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[发明专利]降低涂布液喷射到晶圆产生的波纹的高度的方法和装置-CN202210372132.1在审
发明人：金成昱;梁贤石;林锺吉;金在植;张成根 -专利权人：成都高真科技有限公司
申请日： 2022-04-11 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明涉及半导体器件技术领域，公开了一种降低涂布液喷射到晶圆产生的波纹的高度的方法，包括如下步骤：步骤1、产生一个向上的空气阻力；步骤2、所述空气阻力在涂布液喷射到距离晶圆的表面上方A毫米的地方与涂布液接触，以减小所述涂布液到所述晶圆的速度，本发明还公开了一种降低涂布液喷射到晶圆产生的波纹的高度的装置，包括用于垂直喷射涂布液的涂布装置，所述涂布装置为涂布液供给机构以及涂布喷嘴，所述涂布喷嘴上方的外周向侧设置有用于产生空气压力的空气发生装置。本发明通过在喷射喷涂液的时候利用空气发生装置产生空气阻力，该空气阻力与喷涂液在晶圆表面的上方接触，进而来达到减少喷涂液撞击晶圆表面所产生波纹的目的。
降低涂布液喷射到晶圆产生波纹高度方法装置

[发明专利]光刻胶输送系统-CN202011091893.7有效
发明人： 金在植;张成根;林锺吉;贺晓彬;丁明正;杨涛;李俊峰;王文武 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-10-13 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶输送系统，该光刻胶输送系统包括光刻胶供给瓶、缓冲罐和排液胶泵，其中，缓冲罐的顶部设置有进液口和排液口，进液口与光刻胶供给瓶通过进液管路连通，以使光刻胶流入；缓冲罐的底部设置有光刻胶出口，光刻胶出口用于与光刻胶喷嘴连通，以使光刻胶流入光刻胶喷嘴中；排液胶泵与排液口通过排液管路连通，以抽取缓冲罐中的空气。本发明中排液胶泵通过抽取的方式促使光刻胶进入缓冲罐，降低或避免了光刻胶中产生气泡的可能性；而且排液口设置在缓冲罐的顶部，能够将缓冲罐中的空气以及含有气泡的光刻胶抽取出去，不仅避免了浪费大量光刻胶，而且避免了后续光刻胶涂布时由于气泡造成的晶圆缺陷。
光刻输送系统

[发明专利]有机发光显示装置和制造有机发光显示装置的方法-CN202310911504.8在审
发明人： 金在植;李娟和;李濬九;丁世勳 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2018-03-09 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： H10K59/122 文献下载
摘要：本申请涉及有机发光显示装置，其包括：衬底；第一第一电极，位于衬底上；第一有机功能层，位于第一第一电极上，第一有机功能层包括第一发射层；第一第二电极，位于第一有机功能层上；第二第一电极，位于衬底上，第二第一电极与第一第一电极间隔开；第二有机功能层，位于第二第一电极上，第二有机功能层包括第二发射层；第二第二电极，位于第二有机功能层上；像素限定层，包括绝缘层并且覆盖第一第一电极的边缘和第二第一电极的边缘；以及位于像素限定层上的层，该层包含氟，并且与第一功能层间隔开以暴露像素限定层的表面的一部分，并且与第二功能层间隔开以暴露像素限定层的表面的另一部分。
有机发光显示装置制造方法

[发明专利]有机发光显示设备-CN201810166038.4有效
发明人：李濬九;金在植;金载益;李娟和;丁世勳 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2018-02-28 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H10K59/131 文献下载
摘要：公开了一种有机发光显示设备。有机发光显示设备包括第一像素电极、第二像素电极、像素限定层、第一堆叠、第一保护层、第二堆叠以及第一无机导电层，其中，像素限定层设置在第一像素电极和第二像素电极上并且暴露第一像素电极和第二像素电极的至少部分，第一保护层设置在第一像素电极的暴露的部分上，第二堆叠设置在第二像素电极的暴露的部分上。第一堆叠包括第一中间层和第一相对电极，其中，第一中间层包括发射层，第一相对电极位于第一中间层上。第一保护层设置在第一堆叠上。第二堆叠包括第二中间层和第二相对电极，其中，第二中间层包括发射层，第二相对电极位于第二中间层上。第一无机导电层设置在第二像素电极和第二堆叠之间。
有机发光显示设备

[发明专利]一种一次性预校准晶圆偏移量的方法及装置-CN202210242232.2在审
发明人：梁贤石;金成昱;林锺吉;金在植;张成根 -专利权人：成都高真科技有限公司
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明涉及半导体器件技术领域，公开了一种一次性预校准晶圆偏移量的方法，包括如下步骤：步骤1、TSU平台装载晶圆；步骤2、旋转装置对所述晶圆进行第一次旋转操作；步骤3、第一次测量所述晶圆的位置是否到位，若到位，跳转到步骤5，否则，跳转到步骤4；步骤4、通过旋转装置调整所述晶圆的位置使所述晶圆排列到预设位置；步骤5、根据所述晶圆所排列的预设位置计算最终结果，本发明还公开了一种一次性预校准晶圆偏移量的装置。本发明可以去掉定心装置对晶圆位置的校正，可以降低旋转装置升降的频率；在识别晶圆缺口后对晶圆移位调整序列变得简单。
一种一次性校准偏移方法装置

