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[发明专利]一种纳米缝的模板对准压印制备工艺-CN201110191568.2有效
发明人：邵金友;丁玉成;刘红忠;田洪淼;李祥明;李欣 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2011-07-11 - 公布日： 2012-01-18 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：一种纳米缝的模板对准压印制备工艺，先进行刚性衬底、柔性材料以及刚性材料三层结构的制备，然后采用模板进行对准压印，根据不同的纳米缝结构制备相应的压印模板，采用对准工艺使模板在需要产生纳米缝的位置处施加外在压力进行压印，最后利用第二平板二次对准施压，使断裂错位的薄膜材料上的纳米缝对齐，进一步减小纳米缝的间距，采用纳米缝的模板对准压印，导致柔性材料层变形，顶层刚性材料薄膜断裂，形成单个纳米缝或是纳米缝阵列，可以有效的突破常规纳米缝制备工艺中复杂的工艺流程以及昂贵的加工设备，能够低廉地制备纳米缝结构，可以广泛地应用在SED显示器以及分子器件等方面。
一种纳米模板对准压印制备工艺

[发明专利]一种电场诱导液溶胶微复型的工艺-CN201110193098.3有效
发明人：邵金友;丁玉成;田洪淼;刘红忠;李祥明;李欣 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2011-07-11 - 公布日： 2012-01-18 - 主分类号： B29C67/06 文献下载
摘要：一种电场诱导液溶胶微复型的工艺，利用光刻工艺制造出具有一定图形结构的导电模板，在其表面制备一层保护层，选择导电材料作为基材，利用有机溶剂清洗其表面，然后施加压力将处理好的导电模板紧压在基材上，导电模板的支撑部分接触基材，将导电模板与基材置于液溶胶环境中，外接直流电源，在液溶胶中产生相应的电场分布，带电的溶胶颗粒在电场作用下定向移动，进而与基材接触，失去电性沉积成型，得到成型微纳结构，最后除去多余的液溶胶，脱去导电模板，以80-160℃后烘得到的成型微纳结构，本发明能够实现与模板图形对应的微纳结构复型，可广泛应用于各种MEMS/NEMS器件的加工。
一种电场诱导溶胶微复型工艺

[发明专利]一种用于氢气检测的阵列化气敏传感器结构-CN201110193151.X有效
发明人：丁玉成;邵金友;刘红忠;田洪淼;黎相孟;缪林林 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2011-07-11 - 公布日： 2012-01-11 - 主分类号： G01N27/00 文献下载
摘要：一种用于氢气检测的阵列化气敏传感器结构，在刚性基材表面依次制备柔性材料、过渡层、Pd材料纳米缝电极，Pd材料纳米缝电极具有阵列化排列的特性，Pd材料纳米缝电极至少包含两种以上不同的平面电极间隙，平面电极间隙的宽度值符合等差数列，且间隙差值等于Pd材料纳米缝电极的最小宽度，间隙宽度相同的Pd材料纳米缝电极并联起来，构成一组氢气检测回路，利用间隙宽度最小的Pd材料平面电极构成氢气检测回路提高传感器的灵敏度，利用利用间隙宽度最大的Pd材料平面电极构成氢气检测回路提高传感器的测量范围，解决传统氢传感器无法同时兼顾灵敏度和测量范围的难题。
一种用于氢气检测阵列化气敏传感器结构

[发明专利]一种电场诱导凸形界面二维光子晶体的制备工艺-CN201110192967.0无效
发明人：丁玉成;邵金友;刘红忠;田洪淼;李祥明;李欣 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2011-07-11 - 公布日： 2012-01-04 - 主分类号： G02B6/13 文献下载
摘要：一种电场诱导凸形界面二维光子晶体的制备工艺，先进行诱导模板的制备，再进行基材的选择及处理，然后进行电场诱导光子晶体功能材料流变成型，最后进行聚合物材料的固化及后处理，从而得到具有一定曲率的凸形界面二维光子晶体结构，可以广泛地应用在芯片实验室、高电容解耦式电容器、太阳能电池、平板式显示器等方面。
一种电场诱导界面二维光子晶体制备工艺

