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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]镀膜遮蔽结构及其形成方法、镀膜治具及其形成方法-CN202111632718.9在审
  • 宗坚;孙富恩 - 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
  • 2021-12-28 - 2023-06-30 - H05K3/00
  • 本公开实施例提供一种镀膜遮蔽结构及其形成方法、镀膜治具及其形成方法。所述镀膜遮蔽结构至少包括一个遮蔽体，包括：遮蔽底板，其第一侧具有凹槽；遮蔽件，采用弹性材料制备，适于放入所述遮蔽底板的凹槽内，所述遮蔽件中形成有多个固定位以放入待镀件；以及遮蔽片，适于从所述遮蔽底板的第一侧将所述遮蔽件与所述遮蔽底板固定；所述遮蔽底板、所述遮蔽件和所述遮蔽片通过紧固件固定形成遮蔽体。通过设置了遮蔽底板、遮蔽件和遮蔽片，在镀膜过程中，将待镀件的无需镀膜的部分卡固在镀膜遮蔽结构中，实现对所述待镀件的无需镀膜的部分进行遮蔽。
  • 镀膜遮蔽结构及其形成方法
  • [发明专利]单向旋转装置、上料装置以及真空镀膜设备-CN202111591970.X在审
  • 宗坚;王志军 - 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
  • 2021-12-23 - 2023-06-27 - C23C14/50
  • 本发明公开了一种单向旋转装置、上料装置以及真空镀膜设备。所述单向旋转装置包括：驱动轴，用于驱动所述单向旋转装置旋转；花键组件，连接到所述驱动轴，并随着所述驱动轴的旋转而旋转；以及螺旋座，连接到所述花键组件，并随着所述花键组件的旋转而旋转；其中，所述花键组件包括花键轴，所述花键轴设有多个单向卡头，所述螺旋座设有与所述多个单向卡头相配合的多个单向卡槽，从而允许所述螺旋座能够相对于所述花键轴沿一个方向旋转，并限制所述螺旋座沿相反的方向旋转。所述上料装置包括大转架、多个小转架以及单向旋转装置。通过所述单向旋转装置，随时调整装料位置，实现高效率装料，提高了产能。
  • 单向旋转装置以及真空镀膜设备
  • [发明专利]镀膜设备及其应用-CN201911326907.6有效
  • 宗坚;陶永奇;李福星 - 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
  • 2019-12-20 - 2023-06-20 - C23C16/517
  • 本发明提供一种镀膜设备及其应用，用于在基材表面镀膜，包括一进料装置和一设备主体，其中所述进料装置被连接于所述设备主体，其中所述进料装置包括一气体进料装置和一液体进料装置，其中所述气体进料装置被连通于所述设备主体以用于输送气态的气体原料至所述设备主体，其中所述液体进料装置被连通于所述设备主体以用于输送液态经气化后的气体原料至所述设备主体，其中所述设备主体基于所述气体原料制备薄膜，其中同一台所述镀膜设备能够在所述基材表面制备多种不同性能或者种类的薄膜或者膜层。
  • 镀膜设备及其应用
  • [实用新型]镀膜设备-CN202223444750.7有效
  • 宗坚 - 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
  • 2022-12-22 - 2023-05-26 - C23C16/50
  • 本申请实施例涉及一种镀膜设备(10)，其包括：腔室(12)；等离子体激发装置(16)，其设于腔室(12)；以及载送装置(18)，其位于腔室(12)内，载送装置(18)可悬挂基材(20)、可驱使基材(20)在腔室(12)内循环运动、并可翻转基材(20)。如此，可有利于大尺寸基材(20)在镀膜过程中充分展现在腔室(12)内、在腔室(12)内循环运动、并且被自动翻转，可有助于镀膜效率高、镀膜均匀性好等。
  • 镀膜设备
  • [发明专利]镀膜设备及其镀膜方法-CN202080001818.9有效
  • 宗坚 - 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
  • 2020-06-09 - 2023-04-28 - C23C16/458
  • 镀膜装置，用于涂覆多个基材，包括一具有一反应腔的腔室体，一支撑架，一单体释放源以及一等离子激发源。所述单体释放源具有至少一释放进口用于引入膜层形成材料进入所述腔室体的所述反应腔。所述等离子激发源被配置于所述腔室体的所述反应腔的一中间区域以激发所述膜层形成材料，其中多个所述基材被适应性地布置于在所述腔室体内的所述等离子激发源的周围，以增加在所述基材的所述表面的镀膜均匀性和提供沉积速度。
  • 镀膜设备及其方法
  • [实用新型]镀膜纱网工装及真空镀膜设备-CN202223256816.X有效
  • 宗坚;文毅 - 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
  • 2022-12-06 - 2023-04-28 - C23C16/458
