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- [发明专利]一种基于三线态上转换的激光制造方法及其应用-CN202210743675.X在审
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甘棕松
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华中科技大学
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2022-06-28
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2022-09-09
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C08F2/46
- 本发明公开了一种基于三线态上转换的激光制造方法及其应用。该方法包括：根据选取的敏化剂、湮灭剂、光引发剂和聚合单体制备光敏材料；根据微纳结构的加工文件，采用激发光按预设的移动轨迹对光敏材料进行辐照，加工得到微纳结构所需的所有生长结构；其中，在各移动轨迹点处的激发光辐照作用下，敏化剂分子吸收激发光发出的光能量跃迁至三线态，湮灭剂分子吸收三线态敏化剂分子能量后发生能级跃迁至三线态，处于三线态的湮灭剂分子之间相互碰撞发生湮灭，光引发剂分子用于吸收湮灭能量后跃迁到三线态，处于三线态的光引发剂分子裂解产生活性物质，与聚合单体相互作用，引发单体固化。本发明能实现低功率、低成本和高精度的微纳结构加工。
- 一种基于三线转换激光制造方法及其应用
- [发明专利]双光束超分辨定位系统及方法-CN201810852155.6有效
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甘棕松
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武汉舒博光电技术有限公司
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2018-07-30
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2022-08-26
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G01S17/08
- 本发明涉及双光束超分辨定位系统，通过激发光与损耗光对荧光层的叠加作用，实现叠加作用于荧光材料后发出荧光的空间区域比仅有激发光时具有更小的特征尺寸，因而实现对该荧光材料更高空间分辨率的位置观察，使得当双光束的焦点中心正好落在荧光层时，光电探测器的响应强度达到峰值，当双光束的焦点中心偏离荧光层时，光电探测器对荧光的响应强度急剧降低，降低幅度大于仅有单束激发光时的响应情况，从而使得控制器控制移动装置对样品的位置迅速作出调整，进而实现比单束激发光时更精确的定位。本发明还提供一种双光束超分辨定位方法。
- 光束分辨定位系统方法
- [实用新型]一种微尺度三维细胞培养容器的激光制造设备-CN202123058088.7有效
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甘棕松
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华中科技大学
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2021-12-07
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2022-06-14
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B29C64/106
- 本实用新型涉及凝胶膜制备技术领域，具体为一种微尺度三维细胞培养容器的激光制造设备，通过破碎仓用于对树叶进行破碎形成浆液，过滤仓用于对浆液进行过滤除去残渣，离心仓用于对浆液进行离心获取清液，搅拌仓用于对添加光引发剂后的清液进行搅拌以获取前驱液；制膜组件包括注射泵、点胶头以及托盘，注射泵经由连接管与搅拌仓相连通，点胶头经由支架设于托盘的上方，注射泵用于将前驱液输送至点胶头内，点胶头用于将前驱液涂覆在旋转的托盘上；曝光组件发射的光束对前驱液进行曝光，供于被曝光的前驱液性变以形成凝胶膜。该制作设备可以采取树叶为原料，制作凝胶结构的微尺度三维细胞培养容器，扩大了细胞培养的空间，有利于细胞的分裂和生长。
- 一种尺度三维细胞培养容器激光制造设备
- [实用新型]一种天然凝胶膜的制作设备-CN202123059015.X有效
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甘棕松
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华中科技大学
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2021-12-07
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2022-06-14
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B05C5/02
- 本实用新型涉及凝胶膜制备技术领域，具体为一种天然凝胶膜的制作设备，制胶组件包括顺次连接的破碎仓、过滤仓、离心仓以及搅拌仓，破碎仓用于对树叶进行破碎形成浆液，过滤仓用于对浆液进行过滤除去残渣，离心仓用于对浆液进行离心获取清液，搅拌仓用于对添加小苏打后的清液进行搅拌以获取前驱液；制膜组件包括注射泵、点胶头以及托盘，注射泵经由连接管与搅拌仓相连通，点胶头经由支架设置于托盘的上方，以通过注射泵将前驱液输送至点胶头内，供于点胶头将前驱液涂覆在旋转的托盘上以形成凝胶膜，解决了现有的制作设备成本高、工艺复杂、环境风险大的问题。
- 一种天然凝胶制作设备
- [发明专利]一种双光束微纳光学制造方法-CN201810014541.8有效
