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[发明专利]一种DLC涂层、其制备方法及设备及复合涂层、涂覆制品-CN202210395178.5在审
发明人：宗坚 -专利权人： 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请日： 2022-04-15 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C16/26 文献下载
摘要：本发明具体实施方式提供一种DLC涂层、其制备方法及设备及复合涂层、涂覆制品，所述DLC涂层为由碳氢单体和硅烷单体以PECVD方法沉积，可在室温下反应沉积形成涂层，有效避免了常规镀膜方式下较高温度对基材性能的影响，进一步，本发明具体实施方式的形成的DLC涂层具有低色差、高透明和高结合强度的特性，并且其制备方法简单，有利于工艺生产，更进一步，在所述DLC涂层沉积AF涂层所获得的复合涂层具有低色差、高透明以及更加耐刮擦的特性，特别适用于触控面板等涂覆制品。
一种 dlc 涂层制备方法设备复合制品

[发明专利]一种防雾涂层及其制备方法、及产品-CN202210319342.4在审
发明人：宗坚 -专利权人： 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请日： 2022-03-29 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C09D171/08 文献下载
摘要：本公开的具体实施方式的防雾涂层，所述涂层由饱和链单体等离子体聚合形成，其中，所述饱和链单体至少在两端具有亲水基团，所述亲水基团为羟基、氨基或羧基；所述饱和链单体中的碳碳连接键之间具有或不具有亚氨基；所述饱和链单体具有或不具有取代基，所述取代基为羟基、氨基或羧基；所述饱和链单体中同一个碳原子上至多连接氨基或羟基中的一个。采用所述饱和链单体等离子体聚合形成的防雾涂层具有优异的亲水性能，且色差小，透光率优异，具有良好的耐磨性能，同时，由于单体中不含双键从而避免了涂层中不稳定的双键残留所导致的在长期使用过程中可能对涂层性造成的不良影响。本公开的具体实施方式的防雾涂层，适合用于透明基材表面的防雾涂层。
一种涂层及其制备方法产品

[发明专利]一种亲水涂层、制备方法及器件-CN202210320685.2在审
发明人：宗坚 -专利权人： 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请日： 2022-03-29 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C09D129/02 文献下载
摘要：本发明具体实施方式的涂层，所述涂层由烯烃单体等离子体聚合形成，其中，所述烯烃单体由碳碳双键结构和位于碳碳双键上选自于氢原子、卤素原子、甲基、乙基和带有亲水端基的饱和链基团组成，并且所述带有羟基、羧基或氨基亲水端基的饱和链基团至少具有两个，分别位于烯烃双键的两个碳原子上，采用所述结构的烯烃单体等离子体聚合形成的涂层具有优异的耐磨性同时，具有更为优异的亲水性能，并且色差小、透光率优异，十分适合用于亲水防雾涂层。
一种涂层制备方法器件

[发明专利]具有硅烷过渡层的复合防护膜层及其制备方法和产品-CN202010342097.X有效
发明人：宗坚;蔡泉源;蒋金海 -专利权人： 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请日： 2020-04-27 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： B05D1/00 文献下载
摘要：具有硅烷过渡层的复合防护膜层及其制备方法和产品，其中所述具有硅烷过渡层的复合防护膜层包括一硅烷过渡层和一涂层，其中所述硅烷过渡层是由有机硅烷通过等离子化学气相沉积形成，其中在形成所述硅烷过渡层之后，所述涂层由第一单体和第二单体通过等离子化学气相沉积在所述硅烷过渡层形成，其中所述第一单体是选自低偶极矩有机物单体和多官能度丙烯酸酯类化合物中的一种或两种，其中所述第二单体是氟碳酸酯类化合物。
具有硅烷过渡复合防护及其制备方法产品

[发明专利]多层结构的复合膜及其制备方法和产品-CN202010689275.6有效
发明人：宗坚 -专利权人： 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请日： 2020-07-16 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： C23C16/50 文献下载
摘要：本发明公开一多层结构的复合膜及其制备方法和产品，其中所述多层结构的复合膜制备方法包括：在一基体的表面进行等离子体化学气相沉积形成一多层结构，所述多层结构的一层由原料C通过PECVD方式形成，所述原料C是一种或多种硅氧烷化合物，另一层由原料D通过PECVD方式形成，所述原料D是一种或多种含氟硅氧烷D，由此来提高基体表面的疏水疏油性能以及耐磨性能。
多层结构复合及其制备方法产品