  • 本申请关于一种镀膜纱网工装，涉及真空镀膜领域。该镀膜纱网工装包括第一支撑板以及第二支撑板，第一支撑板与第二支撑板之间沿竖直方向连接有至少一个多层支撑架，多层支撑架用于放置多个待镀膜产品；其中，多层支撑架的外周环绕连接有一圈纱网，纱网与多层支撑架的外周相贴合。解决了现有技术存在的多层支撑架中的产品不仅各层的膜厚不一致，同层的膜厚也不一致，膜厚异常的产品返工成本较高，甚至会出现无法补救而导致大批量的产品报废的问题。
  • 镀膜工装真空镀膜设备
  • [实用新型]真空镀膜自动加料装置-CN202223163753.3有效
  • 宗坚 - 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
  • 2022-11-28 - 2023-04-07 - C23C16/44
  • 本申请关于一种真空镀膜自动加料装置，涉及真空镀膜领域。该真空镀膜自动加料装置包括支架，支架上安装有滑动机构，滑动机构上安装有驱动机构以及加料机构，驱动机构的动力输出端与加料机构传动连接；加料机构的上方还安装有储料罐，储料罐将粉料输送至加料机构内，加料机构与外部管式炉的进料口接驳；其中，储料罐上还安装有搅拌机构，搅拌机构将储料罐内的粉料均匀的输送至加料机构内。实现了在CVD过程中，粉末状态的蒸发材料(如派瑞林)少量、连续进入管式炉以进行后续的加热、升华、裂解工艺，既满足了蒸发材料的用量，又达到了实时动态调整进料量的目的，提升了镀膜效果，并实现了一种以上的蒸发材料复合镀膜的工艺需求。
  • 真空镀膜自动加料装置
  • [实用新型]一种等离子体辅助热丝CVD镀膜设备-CN202222666554.8有效
  • 宗坚 - 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
  • 2022-10-10 - 2023-03-24 - C23C16/50
  • 本申请关于一种等离子体辅助热丝CVD镀膜设备，涉及热丝化学气相沉积领域。包括反应腔室，反应腔室具有至少一个进气孔和至少一个出气孔，反应腔室内设有承载支架，承载支架包括：第一架体，通过第一绝缘块与反应腔室绝缘连接；水冷盘，安装于第一架体的顶部；第二架体，位于水冷盘的上方，第二架体的顶部安装有铜棒电极；热丝，位于铜棒电极与水冷盘之间。本申请提供的等离子体辅助热丝CVD镀膜设备提升了镀膜效率及质量，使得热丝工艺温度在保证成膜质量的同时能进一步降低，突破了热丝CVD镀膜工艺在基材和镀膜材料上的限制，大大拓展了热丝CVD镀膜工艺的应用领域。
  • 一种等离子体辅助cvd镀膜设备
  • [发明专利]曲面屏遮蔽装置-CN202011575625.2有效
  • 宗坚;孙富恩 - 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
  • 2020-12-28 - 2023-03-21 - C23C16/04
  • 本发明主要提供一种曲面屏遮蔽装置，用于为一曲面屏幕组件在镀膜过程中提供遮蔽，所述曲面屏遮蔽装置包括至少一模板套和一柔性套，其中所述柔性套具有一第一容置空间，所述模板套具有一第二容置空间，其中所述曲面屏幕组件能够被容纳于所述第一容置空间，且所述柔性套能够被容纳于所述第二容置空间，其中所述模板套和所述柔性套的相应位置设置有至少一第一通孔，镀膜单体能够通过所述第一通孔到达所述曲面屏幕组件的一待镀膜区域，从而实现对所述曲面屏幕组件的所述待镀膜区域进行镀膜。本发明所述的曲面屏遮蔽装置能够为曲面屏幕组件提供精确的遮蔽和镀膜定位，从而使所述曲面屏幕组件完成精确位置的镀膜。
  • 曲面遮蔽装置
  • [发明专利]镀膜遮蔽治具-CN202011575637.5有效
  • 宗坚;孙富恩 - 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
  • 2020-12-28 - 2023-03-21 - B05D1/32
  • 本发明公开一镀膜遮蔽治具，其包括一第一模板组件和一第二模板组件，所述第一模板组件和所述第二模板组件具有一开模状态和一合模状态，在所述开模状态，所述第一模板组件和所述第二模板组件相互分离，在所述合模状态，所述第一模板组件和所述第二模板组件相互结合形成一容纳腔，所述容纳腔适于容纳一待镀膜工件，所述第一模板组件具有一局部镀膜通道，所述局部镀膜通道连通所述容纳腔，以便于通过所述局部镀膜通道向所述待镀膜工件的预定镀膜区进行镀膜。
  • 镀膜遮蔽
  • [实用新型]镀膜装置-CN202223084490.7有效
  • 宗坚 - 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
  • 2022-11-21 - 2023-03-21 - C23C16/50
  • 本申请一方面涉及一种镀膜装置(10)，其包括：腔室(12)；镀膜原料入口(14)，位于腔室(12)、可连通腔室(12)内外；等离子体激发部(16)，设于腔室(12)；以及载送部(18)，位于腔室(12)内、包括辊(28)，辊(28)可被首尾相接的基材(20)卷绕、并可驱使基材(20)相对于等离子体激发部(16)运动，辊(28)驱使基材(20)运动时，基材(20)的彼此相反的第一表面(22)和第二表面(24)均可直接面对等离子体激发部(16)产生的等离子体区(26)。如此，可有利于基材(20)在镀膜过程中整个完全暴露在腔室(12)内，可有助于镀膜效率高、均匀性好，同时可避免镀膜原料过度分解等。
  • 镀膜装置
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