明专利]光阻涂布设备及其光阻涂布方法-CN201310228351.3有效
发明人：蔡金龙;郑宪鸿 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2013-06-08 - 公布日： 2013-09-04 - 主分类号： C03C17/00 文献下载
摘要：本发明提供一种光阻涂布设备及光阻涂布方法。所述光阻涂布设备，包括平台及光阻涂布装置，所述平台用于置放并固定待涂布光阻的基板，所述光阻涂布装置包括位于所述平台上方的控制机构及喷嘴，所述光阻涂布设备进一步包括设于所述平台两侧并随所述光阻涂布装置同步移动的检测器，所述检测器用于量测所述基板待涂布光阻表面位置的高度，并将量测结果实时反馈给所述光阻涂布装置的控制机构，所述控制机构根据所述量测结果修正所述喷嘴的涂布高度后，再由所述喷嘴对所述基板待涂布光阻表面位置涂布光阻本发明的光阻涂布设备及光阻涂布方法，能够提升光阻在基板上涂布厚度的均一性。
光阻涂布设及其光阻涂布方法

[发明专利]涂布机光阻回收系统-CN201810962122.7在审
发明人：李亚明;彭建中;徐飞;张伟伟;张良;吴昌龙 -专利权人：南京中电熊猫液晶材料科技有限公司
申请日： 2018-08-22 - 公布日： 2018-12-11 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明涉及一种可回收涂布机光阻系统，包括光阻桶、脱气模组、过滤器、涂布泵、涂布头、光阻回收罐和光阻回收桶，所述可回收涂布机光阻系统包括新光阻供给系统和光阻回收系统，所述新光阻供给系统中，光阻回收桶连接脱气模组，脱气模组连接过滤器，过滤器连接涂布泵，涂布泵连接涂布头；所述光阻回收系统中，脱气模组、过滤器、涂布泵和涂布头分别与光阻回收罐连接，光阻回收罐连接光阻回收桶，光阻回收桶连接脱气模组。本发明的有益效果：1）最大程度的回收浪费的光阻用于产品生产，避免光刻胶浪费。2）集光阻回收利用和废液收集于一体，并且自动回收及自动供应。
光阻模组脱气回收桶过滤器回收系统回收罐涂布机涂布头供给系统光阻系统可回收过滤器连接产品生产废液收集回收利用自动供应自动回收泵连接光刻胶集光回收

[发明专利]涂布装置-CN200410028193.8有效
发明人：孙鲁男;王敬龙;许文诚;詹育颖 -专利权人：鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;群创光电股份有限公司
申请日： 2004-07-16 - 公布日： 2006-01-18 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：一种涂布装置，包括一工作平台和一喷嘴涂布单元，该喷嘴涂布单元包括一光阻涂布喷嘴和一光阻材料供应装置，该光阻涂布喷嘴位于工作平台上方，该光阻材料供应装置与光阻涂布喷嘴相连以提供光阻材料，其特征在于：该工作平台包括多个吹气孔
装置

[发明专利]光阻涂布工艺与载料装置-CN201680049301.0有效
发明人：徐顺龙 -专利权人：深圳市柔宇科技股份有限公司
申请日： 2016-12-29 - 公布日： 2021-09-24 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：一种光阻涂布工艺以及载料装置，其中，光阻涂布工艺包括：提供一载料台，并将待涂布光阻的衬底置于所述载料台上；将磁性光阻材料涂布在所述衬底上；以及在所述衬底的一侧产生磁场，所述磁性光阻材料在所述磁场的作用下分离为导电层与光阻层采用该光阻涂布工艺与载料装置，能够减少光阻涂布制程的工序，提高效率，降低制造成本。
光阻涂布工艺装置

[发明专利]光阻涂布装置检测机构及光阻涂布机-CN201710071590.0在审
发明人：张瑞军 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2017-02-09 - 公布日： 2017-05-17 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供了一种光阻涂布装置检测机构，包括支架，在支架上设有可转动的涂布平台，涂布平台通过中心轴连接在支架上，所述涂布平台的下方设有底盘，所述底盘上设有排水孔，在底盘上设有用于清洗涂布平台的清洗装置。本发明还提供了一种光阻涂布机，包括光阻涂布装置以及作业平台，还包括所述的光阻涂布装置检测机构，所述光阻涂布装置检测机构设于光阻涂布装置与作业平台之间。与现有技术相比，不仅能够缩短光阻涂布机的复机时间，提升设备产能，而且可重复使用，节省虚拟涂布基板，降低检测成本。
光阻涂布装置检测机构光阻涂布机

