专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]曝光装置及曝光方法-CN03121815.6有效
  • 白户章仁;白数广;加藤正纪 - 尼康株式会社
  • 2003-04-10 - 2003-10-29 - G03F7/22
  • 本发明提供可将投影光学系统的成像位置及像面高精度且连续地变更调整、精度良好地曝光处理的曝光装置及曝光方法。曝光装置(EX)是一种一面将由曝光光照明的光罩(M)和感光基板(P)同步移动一面将光罩M的图案像通过投影光学系统(PL1~PL5)投影曝光于感光基板(P)的扫描型曝光装置,在曝光光的光路上具备有使图案的像面的位置在(Z)轴方向调整,同时调整图案像的像面倾斜的像面调整装置(10)。
  • 曝光装置方法
  • [发明专利]曝光装置-CN02108207.3无效
  • 白数广;木内徹 - 尼康株式会社
  • 2002-03-27 - 2002-11-13 - G03F7/20
  • 一种曝光装置可高精确度地维持光罩与感光基板之间的平行度,并将光罩上的图案正确地投影曝光于感光基板上。由照明光学投影系统(30)照明光罩(10)上所形成的图案再经由投影光学系统(40)投影于感光基板(20)上且光罩(10)与感光基板(20)相对于投影光学系统(40)朝所定的扫描方向进行同步扫描而使图案曝光于感光基板(20)上的曝光装置(1)具有位于光罩(10)上方且可由负压将前述光罩朝上方吸引的吸引装置(50)。吸引装置(50)配置于照明光学系统(30)的附近,且具有与光罩对向的多个吸引垫(51A~51E)。
  • 曝光装置

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