[发明专利]光刻胶收集杯清洗设备及光刻胶收集杯清洗方法-CN202011218169.6有效
发明人： 金在植;张成根;林锺吉;贺晓彬;李亭亭;刘金彪;杨涛 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-11-04 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： B08B1/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶收集杯清洗设备，该光刻胶收集杯清洗设备包括清洗液喷嘴、旋转装置、清洁组件和控制器，其中，清洗液喷嘴用于喷洒清洗液；旋转装置包括转轴和与转轴连接的旋转盘，旋转盘位于清洗液喷嘴的上方，用于将清洗液溅射到待清洗的光刻胶收集杯的内侧；清洁组件设置在旋转盘内，清洁组件设置成随旋转盘的转动伸出，以清洁光刻胶收集杯；控制器分别与转轴和清洗液喷嘴通信连接。本实施例中清洗液和清洁组件均能够对光刻胶收集杯进行清洗，提高了清洁效果和清洁效率，避免了残余光刻胶因清洗不到位导致的影响后续产品良率。
光刻收集清洗设备方法

[发明专利]有机发光设备及其制造方法-CN201811444718.4有效
发明人：丁世勋;金在植;金载益;李娟和;李濬九;郑知泳 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2018-11-29 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： H10K71/00 文献下载
摘要：提供了有机发光设备及其制造方法。所述方法包括：在基底上形成第一像素电极和第二像素电极；暴露第一像素电极和第二像素电极的上表面；形成覆盖第一像素电极和第二像素电极的边缘的像素限定层；顺序地形成第一剥离层、第一形状记忆合金层和第一光致抗蚀剂；通过使第一剥离层、第一形状记忆合金层和第一光致抗蚀剂图案化来形成暴露第一像素电极的上表面的第一开口；在第一像素电极和第一光致抗蚀剂上形成包括第一发射层的第一有机功能层；在第一开口中，使第一形状记忆合金层的端部在远离基底的水平表面的方向上变形；在第一有机功能层上方形成第一保护层；以及去除剩余的第一剥离层。
有机发光设备及其制造方法

[发明专利]有机发光显示装置和制造有机发光显示装置的方法-CN201810192912.1有效
发明人： 金在植;李娟和;李濬九;丁世勳 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2018-03-09 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： H10K59/122 文献下载
摘要：本申请涉及有机发光显示装置及制造有机发光显示装置的方法，有机发光显示装置包括衬底、第一第一电极、第一有机功能层、第一第二电极、第二第一电极、第二有机功能层、第二第二电极和自组装层，其中，第一第一电极位于衬底上，第一有机功能层位于第一第一电极上且包括第一发射层，第一第二电极位于第一有机功能层上，第二第一电极位于衬底上且与第一第一电极间隔开，第二有机功能层位于第二第一电极上且包括第二发射层，第二第二电极位于第二有机功能层上，自组装层位于第一有机功能层与第二有机功能层之间并且包含氟。
有机发光显示装置制造方法

[发明专利]涂胶机的控制方法、涂胶机的控制系统以及涂胶机-CN202010761685.7有效
发明人：张成根;林锺吉;金在植;贺晓彬;刘强;丁明正 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-07-31 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：本申请属于半导体技术领域，具体涉及一种涂胶机的控制方法、涂胶机的控制系统以及涂胶机，该涂胶机的控制方法包括获取光刻胶膜层的需求厚度，控制光刻胶流向晶圆，根据需求厚度，改变晶圆的转速。根据发明实施例的涂胶机的控制方法，在进行晶圆涂胶的过程中，控制晶圆的转速发生变化，能够实现一种光刻胶采用不同的转速进行旋转，形成不同厚度的膜层，扩大了一种光刻胶在不同的转速下所形成的膜层厚度的范围，进而减少涂胶机上所装设的光刻胶的种类，降低了成本投入。另外，通过改变晶圆的旋转速度，快速去除光刻胶中的气泡，改善线宽粗糙度。
涂胶控制方法控制系统以及

[发明专利]一种用于光刻工艺的气压控制系统及方法、涂胶显影系统-CN202010275233.8有效
发明人： 金在植;张成根;林锺吉;贺晓彬;杨涛;李俊峰;王文武 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-04-09 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开提供了一种用于光刻工艺的气压控制系统及方法、涂胶显影系统，该系统包括：外部气压检测装置，用于实时检测光刻设备外部环境的外部气压值，以及用于将外部气压值反馈给控制器；内部气压检测装置，用于实时检测风机过滤单元出口的内部气压值，以及用于将内部气压值反馈给控制器；控制器，用于利用得到的外部、内部气压值确定压差以及根据压差实时控制风机过滤单元变换器和/或风机。该方法包括：实时外部气压值和内部气压值；利用外部气压值和内部气压值确定压差；根据压差实时控制风机过滤单元变换器和/或风机。涂胶显影系统，包括气压控制系统。本公开能够实时调节涂胶显影设备内各区域的气压，具有压差调节速度快、可靠性高等优点。
一种用于光刻工艺气压控制系统方法涂胶显影系统

