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[发明专利]挠性覆铜板的制备方法-CN201711350693.7在审
发明人：由龙 -专利权人：深圳科诺桥科技股份有限公司
申请日： 2017-12-15 - 公布日： 2018-12-28 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供了一种挠性覆铜板的制备方法，所述挠性覆铜板包括基材膜层，设置在所述基材膜层至少一表面的溅射层，和在所述溅射层的表面设置的用于导电的铜箔，且所述铜箔设置在所述溅射层远离所述基材膜层的表面，且所述挠性覆铜板的制备方法，包括以下步骤：提供基材膜层，对所述基材膜层的表面进行电晕处理，得到表面改性基材膜层；在所述表面改性基材膜层表面磁控溅射法沉铜制备溅射层；在所述溅射层表面电镀沉铜，制备铜箔，其中，所述电镀沉铜的方法为：采用碱铜沉淀法在溅射层上形成第一电镀铜箔后，采用酸铜沉淀法在所述第一电镀铜箔上形成第二电镀铜箔。
溅射层铜箔基材膜层制备挠性覆铜板电镀沉铜表面改性基材沉淀法磁控溅射法表面电镀表面设置电晕处理膜层表面导电碱铜膜层酸铜

[发明专利]挠性覆铜板的制备方法-CN201711350707.5在审
发明人：由龙 -专利权人：深圳科诺桥科技股份有限公司
申请日： 2017-12-15 - 公布日： 2018-12-28 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供了一种挠性覆铜板的制备方法，所述挠性覆铜板包括基材膜层，设置在所述基材膜层至少一表面的溅射层，和在所述溅射层的表面设置的用于导电的铜箔，且所述铜箔设置在所述溅射层远离所述基材膜层的表面，且所述挠性覆铜板的制备方法，包括以下步骤：提供基材膜层，对所述基材膜层的表面进行电晕处理，得到表面改性基材膜层；在所述表面改性基材膜层表面磁控溅射法沉铜制备溅射层；在所述溅射层表面电镀沉铜，制备铜箔，其中，所述电镀沉铜采用两次酸铜沉淀法实现。
基材膜层溅射层制备挠性覆铜板沉铜铜箔表面改性基材磁控溅射法表面电镀表面设置电晕处理膜层表面铜沉淀电镀次酸导电膜层

[发明专利]挠性覆铜板的制备方法-CN201711349512.9在审
发明人：由龙 -专利权人：深圳科诺桥科技股份有限公司
申请日： 2017-12-15 - 公布日： 2018-12-28 - 主分类号： C23C28/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种挠性覆铜板的制备方法，所述挠性覆铜板包括基材膜层，设置在所述基材膜层至少一表面的溅射层，和在所述溅射层的表面设置的用于导电的铜箔，且所述铜箔设置在所述溅射层远离所述基材膜层的表面，且所述挠性覆铜板的制备方法，包括以下步骤：提供基材膜层，对所述基材膜层的表面进行电晕处理，得到表面改性基材膜层；在所述表面改性基材膜层表面磁控溅射法沉铜制备溅射层；在所述溅射层表面电镀沉铜，制备铜箔，其中，所述电镀沉铜采用两次碱铜沉淀法实现。
基材膜层溅射层制备挠性覆铜板沉铜铜箔表面改性基材磁控溅射法表面电镀表面设置电晕处理膜层表面铜沉淀电镀次碱导电膜层

[发明专利]一种粘胶剂、其制备方法、其使用方法、屏光膜及FPC-CN201810547561.1在审
发明人：由龙;曾娜;顾婧文 -专利权人：深圳科诺桥科技股份有限公司
申请日： 2018-05-31 - 公布日： 2018-11-30 - 主分类号： C09J201/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种粘胶剂、其制备方法、其使用方法、屏光膜及FPC，涉及FPC领域，该粘胶剂包括如下重量百分比的原料组成：橡胶10％‑15％、阻燃剂10％‑12％、固化剂3％‑5％、离子捕捉剂0.05％‑0.1％、抗氧化剂0.1％‑0.5％、促进剂0.1％‑0.5％、树脂15％‑20％、碳粉30％‑40％和稀释剂6.9％‑31.75％。本发明的FPC采用了粘胶剂制成的屏光膜，缩短了FPC的制造工序，减少人力成本，FPC的总厚度降低，屏光膜为FPC屏蔽信号和抗干扰，能遮住不必要的光线，大大提高了对FPC线路设计的保护。
粘胶剂光膜制备稀释剂离子捕捉剂重量百分比厚度降低抗氧化剂屏蔽信号人力成本线路设计原料组成制造工序抗干扰促进剂固化剂阻燃剂树脂碳粉遮住橡胶

