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[发明专利]激光掺杂装置和半导体装置的制造方法-CN201680081317.X有效
发明人：池上浩;诹访辉;若林理 -专利权人：国立大学法人九州大学;极光先进雷射株式会社
申请日： 2016-03-24 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： H01L21/228 文献下载
摘要：激光掺杂装置具有：溶液供给系统，其对掺杂区域供给包含掺杂剂的溶液；脉冲激光系统，其输出透过溶液且包含多个脉冲的脉冲激光；第一控制部，其控制对掺杂区域照射的脉冲激光的脉冲数和掺杂区域中的脉冲激光的注量；以及第二控制部，其控制溶液的流速，以使得每次照射脉冲时在溶液内所产生的气泡从掺杂区域移开。
激光掺杂装置半导体制造方法

[发明专利]数据分析装置、半导体制造系统、数据分析方法和半导体制造方法-CN201780092708.6有效
发明人：五十岚豊;峰岸裕司;若林理 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2017-08-29 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开的数据分析装置具有：数据收集部，其从包含光源装置、曝光装置和晶片检查装置在内的多个装置分别取得各装置的分析对象的每个参数的数据，该曝光装置通过从光源装置输出的脉冲光对晶片进行曝光，该晶片检查装置进行由曝光装置曝光后的晶片的检查；图像生成部，其针对晶片，以晶片内的规定的区域为单位进行可视化，由此，对通过数据收集部从多个装置收集的多个参数的每个参数的数据分别进行图像化，生成多个装置的每个参数的多个映射图像；以及相关运算部，其针对晶片，对多个映射图像中的任意映射图像彼此进行图案匹配，求出多个装置的多个参数中的任意参数彼此的相关值。
数据分析装置半导体制造系统方法

[发明专利]窄带化气体激光装置、波长控制方法和电子器件的制造方法-CN202080099387.4在审
发明人：熊崎贵仁;若林理 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2020-05-20 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：窄带化气体激光装置具有：致动器，其使脉冲激光的中心波长变化；以及处理器，其对致动器进行控制，处理器读入包含被照射到被照射物的1个部位的脉冲激光的照射脉冲数、最短波长和最长波长在内的参数，以使得在照射脉冲数为偶数的情况下和照射脉冲数为奇数的情况下如下的第1模式和第2模式中的至少一方不同的方式设定第1模式和第2模式，并以交替进行第1模式和第2模式的方式对致动器进行控制，第1模式是使中心波长以从最短波长向最长波长接近的方式变化的模式，第2模式是使中心波长以从最长波长向最短波长接近的方式变化的模式。
窄带气体激光装置波长控制方法电子器件制造

[发明专利]波长转换装置-CN201780092681.0有效
发明人：渊向笃;若林理;佐佐木阳一 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2017-08-22 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： H01S3/10 文献下载
摘要：波长转换装置具有：A.晶体保持器，其对非线性晶体进行保持，该非线性晶体对所入射的激光进行波长转换而出射；B.第一容器，其收纳晶体保持器，包含入射窗口和出射窗口，其中，该入射窗口设置在向非线性晶体入射的激光的光路上，该出射窗口设置在从非线性晶体出射的激光的光路上；C.第二容器，其收纳第一容器；D.位置调整机构，其进行至少所述第一容器的位置调整；以及E.隔离机构，其将入射窗口和出射窗口在空间上与位置调整机构进行隔离。
波长转换装置

[发明专利]曝光方法、曝光系统和电子器件的制造方法-CN202080095262.4在审
发明人：藤井光一;若林理;大贺敏浩 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2020-03-19 - 公布日： 2022-09-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：目的是提供能够控制抗蚀剂图案的侧壁角度的曝光方法。曝光方法包含以下步骤：读入表示第1参数与第2参数的关系的数据，根据数据和第2参数的目标值决定第1参数的目标值(S201～S203)，其中第1参数是和具有第1波长的第1脉冲激光与具有比第1波长大的第2波长的第2脉冲激光的能量比率有关的参数，第2参数是与利用第1脉冲激光和第2脉冲激光来曝光抗蚀剂膜的情况下得到的抗蚀剂膜的侧壁角度有关的参数；以及根据第1参数的目标值对窄带化气体激光装置进行控制，以使其输出第1脉冲激光和第2脉冲激光，并曝光抗蚀剂膜(S205)。
曝光方法系统电子器件制造

