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[发明专利]一种聚酰胺类光刻胶组合物及其制备方法和应用-CN202210256457.3在审
发明人：王晓伟 -专利权人： 苏州理硕科技有限公司
申请日： 2022-03-17 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了一种聚酰胺类光刻胶组合物，其特征在于，包括如下重量份组分：聚酰胺树脂100份，感光剂5‑40份，添加剂0.5‑10份，溶剂250‑10000份，本发明采用聚酰胺树脂作为光刻胶树脂用可以大大改善光刻胶的耐热性能，提高光刻图形的热稳定性，由于聚酰胺树脂性能稳定，可以作为芯片或者平板显示器模组的组成部分保留在工艺器件中，可以起到缩短制造工艺流程，提高生产效率，同时聚酰胺具有缓和器件内部应力作用，可以大大提高器件耐热和耐冲击性能。本发明还公开了该聚酰胺类光刻胶组合物的制备方法及其应用。
一种聚酰胺光刻组合及其制备方法应用

[发明专利]聚合物、光刻胶、光刻胶层及光刻工艺-CN202210162573.9在审
发明人：王晓伟 -专利权人： 苏州理硕科技有限公司
申请日： 2022-02-22 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： C08G69/44 文献下载
摘要：本发明涉及光刻材料技术领域，特别是涉及聚合物、光刻胶、光刻胶层及光刻工艺。本发明通过采用式I所示的聚合物作为光刻胶原料，并限定其重均分子量在一定范围内，相较于传统的酚醛树脂等树脂原料，其具有更好的耐热性和稳定性，制得的光刻胶层能适用于更苛刻的器件加工条件；其在碱性显影液中的溶解度适中，在光刻胶常用溶剂中溶解度较好，能很好地平衡溶解度的问题，较传统技术能成像更好、更精细，且生产效率更高。
聚合物光刻工艺

[发明专利]聚合物、含有此聚合物的光刻胶及其应用-CN202111597353.0在审
发明人：王晓伟 -专利权人： 苏州理硕科技有限公司
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： G03F7/037 文献下载
摘要：本发明提供了一种聚合物、含有此聚合物的光刻胶及其应用，聚合物的结构为：其中：其中：R1选自或单键；R2选自‑H、C1～C10卤代烃基、C6～C10芳基或取代或未被取代的C1～C10直链或环状杂烷基；R4选自单键、‑O‑、C1～C10卤代烃、C6～C10芳基或取代或未被取代的C1～C10直链或环状杂烷基；R3分别独立地选自‑H或‑OH；n为10～110的整数；使用上述聚合物在制备负性光刻胶时会大幅度提高光刻胶的耐高温性，含有此聚合物光刻胶的分解温度高达250℃，可提高全波段光具有良好的目标线宽成像，可有效获得负性光刻图形以及提高光敏化效果。
聚合物含有光刻及其应用

[发明专利]光刻胶下层材料组合物及其制备方法、光刻胶下涂层-CN202111618210.3在审
发明人：王晓伟 -专利权人： 苏州理硕科技有限公司
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明涉及光刻材料技术领域，特别是涉及光刻胶下层材料组合物及其制备方法、光刻胶下涂层。本发明通过采用具有式I所示的重复单元，且重均分子量为1000Da～50000Da的聚合物作为光刻胶下层材料组合物的组分，并控制每个重复单元中的羟基数目，可以使该聚合物具有合适的碱溶性，形成涂层后在碱性显影液中具有合适的溶解度，能在30～150秒的最佳显影时间范围内部分溶解，从而与其上层的光刻胶层共同形成易于剥离的结构；此外，该组合物形成的涂层在光刻胶常用溶剂中溶解性差，因此与光刻胶层具有较好的粘接度，不易在处理过程中出现与光刻胶分离的情况，因此不会对光刻图案的精细程度造成负面影响。
光刻下层材料组合及其制备方法涂层

[发明专利]正性光刻胶、光刻胶层及其制备方法、光刻工艺-CN202210167588.4在审
发明人：王晓伟 -专利权人： 苏州理硕科技有限公司
申请日： 2022-02-23 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明涉及光刻材料技术领域，特别是涉及一种正性光刻胶、光刻胶层及其制备方法、光刻工艺。本发明通过选用聚酰胺作为原料，并在其芳环上修饰羟基，以调整聚酰胺在光刻胶溶剂中的溶解性，且可以提供与交联剂反应的位点。聚酰胺树脂与交联剂的反应产物溶解性下降，被固化于基材表面形成胶膜；光刻过程中，曝光部分的光酸发生剂产生光酸，使得架桥解离，再次变成可以被碱性显影液洗去的聚酰胺和交联剂，从而使未曝光部分的图案得以保留。由于聚酰胺与交联剂形成的架桥作用力较弱，即使是较弱的光酸产生剂也能适用于本发明的方案，从而拓宽了光刻胶成品的应用范围；而且，由于光刻胶结构中引入了聚酰胺，光刻胶成品膜的耐热性能有明显的提升。
光刻及其制备方法工艺

