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- [发明专利]曝光装置-CN02108207.3无效
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白数广;木内徹
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尼康株式会社
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2002-03-27
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2002-11-13
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G03F7/20
- 一种曝光装置可高精确度地维持光罩与感光基板之间的平行度,并将光罩上的图案正确地投影曝光于感光基板上。由照明光学投影系统(30)照明光罩(10)上所形成的图案再经由投影光学系统(40)投影于感光基板(20)上且光罩(10)与感光基板(20)相对于投影光学系统(40)朝所定的扫描方向进行同步扫描而使图案曝光于感光基板(20)上的曝光装置(1)具有位于光罩(10)上方且可由负压将前述光罩朝上方吸引的吸引装置(50)。吸引装置(50)配置于照明光学系统(30)的附近,且具有与光罩对向的多个吸引垫(51A~51E)。
- 曝光装置
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