专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种旋转靶驱动装置-CN202121940229.5有效
  • 刘佩杰 - 深圳市鼎力真空科技有限公司
  • 2021-08-18 - 2022-04-26 - C23C14/35
  • 本实用新型公开了一种旋转靶驱动装置,包括,转动轴,所述转动轴设置有两个;外套筒,所述转动轴相互靠近的一端均固定安装有外套筒,所述外套筒远离转动轴的一端开设有插槽;安装机构,所述安装机构包括固定杆、第二弹簧、安装槽和卡板,所述插槽的内部活动插接有固定杆,所述固定杆位于插槽内部的两端均开设有安装槽,所述安装槽相互远离的一端均活动插接有卡板,所述卡板位于安装槽内部的一端与安装槽之间固定安装有第二弹簧,所述卡板远离安装槽的一端与外套筒的侧壁卡合连接;本实用新型有效的解决了但是现有的旋转靶驱动装置与旋转靶不能进行快速的拆卸和安装,不满足使用需求的问题。
  • 一种旋转驱动装置
  • [实用新型]一种便于操作的磁控溅射镀膜机-CN202121392313.8有效
  • 刘佩杰 - 深圳市鼎力真空科技有限公司
  • 2021-06-23 - 2022-02-22 - C23C14/35
  • 本实用新型公开了一种便于操作的磁控溅射镀膜机,包括:底板、清洁辊、超声波清洁箱和干燥外壳,所述底板顶部通过卡接固定连接有防护外壳,所述防护外壳顶部通过卡接固定连接有顶板,所述顶板底部中央通过卡接固定连接有上防护罩,所述底板顶部中央通过卡接固定连接有下防护罩,本实用新型在进行基片准备过程中,通过超声波清洗去除基片镀膜面一侧的杂质,通过步进电机带动连接杆转动,使得基片依次通过各个清洁辊上方,通过清洁辊上方的擦镜纸对基片底部进行擦拭,通过电动油缸带动基片进入到干燥外壳内部进行干燥,整个装置自动完成磁控溅射基片前期的准备清洗工作,清洁效率高的同时,清洁效果高,防止基片人工清洁容易造成二次污染。
  • 一种便于操作磁控溅射镀膜
  • [实用新型]一种磁控溅射旋转靶-CN202121445842.X有效
  • 刘佩杰 - 深圳市鼎力真空科技有限公司
  • 2021-06-28 - 2022-02-22 - C23C14/35
  • 本实用新型公开了一种磁控溅射旋转靶,包括靶筒,靶筒的内侧上部设有固定底座,固定底座的底面两端处均设有电动调整支架,电动调整支架的下部均设有环形结构的电动环形滑轨。本实用新型中,通过固定杆对磁体组件进行固定,并使磁体组件置于靶体的内侧,而靶体通过电动夹爪进行定位和固定,而电动环形滑轨启动后能够通过电动夹爪带动靶体实现旋转,随着工作过程中,靶体的壁厚会越来越薄,靶体溅射表面与磁体组件之间的间距会越来越小,电动调整支架在靶体工作的过程中会逐渐降低靶体的位置,使得磁体组件与靶体溅射表面之间的间距位置恒定,从而避免靶体的溅射表面磁场发生变化,进而使得镀膜层的厚度保持一致,以保证的性能要求。
  • 一种磁控溅射旋转
  • [实用新型]一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机-CN202121691693.5有效
  • 刘佩杰 - 深圳市鼎力真空科技有限公司
  • 2021-07-24 - 2022-02-22 - C23C14/50
  • 本实用新型公开了一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机,包括真空镀膜机本体,所述真空镀膜机本体还包括底座、箱体和固定框,所述底座的上表面通过螺栓固定连接有箱体,所述箱体的一端铰接有密封板,所述密封板的另一侧与所述箱体通过塔扣固定连接;本实用新型通过设置有固定框、夹持块和弹簧,并且通过将镀膜件放置在两个夹持块之间的相邻面,镀膜件对夹持块产生挤压,进而对弹簧产生压缩,由于弹簧要恢复之前的状态,从而能够对夹持块产生相反的作用力,从而两个夹持块能够对镀膜件进行夹持固定,在固定时,不仅便于安装和拆卸,通过将固定框与箱体的内壁可拆卸连接,便于将夹持结构拆卸下来进行清理,给操作人员带来方便。
  • 一种提高镀膜均匀真空镀膜
  • [实用新型]一种旋转靶的表面处理装置-CN202121938499.2有效
  • 刘佩杰 - 深圳市鼎力真空科技有限公司
  • 2021-08-18 - 2022-02-22 - B24B5/04