[发明专利]光刻胶涂布和边缘光刻胶去除装置及系统-CN202111338607.7在审
发明人：张成根;林锺吉;金在植 -专利权人：成都高真科技有限公司
申请日： 2021-11-12 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：为解决现有技术中存在的由于光刻胶的涂布和边缘光刻胶的去除在不同的设备单元中进行，提高生产规模时设备占用面积增大导致在有限的工厂面积同等生产规模的产量减小的技术问题，本发明实施例提供一种光刻胶涂布和边缘光刻胶去除装置及系统，包括：喷涂臂，设有若干个喷涂装置；以及若干个喷涂装置，用于向涂布机上的晶圆喷涂，至少有一个喷涂装置为用于去除晶圆边缘的光刻胶的EBR喷涂装置，至少有一个喷涂装置为PR喷涂装置；EBR喷涂装置设于喷涂臂上与晶圆边缘相对应的位置。从而，本发明实施例一方面提升了晶圆生产效率，另一方面可在有限的工厂面积内比现有技术更多的进行布置光刻胶涂布和边缘光刻胶去除装置，从而提高生产产能。
光刻胶涂布边缘去除装置系统

[发明专利]一种检测非正常安装晶圆的方法及装置-CN202111334046.3在审
发明人：张成根;林锺吉;金在植 -专利权人：成都高真科技有限公司
申请日： 2021-11-11 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种检测非正常安装晶圆的方法及装置，该方法包括：在固定时间段内采集晶圆轨道设备上各个烘焙单元上布置的若干温度传感器的温度数据；以每个烘焙单元中的若干温度传感器的温度数据作为一个管理单元，计算生成一个虚拟温度参数数据；根据各个管理单元计算得到的虚拟温度参数数据，计算分析得到非正常安装的晶圆。本发明把每个烘焙单元作为一个管理单元，根据每个烘焙单元上若干温度传感器的温度数据生成一个虚拟温度参数数据来管理，且若干个温度数据的标准差用互锁来设定数值，每个烘焙单元只传输一个虚拟温度参数数据，这样后续传输的数据量大幅度降低；在各个管理单元之间实现互锁，降低了互锁数量设置的安装。
一种检测正常安装方法装置

[发明专利]一种用于晶圆的光刻胶涂布系统及方法-CN202111182086.0在审
发明人：张成根;林锺吉;金在植 -专利权人：成都高真科技有限公司
申请日： 2021-10-11 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于晶圆的光刻胶涂布系统及方法，该系统包括压力泵单元，压力泵单元包括光刻胶过滤器和压力泵；光刻胶过滤器的进口接入光刻胶供给单元，光刻胶过滤器的出口连接压力泵的入口，通过光刻胶过滤器实现对光刻胶供给单元输入的光刻胶进行过滤处理；压力泵的第一出口接出至喷涂旋转单元，通过第一出口输出恒定喷涂量的光刻胶实现对晶圆进行一次光刻胶喷涂；压力泵的第二出口连接光刻胶过滤器的进口，完成一次喷涂后光刻胶的余量通过第二出口循环输出至光刻胶过滤器进行处理后，固定量的光刻胶被送至压力泵进行下一次的光刻胶喷涂，使每一次喷涂时压力泵内存储有固定量的光刻胶，进而对不同晶圆实现恒定压力的光刻胶喷涂。
一种用于光刻胶涂布系统方法

[发明专利]一种提升半导体显影质量的方法-CN202111182078.6在审
发明人： 金在植;张成根;林锺吉 -专利权人：成都高真科技有限公司
申请日： 2021-10-11 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明公开了一种提升半导体显影质量的方法，包括显影初期过程：启动倾斜机构，带动半导体晶片承载台倾斜一个角度；启动转动机构，带动半导体晶片承载体开始转动；控制喷头喷洒显影液，使得显影液能够均匀涂抹在显影区域。本发明通过在显影工艺中增加倾斜工艺，从而保证显影初期喷洒显影液时，显影液在半导体表面分布均匀。
一种提升半导体显影质量方法

[实用新型]一种光刻系统及其光刻胶自动供给装置-CN202221176412.7有效
发明人： 金在植;林锺吉;张成根 -专利权人：成都高真科技有限公司
申请日： 2022-05-16 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光刻系统及其光刻胶自动供给装置，光刻胶自动供给装置，包括供应组件和运输组件；所述供应组件包括多个承载台，所述承载台用于承载光刻机瓶；且所述承载台能够在水平方向移动；所述运输组件用于将光刻胶耗尽的光刻胶瓶从供应组件中取出或将根据光刻胶瓶上的FRID标签信息将新的光刻胶瓶运输至相应承载台上。本实用新型利用FRID自动识别光刻胶瓶的信息，并根据识别结果采用自动输送装置将其运输到供给位置进行供给。
一种光刻系统及其自动供给装置

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