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[发明专利]显影装置、衬底处理装置、显影方法及衬底处理方法-CN201780069615.1有效
发明人：春本将彦;浅井正也;田中裕二;金山幸司 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-10-04 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明中，在衬底的一面上形成含金属涂布膜，在含金属涂布膜上由感光性有机材料形成有机涂布膜，且有机涂布膜被曝光成指定图案。通过狭缝喷嘴向有机涂布膜供给显影液，由此在有机涂布膜形成指定图案。另外，通过置换喷嘴向有机涂布膜的图案及含金属涂布膜供给置换液，由此将含金属涂布膜的部分去除，在含金属涂布膜形成指定图案。通过冲洗喷嘴向具有有机涂布膜的图案及含金属涂布膜的图案的衬底供给冲洗液。
显影装置衬底处理方法

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201780053396.8有效
发明人：春本将彦;金山幸司;田中裕二;浅井正也 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-04-03 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：调温部C1对向显影喷嘴21供给的显影液的温度进行调节。调温部C2、C3分别对向冲洗喷嘴31以及背部冲洗喷嘴35供给的冲洗液的温度进行调节。调温部C4对向处理喷嘴41供给的处理液的温度进行调节。调温部C2、C3、C4将冲洗液及处理液的温度调节在恒定的范围内。在抗蚀剂膜F1的显影处理后，一边将基板W的温度调节在恒定范围内，一边以覆盖抗蚀剂图案FP1的方式在基板的一面形成具有比抗蚀剂膜的耐蚀刻性高的耐蚀刻性的反转膜F2。
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201780009122.9有效
发明人：春本将彦;浅井正也;田中裕二;金山幸司 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-02-03 - 公布日： 2023-02-14 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：在基板(W)的被处理面上形成有包含金属成分及感光性材料的抗蚀膜之后，由边缘曝光部(41)对基板的周缘部照射光。由此，对基板的周缘部上的抗蚀膜的部分进行曝光。接着，通过由显影液喷嘴(43)对基板的周缘部供给显影液，由此对被曝光后的抗蚀膜的部分进行显影处理。由此，除去在基板的周缘部上形成的抗蚀膜的部分。然后，将基板搬送至曝光装置(15)。通过在曝光装置中对基板进行曝光处理，由此在抗蚀膜上形成曝光图案，接着通过在显影处理单元(139)中对曝光处理后的基板供给显影液，由此进行抗蚀膜的显影处理。
处理装置方法

[发明专利]显影单元、基板处理装置、显影方法及基板处理方法-CN201780008307.8有效
发明人：田中裕二;浅井正也;春本将彦;金山幸司 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-02-03 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明由旋转卡盘来保持已将含有金属的涂布液的膜曝光成规定图案的基板。利用狭缝喷嘴对由旋转卡盘所支承的基板的被处理面供给显影液。利用清洗喷嘴对被供给显影液后的基板的被处理面供给去除金属或使金属溶解的清洗液。
显影单元处理装置方法

[发明专利]膜处理单元以及基板处理装置-CN201680065516.1有效
发明人：田中裕二;浅井正也;春本将彦;金山幸司 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2016-10-27 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：在待机座的喷嘴容纳孔容纳有喷嘴。在该状态下，从多个喷出口向喷嘴的外周面喷出清洗液。由此，附着于喷嘴的涂敷液及其固化物等被溶解，从喷嘴除去。接着，从多个喷出口向喷嘴的外周面喷出金属用除去液。由此，残存于喷嘴的金属成分被溶解，从喷嘴除去。进而，从多个喷出口向喷嘴的外周面喷出纯水，从而冲洗附着于喷嘴的金属用除去液。
处理单元以及装置

[发明专利]膜处理单元、基板处理装置和基板处理方法-CN201680065775.4有效
发明人：田中裕二;浅井正也;春本将彦;金山幸司 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2016-10-27 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一边由旋转卡盘保持基板一边旋转基板，向基板喷出涂敷液。从基板向外侧飞散的涂敷液由外杯接收。为了清洗外杯，从杯清洗喷嘴喷出的清洗液通过第一引导部向外杯的内周面喷出。由此，使附着于外杯的涂敷液及其固化物等溶解，并从外杯去除。接着，从杯清洗喷嘴喷出的金属用去除液通过第二引导部向外杯的内周面喷出。由此，使残留于外杯的金属成分溶解，并从外杯去除。
处理单元装置方法