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甘棕松
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武汉舒博光电技术有限公司
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2018-01-08
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2021-07-27
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G03F7/00
- 本发明涉及一种双光束微纳光学制造方法，其步骤包括：S1根据待辐照加工材料的材料特性提供一制造光，在制造光的辐照下待辐照加工材料的材料性能发生改变；S2根据待辐照加工材料的材料特性提供一辅助光，辅助光能够阻碍待辐照加工材料在制造光的辐照下所发生的材料性能变化；S3调控制造光和辅助光，使得制造光在待辐照加工材料上所形成的第一局域光场分布和辅助光在待辐照加工材料所形成的第二局域光场分布的焦点在空间上重合，在第一局域光场的范围内形成未被第二局域光场重合的且作用于待辐照加工材料上的加工光场。本发明的制造方法可实现更小的特征尺寸，更高的分辨率，制造出的图案和结构具有较好的力学性能。
- 一种光束光学制造方法
- [发明专利]一种投影式超分辨光学数据的写入/读出方法及装置-CN202010488820.5有效
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甘棕松
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华中科技大学
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2020-06-02
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2021-06-25
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G11B7/007
- 本发明公开了一种投影式超分辨光学数据的写入/读出方法及装置，属于光学数据存储领域。包括：选择一个存储介质和一种用于写入/读出的数据阵列格式；根据数据阵列格式向存储介质上单次投射出光斑图案，完成一个数据阵列的一次性写入/读出。投影出的光斑图案与数据阵列对应，一次投射就能将一个数据阵列全部写入/读出，仅需一次曝光时间，本发明可极大地提高写入/读出的速度。数据阵列格式所包含的内容越大，一次写入/读出的数据越多。因此，本申请可以应用于光刻、3D打印、三维微纳制造等(数据写入)各个领域，提高制造的速度；或应用在光学成像(数据读取)，例如STED显微成像等领域中，提高成像速度；或同时应用在数据存储的刻录及读取。
- 一种投影分辨光学数据写入读出方法装置
- [发明专利]一种应用于双光束光刻的光束对准系统及方法-CN201910413229.0有效
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甘棕松;骆志军;刘亚男
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华中科技大学
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2019-05-17
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2021-03-30
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G03F7/20
- 本发明公开了一种应用于双光束光刻的光束对准系统及方法，具体步骤包括：设置双光束对准系统；发射第一光束并调整所述物镜，使所述第一光束依次经第一二向色镜、第二二向色镜和所述物镜后到达上转换荧光片表面，调节探测单元的光路位置，至所述探测单元探测到的最强荧光信号处；发射所述第一光束和第二光束，调节所述第二二向色镜的位置，至所述探测单元探测到的最强荧光信号处；沿光路方向调节所述物镜的位置，至所述探测单元探测到的最强荧光信号处。本发明通过上转换荧光片激发反射的荧光信号强度来对准双光束焦点，使对准精度更高，且对准操作更为简洁迅速；同时，利用上转换荧光片的特性使成像的分辨率提高，进而使双光束对准更加准确。
- 一种应用于光束光刻对准系统方法
- [发明专利]一种高密度光刻图案处理方法-CN202010955012.5在审
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甘棕松
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华中科技大学
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2020-09-11
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2020-11-03
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G03F7/20
- 本发明公开一种高密度光刻图案处理方法，属于光刻技术领域，包括如下步骤：S1将目标高密度光刻图案分解为多个低密度光刻图案，分解后的多个低密度光刻图案形状相同或者不同，并且分解后的多个低密度光刻图案能相互拼接而还原成目标高密度光刻图案，S2采用投影式光刻方式在介质上获得多个低密度光刻图案，每一个低密度光刻图案需要一次单独曝光，S3移动多个低密度曝光图案与光刻胶材料的相对位置以最终改变多个低密度曝光图案之间的相对位置，从而由多个低密度曝光图案拼接得到目标高密度曝光图案。本发明方法可解决现有光刻技术中，采用缩短光波长的方法提高光刻分辨率所带来的一系列难题，能大幅度降低芯片制造难度和制造成本。
- 一种高密度光刻图案处理方法
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