[发明专利]一种遮光膜及FPC-CN201810547564.5在审
发明人：由龙;曾娜;顾婧文 -专利权人：深圳科诺桥科技股份有限公司
申请日： 2018-05-31 - 公布日： 2018-11-06 - 主分类号： C09J163/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种遮光膜，涉及FPC领域，包括黑色PI层、黑胶层和铜箔，所述黑色PI层、黑胶层和铜箔采用粘胶剂依次涂布粘合，所述粘胶剂包括如下重量百分比的原料组成：橡胶10％‑15％、阻燃剂10％‑12％、固化剂3％‑5％、离子捕捉剂0.05％‑0.1％、抗氧化剂0.1％‑0.5％、促进剂0.1％‑0.5％、树脂15％‑20％、碳粉30％‑40％和稀释剂6.9％‑31.75％。本发明还公开了一种FPC。该遮光膜和FPC具有良好的屏蔽信号效果和抗干扰性能，能遮住不必要的光线。
遮光膜黑胶层粘胶剂铜箔稀释剂抗干扰性能离子捕捉剂重量百分比抗氧化剂屏蔽信号原料组成促进剂固化剂阻燃剂粘合树脂碳粉遮住橡胶

[发明专利]一种枝状导电胶、其制备方法、其使用方法、屏蔽薄膜及FPC-CN201810547705.3在审
发明人：由龙;赵伟业 -专利权人：深圳科诺桥科技股份有限公司
申请日： 2018-05-31 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： C09J121/00 文献下载
摘要：本发明公开一种枝状导电胶、其制备方法、其使用方法、屏蔽薄膜及FPC。涉及FPC领域，由混合物一、混合物二和混合物三制成，所述混合物一包括如下重量百分比的原料组成：橡胶30％‑45％、双酚环氧树脂90130％‑45％、固化剂1％‑2％、促进剂1％‑2％、抗氧化剂1％‑2％、双氰胺1％‑2％和稀释剂一2％‑36％，所述混合物二包括如下重量百分比的原料组成：1um‑3um枝状粉体30％‑60％、5um‑7um枝状粉体20％‑50％和10um‑12um枝状粉体20％‑50％，所述混合物三包括如下重量百分比的原料组成：甲醇30％‑60％和稀释剂二40％‑70％。该枝状导电胶应用到FPC后，能增强板材与板材之间的剥离强度，导电性性能和对干扰信号的屏蔽效果更好。
混合物枝状重量百分比原料组成导电胶粉体稀释剂屏蔽薄膜制备双酚环氧树脂导电性干扰信号抗氧化剂屏蔽效果促进剂固化剂双氰胺甲醇橡胶剥离应用

[实用新型]超薄挠性覆铜板及挠性线路板-CN201721762508.0有效
发明人：由龙 -专利权人：深圳科诺桥科技股份有限公司
申请日： 2017-12-15 - 公布日： 2018-09-21 - 主分类号： H05K1/03 文献下载
摘要：本实用新型属于线路板技术领域，尤其涉及一种超薄挠性覆铜板及挠性线路板。该超薄挠性覆铜板包括基材膜层和设置于基材膜层上用于导电的铜箔层，且基材膜层与铜箔层之间还设置有溅射层，基材膜层与溅射层相接触的表面还设有电晕层。在基材膜层与溅射层相接触的表面设有电晕层，该电晕层能够增加基材膜层的表面的附着力，以增强溅射层与基材膜层之间结合力；同时，在电晕层的表面设置的溅射层也可进一步的增加铜箔层和基材膜层之间的结合力，如此可以提高整个挠性覆铜板的剥离强度。因此，通过设置电晕层和溅射层，有效保证了挠性覆铜板的剥离强度，从而可以将铜箔层的厚度设计的更薄，使得铜箔层的厚度可以制作成小于3μm。
基材膜层溅射层挠性覆铜板电晕层铜箔层结合力附着力剥离挠性线路板线路板表面设置厚度设计导电挠性制作保证

[发明专利]可调多种影响因子的藻类养殖设备及调节方法-CN201610207095.3在审
发明人：潘依雯;樊炜;刘淑霞;徐驰骋;由龙;江宗培;张朝晖;孙振涛 -专利权人：浙江大学
申请日： 2016-04-01 - 公布日： 2016-08-17 - 主分类号： A01G33/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种可调多种影响因子的藻类养殖设备及调节方法，包括LED灯、培养釜支架、震动台、浊度计、培养釜、营养盐存放桶、蠕动泵、单片机；其中，所述培养釜的顶部具有培养釜上端盖；所述培养釜的底部具有培养釜下端盖；所述LED灯和浊度计均安装在培养釜内；所述培养釜通过培养釜支架安装在震动台上；所述蠕动泵的进水口通过管路与营养盐存放桶相连，出水口通过管路与培养釜相连；所述LED灯、浊度计和蠕动泵均与单片机相连。本发明为微藻的研究提供了一种可调控多种影响因子，可实现多种藻类培养模式的实验室培养装置。
可调多种影响因子藻类养殖设备调节方法