[实用新型]涂布装置-CN200420103129.7无效
发明人：孙鲁男;王敬龙;许文诚;詹育颖 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司
申请日： 2004-12-16 - 公布日： 2006-03-08 - 主分类号： G02F1/133 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种涂布装置，包括一工作平台和一喷嘴涂布单元，该喷嘴涂布单元包括一光阻涂布喷嘴和一光阻材料供应装置，该光阻涂布喷嘴位于工作平台上方，该光阻材料供应装置与光阻涂布喷嘴相连以提供光阻材料，其特征在于：该工作平台包括一使待涂布的元件悬浮在工作平台上方的支撑装置，从而可以防止产生静电，也可以有效解决掉落在工作平台上的微粒造成基板部分区域隆起致使涂布不均匀的现象。
装置

[发明专利]光阻剂涂布工艺、润湿溶剂筛选方法及润湿溶剂-CN201810173987.5在审
发明人：黄帅;吴明锋 -专利权人：睿力集成电路有限公司
申请日： 2018-03-02 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种光阻剂的涂布工艺、润湿溶剂筛选方法及润湿溶剂，光阻剂的涂布工艺包括：提供晶圆；在待涂面滴定润湿溶剂，并旋涂润湿溶剂进行预湿以形成润湿层；在润湿层的表面旋涂光阻剂以形成光阻层；筛选方法包括：m种溶剂对m组晶圆进行涂布，且一种溶剂涂布一组晶圆形成润湿层，每组n个晶圆的润湿层均采用n种预设用量的光阻剂进行涂布，形成光阻层，以形成涂胶片，根据筛选条件对涂胶片进行筛选，以满足筛选条件且光阻剂的预设用量最少的涂胶片所涂布的溶剂作为润湿溶剂本发明采用包括环己酮和/或环己酮衍生物的溶剂作为光阻剂涂布前的润湿溶剂可提高光阻剂涂布效果，减少涂布的光阻剂用量。
润湿光阻剂溶剂润湿层晶圆涂布工艺胶片溶剂筛选筛选条件光阻层旋涂预设环己酮衍生物筛选溶剂涂布涂布效果环己酮滴定预湿

[发明专利]光阻涂布方法及其光阻涂布设备-CN200510079116.X有效
发明人：苏育煌;陈世仁;周振南 -专利权人：广辉电子股份有限公司
申请日： 2005-06-24 - 公布日： 2006-12-27 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种光阻涂布设备，包括一光阻涂布装置、一清洁装置以及一平台。基板置放于平台之上。当涂布光阻时，清洁装置先清除基板表面的微粒，接着，光阻涂布装置将光阻均匀喷洒于基板的表面。
光阻涂布方法及其光阻涂布设

[实用新型]光阻涂布机-CN201721317031.5有效
发明人：聂行健;陈聪文;汪杰;赵敏 -专利权人：东旭（昆山）显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司
申请日： 2017-10-13 - 公布日： 2018-04-27 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种光阻涂布机，所述光阻涂布机包括用于固定放置基板(500)的涂布平台(100)，所述涂布平台(100)上设置有缝隙(101)；所述光阻涂布机还包括与所述缝隙(101)连通的回收装置；其中本实用新型的光阻涂布机，不仅可以实现光阻的回收利用，还可以降低基板边缘的涂布膜厚，进而解决基板边缘处显影不良的问题。
光阻涂布机

[发明专利]光阻涂布设备-CN201810825008.X在审
发明人：朱浩东 -专利权人：朱浩东
申请日： 2018-07-25 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种光阻涂布设备，包括光阻涂布机构以及两个光阻残留去除结构；所述光阻涂布机构包括光阻存储器以及设置于所述光阻存储器下端面上的涂布组件，该涂布组件呈三棱柱状，且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光阻存储器连接，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽，该光阻涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽；所述光阻残留去除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴，所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中
滑块光阻涂布组件擦板光阻涂布滑动槽光阻涂布设备第二侧壁第一侧壁存储器风嘴去除残留电机驱动机构存储器连接机构本体局部贴合可滑动地倾斜连接三棱柱状自动滑动喷液嘴涂布槽中垂面下端驱动侧面