[发明专利]蚀刻装置、基板处理装置、蚀刻方法以及基板处理方法-CN201710832694.9有效
发明人：春本将彦;金山幸司;田中裕二;浅井正也 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-09-15 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供蚀刻装置、基板处理装置、蚀刻方法以及基板处理方法。在第一期间，基板旋转并向基板上供给作为低挥发液的纯水。停止喷出低挥发液后，低挥发液残留在DSA膜上广泛的区域。低挥发液不与DSA膜反应而保持在DSA膜上。在接下来的第二期间，基板旋转并向基板供给有机溶剂。供给给基板的有机溶剂与DSA膜上残留的低挥发液混合。该情况下，DSA膜上有机溶剂的挥发被抑制。
蚀刻装置处理方法以及

[发明专利]基板处理装置、膜形成单元、基板处理方法及膜形成方法-CN202110556130.3在审
发明人：田中裕二;浅井正也;春本将彦;金山幸司 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2016-04-15 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：基板处理装置具备膜形成单元、周缘部去除单元和搬送机构，膜形成单元包括：第一旋转保持部，将基板保持为水平姿势并使其旋转；涂敷液喷嘴，向由第一旋转保持部旋转的基板的被处理面喷出含金属涂敷液，周缘部去除单元包括：第二旋转保持部，将基板保持为水平姿势并使其旋转；第一去除液喷嘴，向由第二旋转保持部旋转的基板的被处理面的周缘部喷出第一去除液，膜形成单元和周缘部去除单元的至少一个还包括：第二去除液喷嘴，其向旋转的基板的被处理面的周缘部喷出用于使涂敷液溶解的第二去除液，第一去除液喷嘴在通过从第二去除液喷嘴喷出的第二去除液溶解基板的被处理面的周缘部的涂敷液后，喷出第一去除液，溶解基板的被处理面的周缘部的金属。
处理装置形成单元方法

[发明专利]曝光装置、基板处理装置、曝光方法以及基板处理方法-CN201811072678.5有效
发明人：中山知佐世;田中裕二;春本将彦;浅井正也;福本靖博;金山幸司 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-09-14 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置、基板处理装置、曝光方法以及基板处理方法。通过排气部开始排出处理室内的气体，在从开始排出气体起经过预定的时间后，通过供气部开始向处理室内供给非活性气体。或者，通过排气部排出容纳有基板的处理室内的气体，通过供气部向处理室内供给非活性气体，使具有透光板的投光部内的压力与处理室内的压力一致或者接近。在处理室内的气体中的氧浓度降低至预定的浓度的状态下，通过投光部向处理室内的基板照射真空紫外线，从而使基板曝光。
曝光装置处理方法以及

[发明专利]热处理装置、基板处理装置、热处理方法及基板处理方法-CN201710704464.4有效
发明人：春本将彦;浅井正也;田中裕二;金山幸司 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-08-16 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开热处理装置、基板处理装置、热处理方法及基板处理方法。在该处理装置的室内容纳有加热板。在该室内存在含溶剂气体的状态下，在加热板的上方位置保持形成有DSA膜的基板。由此，以不产生微相分离的温度对环境气体进行中性化。然后，在该室内存在含溶剂气体的状态下，在加热板的上表面上保持基板。由此，对基板上的DSA膜进行热处理。
热处理装置处理方法