[发明专利]镀膜设备及其镀膜方法-CN202010517576.0有效
发明人：宗坚 -专利权人： 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请日： 2020-06-09 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： C23C16/513 文献下载
摘要：镀膜设备及镀膜方法，该镀膜方法，用于涂覆一基材，包括步骤：布置该基材于一腔室体的一反应腔中的一单体释放源与一等离子激发源之间的位置；以及通过所述单体释放源，引入一膜层形成材料进入所述反应腔中，以供以在所述等离子激发源的作用下在该基材的表面上形成一聚合物膜层，使得所述膜层被均匀地形成于所述基材的表面，且沉积速度加快。
镀膜设备及其方法

[发明专利]一种可变形电极及其应用设备、使用方法-CN201811242692.5有效
发明人：宗坚 -专利权人： 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请日： 2018-10-24 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：本发明涉及等离子体技术领域，尤其是涉及一种可变形电极及其应用设备、使用方法。该可变形电极包括：电极盘、变形调节件和等离子体传感器；所述变形调节件设置于所述电极盘的第一端面，以使所述电极盘于其直径位置形成若干个变形调节点位；所述等离子体传感器设置于所述电极盘的第二端面，且与各个所述变形调节点位一一对应。本发明能够通过灵活地改变电极形状，从而获得大范围均匀等离子体，结构简单，操作方便，利于推广与应用。
一种变形电极及其应用设备使用方法

[发明专利]用于耳机盒的镀膜遮蔽治具及其方法-CN202110459951.5有效
发明人：宗坚 -专利权人： 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-04-27 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种耳机盒镀膜遮蔽治具及其方法。该镀膜遮蔽治具用于遮蔽一耳机盒，其中该耳机盒包括一非镀膜部分、一待镀膜部分以及一开口部。该镀膜遮蔽治具包括一遮蔽罩和一遮蔽套，其中该遮蔽罩适于被罩设于该耳机盒的该非镀膜部分之外；其中该遮蔽套适于被套设于该耳机盒的该开口部，并且该遮蔽套可密封地接合于该遮蔽罩，其中当该遮蔽罩接合于该遮蔽套时，该镀膜遮蔽治具用于密闭地遮蔽该耳机盒的该非镀膜部分，并且敞开地裸露该耳机盒的该待镀膜部分。
用于耳机镀膜遮蔽及其方法

[发明专利]溅射镀膜装置和设备及其溅射镀膜组件-CN202110269016.2有效
发明人：宗坚 -专利权人： 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-03-12 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开一溅射镀膜装置和溅射镀膜组件，其中所述溅射镀膜装置用于对一靶材进行轰击以通过溅射镀膜的方式在一基体表面形成膜层，所述溅射镀膜装置包括：一反应腔体，所述反应腔体具有一反应腔；一电极组件和一放电线圈组件，所述电极组件和所述放电线圈组件被设置于所述反应腔内，在溅射镀膜时，所述基体被容置于所述反应腔内，所述靶材被设置于所述电极组件，所述电极组件和所述放电线圈组件被电连接于一射频电源，通过所述射频电源为所述电极组件和所述放电线圈组件提供工作的射频电流，以在所述基体表面沉积形成膜层。
溅射镀膜装置设备及其组件

[发明专利]一种电火花等离子体引发聚合表面涂层装置及方法-CN201611076848.8有效
发明人：宗坚 -专利权人： 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请日： 2016-11-30 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： B05D1/00 文献下载
摘要：本发明一种电火花等离子体引发聚合表面涂层装置及方法，属于等离子体技术领域，用于在基材表面制备聚合物涂层。该装置中，在真空室安装多个火花塞，形成阵列单体蒸汽通过单体蒸汽管路送入真空室内，单体蒸汽管路在位于火花塞的正前方设置出口，真空排气管位于真空室远离火花塞和单体蒸汽管路出口的一侧，待处理的基材放在处理室内。该方法中将真空室抽至压强1Pa以下，开启单体蒸汽管路，通入单体蒸汽通入单体蒸汽的同时在火花塞上施加高压电脉冲，产生电火花引发单体蒸汽发生聚合并沉积在基材表面形成聚合物涂层。本发明具有火花塞电源结构简单、价格低、无需调试，放电稳定，不需要载体气体，单体扩散良好，涂层均匀等优点。
一种电火花等离子体引发聚合表面涂层装置方法