[发明专利]一种光刻胶组合物及应用-CN202210050044.X在审
发明人：王晓伟 -专利权人： 苏州理硕科技有限公司
申请日： 2022-01-17 - 公布日： 2022-04-15 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻胶组合物及应用，该光刻胶组合物包括：聚酰胺酸树脂，重氮萘醌磺酸脂类感光剂和添加剂；聚酰胺酸树脂具有如式(1)或式(2)所示的结构单元，式(1)：式(2)：其中，R1和R2各自独立地选自如式(3)所示的结构，式(3)：‑O‑R11‑(OH)n。本发明通过羟基苯甲醇进行酯化得到的聚酰胺树脂构成的光刻胶组分，可以有效的进行光刻胶成形，而且由于聚酰胺酸树脂良好的耐热性能，光刻胶图形的耐热性也提高到300℃以上，耐热性能良好。
一种光刻组合应用

[实用新型]一种光刻胶供给管路清洗装置-CN202022439348.4有效
发明人：王延安;王晓伟 -专利权人： 苏州理硕科技有限公司
申请日： 2020-10-28 - 公布日： 2021-07-02 - 主分类号： B08B9/032 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光刻胶供给管路清洗装置，涉及集成电路技术领域，解决了目前对光刻胶供给管路清洗后，管路的内壁会附着残留的清洗液，从而影响供给管路清洗后首次使用的问题，其技术方案要点是：包括清洗仓，所述清洗仓中设置有出水泵，出水泵的输出端设置有延伸至清洗仓外部的清洗管；还包括干燥仓，所述干燥仓内设置有热风机和抽风机，所述热风机和抽风机的输出端分别设置有热风管和抽风管；所述热风管和抽风管的端部均设置有连接结构；达到提高整体装置实用性的效果。
一种光刻供给管路清洗装置

[实用新型]一种光刻胶回收过滤装置-CN202021814682.7有效
发明人：范筱笛;王晓伟 -专利权人： 苏州理硕科技有限公司
申请日： 2020-08-26 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： B01D33/11 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光刻胶回收过滤装置，涉及光刻胶回收技术领域，解决了现有技术中光刻胶的过滤过程费时费力，导致光刻胶回收效率低的问题，其技术方案要点是：包括开口同侧设置的过滤箱和回收瓶，回收瓶位于过滤箱的内部，过滤箱的开口端转动连接有箱盖，箱盖的内部设置有电机；过滤箱的内壁固接有环状挡板，环状挡板的底端通过多根连接杆设置有承重台；回收瓶的开口端与低端均设置有方形的限位板，限位板的上端面设有方形槽；限位板设置有与回收瓶内部相通的进料孔；回收瓶套接有与限位板插接配合的过滤件，过滤件的底端与承重台抵触；过滤箱的底端设置空腔，空腔内设置有与环状挡板插接配合的收集瓶；达到提高光刻胶的过滤效率的效果。
一种光刻回收过滤装置

[发明专利]负性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法-CN202011598952.X在审
发明人：王晓伟 -专利权人： 苏州理硕科技有限公司
申请日： 2020-12-29 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了一种负性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法，该负性光刻胶组合物包括：组分(1)：含有多个重复单元的树脂，所述树脂的重复单元中含有羟基基团；组分(2)：自由基发生剂；组分(3)：交联剂，交联剂采用含硅氧烷基的交联剂。本发明的负性光刻胶组合物采用含硅氧烷基的交联剂，负性光刻胶的成像性能基本无变化，但含硅氧烷的交联剂却在成像图形方面展现了良好的耐热性能，经130℃下烘烤150秒后烘后图形形状几乎不变，形状保持良好。
光刻组合形成图案方法

[实用新型]一种光刻胶软烘干装置-CN202022439578.0有效
发明人：范传新;王晓伟 -专利权人： 苏州理硕科技有限公司
申请日： 2020-10-28 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光刻胶软烘干装置，涉及光刻设备技术领域，解决了目前涂胶晶片在烘箱内烘干时，涂胶晶片受热不均匀，造成烘干不彻底，使得薄膜与垫底的粘附度不足，同时部分晶片热板直接接触加热时，极易造成晶片爆裂，造成成品率底下的问题，其技术方案要点是：包括开口设置的烘箱主体，烘箱主体开口的两端对称设置有可将烘箱主体的开口封住的两个箱盖；烘箱主体的内部设置有隔温层，隔温层的顶端在两个箱盖合上时与箱盖的端部相抵触；烘箱的底端内壁和两个箱盖的下端面分别设置有位于烘干仓和冷却仓内部的加热器和冷却器；烘箱主体的内部还水平设置有与隔温层转动连接的转盘；达到提高产品成品率的效果。
一种光刻烘干装置