  • 本实用新型公开了一种旋转靶的表面处理装置,包括,固定框;调节机构,所述调节机构包括第一电动推杆和第二电动推杆,所述固定框的内壁顶部两侧边缘处均固定安装有第二电动推杆,所述第二电动推杆的底部固定焊接有第一电动推杆;安装机构,所述安装机构包括固定板、安装框、弹簧、活动杆、滑动板和抵压板,所述第一电动推杆远离固定框内壁的一端固定安装有固定板,所述固定板的一侧并位于第一电动推杆的两端均固定安装有安装框,本实用新型有效的解决了现有的旋转靶的表面处理装置在利用砂纸进行打磨时,不便于与将砂纸进行更换,同时不能适用于不同尺寸的靶材,不满足使用需求的问题。
  • 一种旋转表面处理装置
  • [实用新型]一种真空镀膜机用观察窗口清理装置-CN202121943573.X有效
  • 刘佩杰 - 深圳市鼎力真空科技有限公司
  • 2021-08-19 - 2022-02-22 - B08B1/00
  • 本实用新型公开了一种真空镀膜机用观察窗口清理装置,包括底座、箱体、清理板,所述底座的上表面固定连接有箱体,所述箱体的上表面开设有进水口,所述箱体的一侧密封连接有出水管;本实用新型通过设置有第二电动伸缩杆、水泵和清理板,并且从进水口向箱体中加入清洗水和清洗剂,混合成清洗液,通过控制器打开水泵和第二电动伸缩杆,水泵将清洗液从箱体中抽出,并经过第一连接管、第二连接管和清理板,并从开孔中喷出,同时第二电动伸缩杆带动清理板上下运动,进而利用清理板上的刷毛能够对不同高度的观察窗口进行清理,不仅降低了工人的劳动量,并且能够对不同安装高度的观察窗口进行清理,进一步给操作工人带来方便。
  • 一种真空镀膜观察窗口清理装置
  • [实用新型]一种真空镀膜机的靶材保护结构-CN202121949923.3有效
  • 刘佩杰 - 深圳市鼎力真空科技有限公司
  • 2021-08-19 - 2022-02-22 - C23C14/35
  • 本实用新型公开了一种真空镀膜机的靶材保护结构,包括:防护罩、转盘、支架和电动旋转平台,所述转盘底部中央通过卡接有电动旋转平台,所述防护罩一端两侧内壁通过卡接滑动连接有密封板,所述支架顶部一侧位于密封板上方通过卡接固定连接有气缸,本实用新型通过将靶材放置在转盘上阵列排布的安装槽内部,在进行镀膜前,启动气缸带动密封板以及密封条上升,使得密封条与转盘分离,启动电动旋转平台带动转盘转动固定角度后,使得需要的靶材转动至防护罩外侧溅射镀膜工位,随后控制电动旋转平台停止,控制气缸活塞杆下降,使得密封板与密封条对防护罩开口处进行密封,防止溅射镀膜过程中对防护罩内部的靶材造成污染。
  • 一种真空镀膜保护结构
  • [实用新型]一种带磁场方向刻度的旋转靶-CN201721240611.9有效
  • 宋光耀;叶平 - 深圳市鼎力真空科技有限公司
  • 2017-09-26 - 2018-05-15 - C23C14/35
  • 本实用新型适用于磁控溅射真空镀膜技术领域,公开了一种带磁场方向刻度的旋转靶,包括旋转靶主体(10);所述旋转靶主体(10)的一端设有分度盘(11),分度盘(11)设有刻度线(111),所述旋转靶主体(10)设有靶材(12)、芯轴(13)、磁铁组(14),所述磁铁组(14)设有第一磁铁条(141)、第二磁铁条(142)、第三磁铁条(143),在旋转靶主体(10)剖面图中,第一磁铁条(141)、第二磁铁条(142)、第三磁铁条(143)以第二磁铁条(142)的中线(1421)成对称;所述第二磁铁条(142)的中线(1421)对应刻度线(111)的0度。有益效果在于:把旋转靶装入磁控溅射真空镀膜的炉中,可根据旋转靶上刻度线,调整旋转靶的磁场中轴线与基片的角度,保障磁控溅射真空镀膜的膜层均匀。
  • 一种磁场方向刻度旋转
  • [实用新型]一种窄束型线性离子源-CN201721242067.1有效
  • 李齐雍;宋光耀;许晓雷;叶平 - 深圳市鼎力真空科技有限公司
  • 2017-09-26 - 2018-05-15 - H01J37/08
  • 本实用新型公开了一种窄束型线性离子源,包括阴极外环盖板、阴极内环盖板、阴极壳体、环形阳极、绝缘支柱、条形磁钢、气体电离室和环形离子束引出口;本实用新型整个环形区域都可以实现电离,离子线束较为集中,效率高;进气均匀,合理的气流布置和均布的气孔;磁场排布使用条形磁铁均匀布置,磁场均匀性好;电、磁场处于正交位置;气体电离室的高度较小,可防止气体电离室内部气体电离几率;充足的水冷条件,对阴极、阳极、磁场同时水冷,可防止温度升高导致退磁的功能;结构简易,拆装方便,易于维护。
  • 一种窄束型线性离子源

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