[发明专利]一种微纳复合结构的微喷印与介电泳力压印成形方法-CN201110192966.6无效
发明人：丁玉成;邵金友;刘红忠;李祥明;田洪淼;黎相孟 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2011-07-11 - 公布日： 2012-01-04 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：一种微纳复合结构的微喷印与介电泳力压印成形方法，先加工导电模具，再进行聚合物微喷印，然后进行流体介电泳填充，最后固化并脱模，即可在透明导电衬底上得到微纳复合结构的阵列，本发明能够实现在微液滴聚合物上复形出纳米级结构，进而实现微纳米复合结构的简单快速制造。
一种复合结构微喷印电泳压印成形方法

[发明专利]一种三维微/纳结构的流体介电泳力扫描压印成形方法-CN201110192995.2无效
发明人：丁玉成;邵金友;刘红忠;李祥明;田洪淼;黎相孟 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2011-07-11 - 公布日： 2011-12-14 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种三维微/纳结构的流体介电泳力扫描压印成形方法，先加工导电模具，在模具上匀胶，再进行探针电极扫描填充，最后阻蚀胶转移，得到具有三维结构的微/纳米图案，本发明使聚合物在模具的不同位置实现不同深度的填充，能够复制出三维微/纳结构。
一种三维结构流体电泳扫描压印成形方法

[发明专利]一种利用电场诱导制造聚合物柱面微透镜的微加工方法-CN201110193099.8无效
发明人：丁玉成;邵金友;刘红忠;李欣;田洪淼;李祥明 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2011-07-11 - 公布日： 2011-11-23 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：一种利用电场诱导制造聚合物柱面微透镜的微加工方法，先在SiO2基材上加工形成透明导电栅线结构，旋涂SU-8胶，光刻显影成一圈支架，形成柱面电场等值面，再在SiO2基材的底部蒸镀导电ITO层，然后旋涂紫外光固化聚合物，再将透明模板压在紫外光固化聚合物上，使SU-8胶制成的支架压入聚合物薄膜中，再使用直流电源使平面的导电栅线结构在聚合物薄膜表面产生呈柱面的电场强度等值面，并形成柱面微透镜结构，在稳定电压值的电场下保持至聚合物流变形成柱面微透镜结构，最后采用紫外光曝光固化聚合物，脱去模板，即可得到所需的聚合物柱面微透镜阵列，本发明具有生产效率高、工艺简单、成本低的优点。
一种利用电场诱导制造聚合物柱面透镜加工方法

[发明专利]一种几何约束下的电场诱导微复型方法-CN201110150644.5有效
发明人：邵金友;刘红忠;丁玉成;田洪淼;李祥明;李欣 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2011-06-07 - 公布日： 2011-11-16 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公布了一种几何约束下电场诱导的微复型方法，该方法为：制备具有一定图形结构的模板，并进行相应的表面处理，在模板和涂覆有光固化胶的基材之间引入合适的电场，使光固化胶在电场力作用下完成微复型过程，然后用紫外线曝光固化，再采用干法氧气刻蚀进行后处理，从而制得与模板的图形结构互补的微纳结构。本发明可以广泛应用于各种微纳器件的加工，例如：芯片实验室、高电容解耦式电容器、太阳能电池、平板式显示器(OLED、SED、LCD)等。这种微复型工艺制备的图形结构与模板的图形结构相符，其特征结构尺寸为微米级至纳米级。
一种几何约束电场诱导微复型方法

[发明专利]表面传导电子发射平板显示器件的电子发射源制作方法-CN200910022564.4无效
发明人：王莉;丁玉成;陈邦道;樊帆;田洪淼 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2009-05-15 - 公布日： 2009-10-14 - 主分类号： H01J9/02 文献下载
摘要：本发明涉及表面传导电子发射平板显示器件技术，公开了一种表面传导电子发射平板显示器件的电子源发射源制作方法。该方法首先采用用湿法刻蚀的手段，结合局部氧化工艺在110面单晶硅片表面制作氧化硅纳米线阵列，在采用溅射或喷墨打印的方法在氧化硅纳米线上制作“L”形的电子发射薄膜阵列，然后采用腐蚀氧化硅纳米线，并剥离氧化硅纳米线上的电子发射薄膜，形成纳米狭隙阵列，最后制作行、列电极即可。
表面传导电子发射平板显示器件制作方法

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