专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]抗蚀剂图案形成方法-CN201880083399.0在审
  • 白木雄哲;河野绅一;大野庆晃;砂道智成;齐藤彩 - 东京应化工业株式会社
  • 2018-12-20 - 2020-08-21 - G03F7/039
  • 本发明涉及一种抗蚀剂图案形成方案,具有在支承体上使用抗蚀剂组合物形成膜厚7μm以上的抗蚀剂膜的工序、对抗蚀剂膜进行曝光的工序以及对曝光后的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序,所述抗蚀剂组合物含有具有以通式(a10‑1)表示的结构单元、包含酸非解离性的脂肪族环式基的结构单元、包含通过酸的作用而极性增大的酸分解性基团的结构单元的树脂成分,式(a10‑1)中,R为氢原子、烷基或卤代烷基,Yax1为单键或2价的连接基团,Wax1为(nax1+1)价的芳香族烃基,nax1为1~3的整数。[化1]
  • 抗蚀剂图案形成方法
  • [发明专利]抗蚀剂图案形成方法-CN201880083529.0在审
  • 河野绅一;白木雄哲;大野庆晃;齐藤彩;砂道智成 - 东京应化工业株式会社
  • 2018-12-20 - 2020-08-14 - G03F7/004
  • 本发明涉及一种抗蚀剂图案形成方法,具有:在支承体上使用抗蚀剂组合物形成膜厚7μm以上的抗蚀剂膜的工序、对所述抗蚀剂膜进行曝光的工序以及对曝光后的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序,作为所述抗蚀剂组合物,含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分、与由以通式(b1‑1)表示的化合物构成的产酸剂,式(b1‑1)中,Rb1为芳基,Rb2以及Rb3为脂肪族烃基。Rb2与Rb3可以相互键合而形成环结构。Lb1、Lb2以及Lb3为2价的连接基团或单键,X是反荷阴离子。[化1]
  • 抗蚀剂图案形成方法

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