[发明专利]窄带化装置和电子器件的制造方法-CN202080095287.4在审
发明人：藤井光一;若林理 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2020-03-19 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：窄带化装置具有：第1棱镜；第1光栅和第2光栅，它们在通过第1棱镜后的光束的光路上配置于沿第1光栅和第2光栅中的任意方的槽的方向上的不同位置；光束调整光学系统，其配置于第1光栅和第2光栅中的至少任意一个光栅与第1棱镜之间的光束的光路上，使光束的第1部分入射到第1光栅，使光束的第2部分入射到第2光栅；第1致动器，其调整第1部分入射到第1光栅的入射角；第2致动器，其调整第2部分入射到第2光栅的入射角；以及第3致动器，其通过调整光束调整光学系统中包含的至少1个光学元件的位置和姿态中的任意方，来调整第1部分与第2部分的能量比率。
窄带化装电子器件制造方法

[发明专利]激光照射装置-CN201580084314.7有效
发明人：铃木章义;谷山实;若林理 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2015-12-25 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：本公开提供一种激光照射装置，其可以具备：照射头部，包括对被照射物照射激光束的第一照射头和第二照射头；激光装置部，包括输出第一激光束的第一激光装置和输出第二激光束的第二激光装置；射束传输部，配置在激光装置部与照射头部之间的光路上，并且切换第一激光束与第二激光束的光路，以使第一激光束和第二激光束的任何一个射入第一照射头和第二照射头的任何一个；第一射束特性可变部，配置在第一激光装置与照射头部之间的光路上；以及第二射束特性可变部，配置在第二激光装置与照射头部之间的光路上。
激光照射装置

[发明专利]激光加工方法以及激光加工系统-CN201780094447.1有效
发明人：柿崎弘司;小林正和;诹访辉;若林理 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2017-10-04 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： B23K26/02 文献下载
摘要：一种激光加工方法，使用激光加工系统对相对于紫外线透明的透明材料实施激光加工，该激光加工系统具有：激光装置，其输出紫外线的脉冲激光；转印掩模，其形成有使脉冲激光透过的转印图案；以及转印光学系统，其对转印像进行转印，该转印像是通过使脉冲激光透过转印图案而形成的，且形状与转印图案对应，其中，该激光加工方法具有以下的步骤：A.定位步骤，在脉冲激光的光轴方向上进行由转印光学系统转印的转印像的转印位置与透明材料之间的相对定位，该定位使得转印位置在光轴方向上成为从透明材料的表面向透明材料的内部进入了规定的深度ΔZsf的位置；以及B.照射步骤，对透明材料照射脉冲宽度为1ns～100ns的范围且转印位置处的射束的直径为10μm以上且150μm以下的脉冲激光。
激光加工方法以及系统

[发明专利]窄带化装置和电子器件的制造方法-CN202080095303.X在审
发明人：熊崎贵仁;若林理 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2020-03-19 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：窄带化装置具有：第1棱镜和第2棱镜，它们被配置于第1棱镜和第2棱镜中的任意棱镜的波长色散方向上不同的位置；第3棱镜，其被配置于光束的光路上，扩大光束的射束宽度，使光束的第1部分入射到第1棱镜，使光束的第2部分入射到第2棱镜；光栅，其被配置为跨越通过第1棱镜后的第1部分的光路和通过第2棱镜后的第2部分的光路；第1致动器，其对第1部分入射到光栅的入射角进行调整；第2致动器，其对第2部分入射到光栅的入射角进行调整；以及第3致动器，其对第1部分与第2部分的能量比率进行调整。
窄带化装电子器件制造方法