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201680031648.2有效
发明人：田中裕二;浅井正也;春本将彦;金山幸司 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2016-04-15 - 公布日： 2021-06-11 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种可以将不同种类的处理液分离并回收的基板处理装置及基板处理方法。该基板处理装置包括：旋转卡盘，其保持基板；处理液供给单元，其对由基板保持部保持的基板的被处理面供给具有第一比重的第一处理液与具有第二比重的第二处理液；贮存部，其贮存对基板供给后的使用过的第一及第二处理液；处理液分离机构，其将贮存于贮存部的第一处理液与第二处理液基于比重而分离。以旋转卡盘保持基板。在该状态下，经由涂敷处理单元对基板的被处理面供给第一及第二处理液。第二处理液的比重小于第一处理液的比重。将对基板供给后的使用过的第一及第二处理液贮存于回收箱。经由处理液分离机构将贮存于回收箱内的第一处理液及第二处理液基于比重而分离。
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置、膜形成单元、基板处理方法及膜形成方法-CN201680031649.7有效
发明人：田中裕二;浅井正也;春本将彦;金山幸司 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2016-04-15 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的基板处理装置具有：涂敷处理单元，其通过将含有金属的涂敷液作为含金属涂敷液向基板的被处理面供给，由此在被处理面形成含金属涂敷膜；金属去除单元，其在通过涂敷处理单元来形成含金属涂敷膜后，以含金属涂敷膜残留在基板的被处理面的除周缘部以外的区域的方式，向基板的周缘部供给用于使金属溶解的去除液；以及搬送机构，其在通过涂敷处理单元来形成含金属涂敷膜后，将基板搬送至金属去除单元。通过由涂敷处理单元向基板的被处理面供给含金属涂敷液，来在被处理面形成含金属涂敷膜。通过搬送机构将形成含金属涂敷膜后的基板搬送至金属去除单元。通过金属去除单元，以含金属涂敷膜残留在基板被处理面的除周缘部以外的区域的方式对基板的周缘部供给去除液。
处理装置形成单元方法

[发明专利]衬底处理装置及衬底搬送方法-CN202011254921.2在审
发明人：桑原丈二;金山幸司 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2020-11-11 - 公布日： 2021-05-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底处理装置及衬底搬送方法。第1处理区块具备配置在上下方向上的显影处理层及传递层。因此，传递层能够连结于传载区块。另外，传载区块的衬底搬送机构将衬底从衬底缓冲器的位于特定高度位置的缓冲部朝衬底缓冲器的位于其它高度位置的缓冲部搬送。因此，传递层只要进出于与传递层的高度对应的缓冲部即可。因此，能够使传递层精简化。另外，由于传递层配置在显影处理层的上下方向，所以能够减小占据面积。
衬底处理装置方法

[发明专利]衬底处理装置及衬底搬送方法-CN201911168674.1在审
发明人：桑原丈二;金山幸司 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-11-25 - 公布日： 2020-07-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底处理装置及该衬底的搬送方法。在第1ID块(2)设有载置台(13)，在第2ID块(4)设有载置台(74)。以往，仅在第1ID块(2)设有载具载置台。因此，在去路及返路这两条路径中，在第1ID块(2)与第2处理块(5)之间搬送衬底。根据本发明，在返路中，未将衬底移回到第1ID块(2)，而将衬底移回到配置在2个处理块(3、5)之间的第2ID块(4)。因此，在返路中，第1ID块(2)与第2ID块(4)之间的第1处理块(3)的搬送工序被削减。结果，能够提高衬底处理装置(1)整体的处理量。
衬底处理装置方法

[发明专利]衬底处理装置及衬底搬送方法-CN201911260164.7在审
发明人：桑原丈二;金山幸司 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-12-10 - 公布日： 2020-07-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底处理装置及衬底搬送方法。第1 ID块(2)从载置在载置台(13)上的载具(C)取出衬底(W)，并将所取出的衬底(W)输送到6个处理层(3A～3F)中的任一个。另外，第2 ID块(4)例如将从处理层(3A)输送来的衬底(W)移回到载置在载置台(47)上的载具(C)。由此，第1 ID块(2)能够将较多的衬底(W)更迅速地搬送到配置在上下方向的6个处理层(3A～3F)。另外，同时，第2 ID块(4)能够将从配置在上下方向的6个处理层(3A～3F)输送来的多个衬底(W)更迅速地搬送到载具(C)。结果，能够提高衬底处理装置(1)的处理量。
衬底处理装置方法

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