[发明专利]PECVD镀膜系统和镀膜方法-CN202110139691.3有效
发明人：宗坚 -专利权人： 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-02-01 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： B05D1/00 文献下载
摘要：本发明提供一PECVD镀膜系统和镀膜方法，其中所述镀膜方法中通过一PECVD镀膜设备在一基体的表面沉积形成有机疏水膜，在沉积镀膜时，包括步骤：(A)通过所述PECVD镀膜设备的一ICP发生器为所述PECVD镀膜设备的一反应腔体提供电感耦合电场以形成耦合磁场；和(B)通过所述PECVD镀膜设备的一偏压电源为所述反应腔体提供偏压电场。
pecvd 镀膜系统方法

[实用新型]一种镀膜治具-CN202320610376.9有效
发明人：宗坚;孙富恩 -专利权人： 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-03-24 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开的实施例提供一种镀膜治具，适于装载待镀膜产品进行镀膜，所述待镀膜产品包括通孔部，所述通孔部的内壁为非镀膜区。所述镀膜治具包括：至少一层支撑件，每层所述支撑件设有至少一个支撑位，每个所述支撑位适于装载一个所述待镀膜产品；设于每个所述支撑位的遮蔽件，适于对所述非镀膜区进行遮蔽，所述遮蔽件和所述支撑件之间可拆卸连接。采用本公开的实施例的镀膜治具，对包括通孔部的待镀膜产品进行镀膜，在实现均匀镀膜的同时可以遮蔽非镀膜区，提高镀膜效率。
一种镀膜

[发明专利]镀膜夹具及其形成方法-CN202111630294.2在审
发明人：宗坚;孙富恩 -专利权人： 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本发明提供一种镀膜夹具及其形成方法。所述镀膜夹具包括：第一模板；第二模板，适于与所述第一模板匹配形成工件区和固定区，所述工件区包括至少一个单元，每个单元包括多个分隔开的工位以容纳多个待镀件，所述固定区适于对所述第一模板和所述第二模板匹配后进行固定，每个单元包括相邻的镀膜区和遮蔽区；每个单元的镀膜区周围设置有第一密封圈，适于对所述遮蔽区进行遮蔽；以及所述工件区和所述固定区之间设置有第二密封圈，适于对所述第一模板和第二模板匹配后进行遮蔽。本发明提供的镀膜夹具可以减少密封材料的使用，保证待镀件的待镀膜部分的镀膜效果，并对待镀件的非镀膜部分进行充分遮蔽。
镀膜夹具及其形成方法

[发明专利]镀膜遮蔽方法-CN202111630313.1在审
发明人：宗坚;孙富恩 -专利权人： 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本发明提供一种镀膜遮蔽方法。所述镀膜遮蔽方法包括：提供待镀件，所述待镀件包括待镀膜部分和非镀膜部分；提供镀膜夹具，所述镀膜夹具包括第一模板和第二模板，所述第一模板与所述第二模板适于围成所述镀膜夹具，所述镀膜夹具包括工件区和工件区外围的固定区；其中所述工件区包括至少一个单元，每个单元包括相邻的镀膜区和遮蔽区；在所述镀膜夹具内每个单元的镀膜区周围设置第一密封圈，以防止镀膜材料进入所述遮蔽区；在所述工件区和所述固定区之间设置第二密封圈，以进行密封；以及将所述待镀件放置于所述镀膜夹具内，使所述待镀件的待镀膜部分位于所述镀膜区，暴露出所述待镀件的待镀膜部分，所述待镀件的非镀膜部分位于所述遮蔽区。
镀膜遮蔽方法

[发明专利]镀膜遮蔽方法-CN202111632745.6在审
发明人：宗坚;孙富恩 -专利权人： 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本公开实施例提供一种镀膜遮蔽方法，待镀件至少包括第一部分和第二部分，所述第一部分无需镀膜；所述第二部分需要被镀膜，包括：提供第一遮蔽板，所述第一遮蔽板包括至少一个第一遮蔽体，将所述待镀件的第一部分的至少一个部分嵌入一个第一遮蔽体内，以密封该嵌入部分；以及采用支架板和侧护板，与所述第一遮蔽板围成密封箱体，所述第一遮蔽板构成所述密封箱体的一个侧面，所述第二部分位于所述密封箱体外。通过将第一遮蔽板、支架板和侧护板围成密封箱体，在进行镀膜工艺时，可以将待镀件的需要进行镀膜的第二部分露出所述密封箱体进行镀膜，将所述待镀件的无需进行镀膜的第一部分以及不可以被镀膜的第三部分放置在密封箱体内进行遮蔽。
镀膜遮蔽方法

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