[发明专利]曝光系统、激光控制参数的生成方法和电子器件的制造方法-CN202080095307.8在审
发明人：藤井光一;若林理 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2020-03-19 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开的一个观点的曝光系统具有：激光装置，其输出脉冲激光；照明光学系统，其将脉冲激光引导至掩模版；掩模版台，其使掩模版移动；以及处理器，其对来自激光装置的脉冲激光的输出和基于掩模版台的掩模版的移动进行控制，曝光系统对掩模版照射脉冲激光而对半导体基板进行扫描曝光。掩模版具有第1区域和第2区域，处理器根据与第1区域和第2区域各个区域对应的邻近效应特性，向激光装置指示与各个区域对应的脉冲激光的控制参数的值，以使其输出呈在各个区域中与基准的邻近效应特性之差收敛于容许范围的邻近效应特性的脉冲激光。
曝光系统激光控制参数生成方法电子器件制造

[发明专利]曝光系统和电子器件的制造方法-CN202080095315.2在审
发明人：藤井光一;若林理 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2020-03-19 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开的一个观点的曝光系统具有：激光装置，其输出脉冲激光；照明光学系统，其将脉冲激光引导至掩模版；掩模版台；以及处理器，其对来自激光装置的脉冲激光的输出和基于掩模版台的掩模版的移动进行控制。掩模版具有被配置有第1图案的第1区域和被配置有第2图案的第2区域，第1区域和第2区域分别是在相对于脉冲激光的扫描方向正交的扫描宽度方向上连续的区域，第1区域和第2区域在扫描方向上并排地配置。处理器根据第1区域和第2区域的各个区域改变脉冲激光的控制参数的值，对激光装置进行控制，以使其输出与第1区域和第2区域的各个区域对应的脉冲激光。
曝光系统电子器件制造方法

[发明专利]窄带化气体激光装置及其控制方法和电子器件的制造方法-CN202080095402.8在审
发明人：熊崎贵仁;若林理 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2020-03-19 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：窄带化气体激光装置的控制方法包含以下步骤：从外部装置接收单波长模式指令和多波长模式指令中的任意指令；以及按照指令对窄带化气体激光装置进行控制，以生成脉冲激光。
窄带气体激光装置及其控制方法电子器件制造

[发明专利]曝光系统、激光控制参数的生成方法和电子器件的制造方法-CN202080095276.6在审
发明人：藤井光一;若林理 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2020-03-19 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：对掩模版照射脉冲激光而对半导体基板进行扫描曝光的曝光系统具有：激光装置，其输出脉冲激光；照明光学系统，其将脉冲激光引导至掩模版；掩模版台；以及处理器，其对来自激光装置的脉冲激光的输出和掩模版台对掩模版的移动进行控制。掩模版包含在与扫描曝光的扫描方向正交的扫描宽度方向上混合排列有多种图案的区域，处理器对激光装置指示目标波长，以输出使与多种图案分别对应的最佳对焦位置的方差最小的波长的脉冲激光。
曝光系统激光控制参数生成方法电子器件制造

[发明专利]激光系统-CN201780091303.0有效
发明人：荒川正树;若林理 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2017-07-13 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： H01S3/10 文献下载
摘要：一种激光系统，其具有：A.固体激光装置，其输出脉冲激光，该脉冲激光的光强度分布是以光路轴为中心的旋转对称的高斯形状；B.放大器，其包含一对放电电极，并且在一对放电电极之间的放电空间中对脉冲激光进行放大；以及C.转换光学系统，其对从放大器输出的脉冲激光的光强度分布进行转换，使该光强度分布在一对放电电极的放电方向和与放电方向垂直的方向的任意方向上均为顶帽形状。
激光系统

[发明专利]脉冲宽度扩展装置和电子器件的制造方法-CN202080091363.4在审
发明人：宫本浩孝;若林理 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2020-02-27 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开的一个观点的脉冲宽度扩展装置具有偏振分束器和转印光学系统。转印光学系统具有：1/4波长镜对，其包含使脉冲激光的相位偏移1/4波长而进行反射的第一1/4波长镜和使在第一1/4波长镜反射后的脉冲激光的相位偏移1/4波长而进行反射的第二1/4波长镜；以及反射镜对，其被配置于1/4波长镜对的前后的光路或1/4波长镜对之间的光路上。转印光学系统将输入脉冲激光在偏振分束器中的像在1/4波长镜对之间的光路上等倍地转印为第一转印像，将第一转印像在偏振分束器等倍地转印为第二转印像。
脉冲宽度扩展装置电子器件制造方法