[实用新型]一种均匀布料光刻胶涂布吸头-CN202022445170.4有效
发明人：杨江兵;王晓伟 -专利权人： 苏州理硕科技有限公司
申请日： 2020-10-28 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种均匀布料光刻胶涂布吸头，涉及光刻胶涂布技术领域，解决了目前涂布吸头与晶圆定位不精准，以使在甩胶过程中各个位置离心力不均匀而导致光刻胶在晶圆的端面涂布不均匀，产生边缘锯齿现象的问题，其技术方案要点是：包括吸头主体，所述吸头主体包括由下至上依次设置的底盘和托盘，所述底盘和托盘均为圆盘状，且底盘和托盘的圆心重合；所述托盘的内部设置有安装腔，且托盘的上端面设置有开口；所述安装腔内设置有定位机构；所述底盘和托盘贯穿设置有通孔；达到降低操作难度和提高工作效率的效果。
一种均匀布料光刻胶涂布吸头

[实用新型]一种流量可控光刻胶涂布装置-CN202021451245.3有效
发明人：闵书珍;王晓伟 -专利权人： 苏州理硕科技有限公司
申请日： 2020-07-21 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种流量可控光刻胶涂布装置，涉及显示技术领域，解决了现有技术中，光刻胶在涂布时，流速控制不准确，导致降低工作人员工作效率的问题，其技术方案要点是：包括排料泵，排料泵通过输送管连接有控流件，输送管一端与排料泵的输出端连接，另一端与控流件的输入端连接；控流件包括两端开口设置的盒体和位于盒体内部的调节件；盒体两侧壁对称设有与调节件插接的条形槽；调节件包括两插接件，插接件由两块三角形卡板重合拼接构成，且两卡板之间形成V形口结构，两个插接件相互拼接，并将两个V形口结构封闭形成位于调节件中部的排流孔；调节件设有控制排流孔大小的调节机构；达到提高工作人员的工作效率和降低成本的效果。
一种流量可控光刻胶涂布装置

[发明专利]一种干膜光刻胶用显影液及其制备方法-CN202010929319.8在审
发明人：王晓伟 -专利权人： 苏州理硕科技有限公司
申请日： 2020-09-07 - 公布日： 2020-11-20 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种干膜光刻胶用显影液及其制备方法，所述显影液由包括如下重量百分比的组分构成：碱源0.8％～5％、离子型表面活性剂0.05％～0.3％，余量为水；本发明显影液中通过加入离子型表面活性剂能够降低水的表面张力，能够促进显影液进入图形之间，能够充分溶解光刻胶树脂；此外，显影结束后，离子型表面活性剂能够附着于光刻胶表面，当用纯水清洗时，纯水能够顺利进入图形之间的空白区域，进而能够彻底的去除光刻胶残余物，进而能够大大提高制备芯片和面板的良品率。
一种光刻显影液及其制备方法

[发明专利]聚酰亚胺光刻胶及其使用方法-CN202010553260.7在审
发明人：王晓伟 -专利权人： 苏州理硕科技有限公司
申请日： 2020-06-17 - 公布日： 2020-09-29 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及一种聚酰亚胺光刻胶及其使用方法。所述聚酰亚胺光刻胶以重量份计，包括如下原料组分：聚酰亚胺树脂100份、光酸发生剂0.5～5份，及热交联剂5～10份；其中，所述聚酰亚胺树脂的制备方法包括如下步骤：将二胺单体和二酐单体进行聚合反应；对所述聚合反应所得产物中的羧基进行酯化；其中，所述二胺单体和/或所述二酐单体的结构中包含酚羟基，所述二胺单体与二酐单体的摩尔比为0.5～1：1。该聚酰亚胺光刻胶既可以用于传统的g‑h‑i线、g线和i线，也可以通过感光剂的改变用于短波长的KrF和ArF光源，实现更高的解像度，适用面宽。
聚酰亚胺光刻及其使用方法

[发明专利]一种酚醛树脂光刻胶组合物及其制备方法-CN202010448326.6在审
发明人：王晓伟 -专利权人： 苏州理硕科技有限公司
申请日： 2020-05-25 - 公布日： 2020-08-14 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：本发明公开了一种酚醛树脂光刻胶组合物及其制备方法，涉及光刻胶制备领域，所述的酚醛树脂光刻胶组合物包括如下重量份数的原料组分：硅氧烷酚醛树脂5‑15份、重氮萘醌磺酸酯类感光剂2‑3份、流平剂0.2‑0.4份、交联剂0.5‑1份、溶剂50‑100份；所述的硅氧烷酚醛树脂的结构式如式1所示。式1：式1中，R1是C1‑C6直链或支链烷基、C1‑C6甲氧基、羧基、羟基、氧代、芳香基和硝基中的一种；R2是C1‑C6直链或支链烷基、C1‑C6甲氧基、羧基、羟基、氧代、芳香基和硝基中的一种；R3是C1‑C6直链或支链烷基、C1‑C6甲氧基、羧基、羟基、氧代、芳香基和硝基中的一种；m＞80％，n≤5％，5％＜p＜10％。
一种酚醛树脂光刻组合及其制备方法

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