[实用新型]防止成膜热损伤的卷取式ITO成膜装置-CN201520826715.2有效
发明人：由龙;黄振革 -专利权人：山东金鼎电子材料有限公司
申请日： 2015-10-23 - 公布日： 2016-03-09 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本实用新型公开一种防止成膜热损伤的卷取式ITO成膜装置包括密封腔体，以及设置于密封腔体内的放料辊、卷取辊、溅射主辊、靶材，所述放料辊及卷取辊分别位于密封腔体内两侧，所述溅射主辊处于放料辊与卷取辊之间的下方。本实用新型在现有技术的基础上通过对溅射主辊内部设水循环系统，使溅射主辊和第一收料导辊与地线相连接，在卷取辊旁设一除静电装置，增加张力摆辊和展平辊等技术改良，有效地减少热损伤、变形、电击人体等现象的发生，使ITO薄膜的生产过程更加安全、高效，其产品更加美观，提高优品率。
防止成膜热损伤卷取 ito 装置

[实用新型]一种改善靶材结瘤的ITO薄膜生产装置-CN201520480160.0有效
发明人：耿国凌;由龙;陈帅;王洪浜;邹威 -专利权人：山东金鼎电子材料有限公司
申请日： 2015-07-06 - 公布日： 2016-03-02 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：一种改善靶材结瘤的ITO薄膜生产装置，包括密封腔体，以及设置于密封腔体内的放卷辊、收卷辊、镀膜主辊与靶材，放卷辊与收卷辊分别位于密封腔体内两侧，镀膜主辊处于收卷辊与放卷辊之间的下方，所述靶材包括有第一靶材与第二靶材，分别设于镀膜主辊左右两边的密封腔体壁面上。本实用新型通过将靶材都设于密封腔体壁面上，利用氧化物自身的重量和密封腔体内气流的流动，使得氧化物溅落在无效溅射区，减少了溅射结瘤，提高ITO薄膜透过率，降低雾度和表面电阻，使产品性能更稳定，并且提高了靶材的利用率，降低了工人对靶材的清洁次数，节约了生产成本和生产时间。
一种改善靶材结瘤 ito 薄膜生产装置

[发明专利]防止热损伤的ITO薄膜制造方法及其制造装置-CN201510696014.6在审
发明人：由龙;黄振革 -专利权人：山东金鼎电子材料有限公司
申请日： 2015-10-23 - 公布日： 2016-01-27 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明公开一种防止热损伤的ITO薄膜制造方法及其制造装置，包括基材，所述基材在真空腔室内从放料辊出发，绕过溅射主辊，在溅射主辊处经靶材溅射形成ITO薄膜，最后到达收卷辊收卷。本发明在现有技术的基础上通过增加张力摆辊和展平辊展平基材，使基材与溅射主辊完全接触，对溅射主辊内部设水循环系统带走溅射中产生的热量，使溅射主辊和第二收料导辊与地线相连接带走部分电荷，在卷取辊旁设一除静电装置除去静电等技术改良，有效地减少热损伤、变形、电击人体等现象的发生，使ITO薄膜的生产过程更加安全、高效，其产品更加美观，提高优品率。
防止损伤 ito 薄膜制造方法及其装置

[发明专利]ITO薄膜溅射靶材的清洁方法-CN201510391872.X在审
发明人：耿国凌;由龙;陈帅;王洪浜;邹威 -专利权人：山东金鼎电子材料有限公司
申请日： 2015-07-06 - 公布日： 2015-11-18 - 主分类号： B08B1/00 文献下载
摘要：本发明公开一种ITO薄膜溅射靶材的清洁方法，包括如下步骤：(1)先采用吸尘器将大颗粒物吸除干净；(2)采用相应目数的砂纸对靶材溅射面进行打磨，打磨方向顺应靶材溅射面形成有的跑道的方向，去除溅射面的氧化物和杂质；(3)采用吸尘器将靶材的溅射面上由于砂纸打磨而产生的颗粒物和灰尘吸除干净；(4)采用无尘布蘸取少量酒精对靶材的溅射面进行擦拭清洁，除去没有完全吸除的灰尘；(5)重复步骤(4)，直至无尘布表面只有轻微变色。通过采用以上步骤可有效清除溅射靶材表面氧化物、杂质和粉尘，进而可减少ITO薄膜生产中靶材表面结瘤，减少对靶材的清洁次数，提高生产效率，也提高靶材的利用率，降低生产成本。
ito 薄膜溅射清洁方法

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