[发明专利]光阻涂布装置-CN201810825009.4在审
发明人：朱浩东 -专利权人：朱浩东
申请日： 2018-07-25 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种光阻涂布装置，包括光阻涂布机构以及两个光阻残留去除结构；所述光阻涂布机构包括光阻存储器以及设置于所述光阻存储器下端面上的涂布组件，该涂布组件呈三棱柱状，且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光阻存储器连接，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽，该光阻涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽；所述光阻残留去除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴，所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中
滑块光阻涂布组件擦板光阻涂布滑动槽光阻涂布装置第二侧壁第一侧壁存储器风嘴去除残留电机驱动机构存储器连接机构本体局部贴合可滑动地倾斜连接三棱柱状自动滑动喷液嘴涂布槽中垂面下端驱动侧面

[发明专利]一种光阻涂布装置-CN201810933884.4在审
发明人：李广宇 -专利权人：安吉科广新材料科技有限公司
申请日： 2018-08-16 - 公布日： 2018-10-19 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种光阻涂布装置，包括光阻涂布机构以及两个光阻残留去除结构；所述光阻涂布机构包括光阻存储器以及设置于所述光阻存储器下端面上的涂布组件，该涂布组件呈三棱柱状，且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光阻存储器连接，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽，该光阻涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽；所述光阻残留去除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴，所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中
滑块光阻涂布组件擦板光阻涂布滑动槽光阻涂布装置第二侧壁第一侧壁存储器风嘴去除残留电机驱动机构存储器连接机构本体局部贴合可滑动地倾斜连接三棱柱状自动滑动喷液嘴涂布槽中垂面下端驱动侧面

[发明专利]高品质光阻涂布设备-CN201810934312.8在审
发明人：李广宇 -专利权人：安吉科广新材料科技有限公司
申请日： 2018-08-16 - 公布日： 2018-10-16 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：本发明提供一种高品质光阻涂布设备，包括光阻涂布机构以及两个光阻残留去除结构；所述光阻涂布机构包括光阻存储器以及设置于所述光阻存储器下端面上的涂布组件，该涂布组件呈三棱柱状，且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光阻存储器连接，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽，该光阻涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽；所述光阻残留去除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴，所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中
滑块光阻涂布组件擦板光阻涂布滑动槽光阻涂布设备第二侧壁第一侧壁存储器高品质风嘴去除残留电机驱动机构存储器连接机构本体局部贴合可滑动地倾斜连接三棱柱状自动滑动喷液嘴涂布槽中垂面下端驱动侧面

[发明专利]一种光阻涂布装置-CN201811225026.0在审
发明人：姜丽 -专利权人：台州市皓仔邦工业设计有限公司
申请日： 2018-10-20 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：一种光阻涂布装置，包括光阻涂布机构以及两个光阻残留去除结构；所述光阻涂布机构包括光阻存储器以及设置于所述光阻存储器下端面上的涂布组件，该涂布组件呈三棱柱状，且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光阻存储器连接，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽，该光阻涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽；所述光阻残留去除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴，所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中
滑块光阻涂布组件擦板光阻涂布滑动槽光阻涂布装置第二侧壁第一侧壁存储器风嘴去除残留电机驱动机构存储器连接机构本体局部贴合可滑动地倾斜连接三棱柱状自动滑动喷液嘴涂布槽中垂面下端驱动侧面

[实用新型]一种光阻涂布装置-CN201821322479.0有效
发明人：李广宇 -专利权人：安吉科广新材料科技有限公司
申请日： 2018-08-16 - 公布日： 2019-05-31 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型提供一种光阻涂布装置，包括光阻涂布机构以及两个光阻残留去除结构；所述光阻涂布机构包括光阻存储器以及设置于所述光阻存储器下端面上的涂布组件，该涂布组件呈三棱柱状，且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光阻存储器连接，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽，该光阻涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽；所述光阻残留去除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴，所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中
滑块光阻涂布组件擦板光阻涂布滑动槽光阻涂布装置第二侧壁第一侧壁存储器风嘴去除残留电机驱动机构本实用新型存储器连接机构本体局部贴合可滑动地倾斜连接三棱柱状自动滑动喷液嘴涂布槽中垂面下端驱动侧面

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