专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]工件处理系统、距离测量装置及工件放置路径设定方法-CN202110980853.6在审
  • 童瑞发;林世佳 - 辛耘企业股份有限公司
  • 2021-08-25 - 2023-04-04 - H01L21/67
  • 一种由工件处理系统对工件实施的工件放置路径设定方法,所述工件处理系统包含承载座及机械手臂,且所述工件放置路径设定方法包含:获得对应所述承载座的第一位置,以及在所述工件被放置于所述承载座的情况下获得对应所述工件的第二位置;根据所述第一位置与所述第二位置之间的差异产生校正放置路径。其中,所述校正放置路径是用于控制所述机械手臂将待处理工件放置至所述承载座,而使得所述待处理工件的中心与所述承载座的中心之间的距离小于所述第一位置与所述第二位置之间的距离。所述校正放置路径能使所述机械手臂将待处理工件放置地与所述承载座更加对齐,所以能避免因所述待处理工件的放置位置偏差而对所述待处理工件的处理造成负面影响。
  • 工件处理系统距离测量装置放置路径设定方法
  • [发明专利]基板处理设备及方法-CN201811543948.6有效
  • 陈赞吉;林志杰;林世佳;赖仁斌 - 辛耘企业股份有限公司
  • 2018-12-17 - 2022-09-16 - H01L21/67
  • 一种基板处理设备,包含处理装置、供应装置、清洁装置与控制装置。所述控制装置受组配为可在第一参数达到第一条件时,指示所述供应装置的一切换元件从第一组态切换成第二组态以变更用于供应处理液的储槽。所述控制装置进一步受组配为可在第二参数达到第二条件时,指示所述清洁装置将清洗液提供至所述处理装置内以供用于清洁所述处理装置。本发明还提供一种基板处理方法。利用本发明的基板处理设备及方法能够节省相关人力资源,提高作业效率。
  • 处理设备方法
  • [发明专利]基板处理系统-CN201810762500.7有效
  • 冯傳彰;刘茂林;吴庭宇;林世佳;蔡健智 - 辛耘企业股份有限公司
  • 2018-07-12 - 2021-03-19 - H01L21/67
  • 本发明揭露一种基板处理系统,其包括一基板处理装置、一第一控制模块以及一第二控制模块。第一控制模块包括一第一控制单元及一第一监视单元。第一控制单元控制基板处理装置的运作。第一监视单元每间隔一第一预设时间传送一第一判断信号。第二控制模块包括一第二控制单元及一第二监视单元。第二监视单元耦接于第一监视单元及第二控制单元,当第二监视单元于第一默认时间未接收到第一判断信号,传送异常信号至第二控制单元。第二控制单元依据异常信号控制基板处理装置的运作,以避免第一控制模块故障时,会造成处理中的基板损坏的情形。
  • 处理系统
  • [发明专利]基板处理装置及蚀刻基板的控制方法-CN201911064906.9在审
  • 钟孟达;林建中;冯传彰;林世佳;何宗育 - 辛耘企业股份有限公司
  • 2019-11-04 - 2020-11-10 - H01L21/67
  • 一种基板处理装置及蚀刻基板的控制方法,基板处理装置包含基板承载模块、流体供应模块、侦测模块及控制模块。基板承载模块包括旋转台以供设置基板。流体供应模块包括喷嘴以供应蚀刻液。侦测模块包括光源发射器及光谱接收器,光源发射器用以发射光线至基板,光谱接收器用以接收从基板反射的光线并产生光谱信号。控制模块与流体供应模块及侦测模块电连接,并在基板被蚀刻过程中接收光谱信号且对应所接收的光谱信号产生实时光谱数据,再分析实时光谱数据以获得特征数据并据以判断是否已达蚀刻终点。通过在蚀刻制程中可以精准控制蚀刻终点,能使先进制程的基板的小线宽精准蚀刻(侧蚀)容易控制,并能节省制程时间以增加产能且延长蚀刻药水寿命。
  • 处理装置蚀刻控制方法
  • [发明专利]基板处理装置-CN201711305975.5有效
  • 冯傳彰;刘茂林;吴庭宇;林世佳 - 辛耘企业股份有限公司
  • 2017-12-11 - 2020-06-09 - H01L21/673
  • 基板处理装置包括一底座、一基板载台、多个升降式主收集件、一第一动力件和一升降控制件。基板载台可旋转得和底座连接,用以固定和旋转基板。多个升降式主收集件设于基板载台外围,用以收集处理基板的处理液。各个升降式主收集件包括一升降轴和一处理液收集环。升降轴包括一升降轮组件。升降轮组件用以带动升降轴升降。处理液收集环连接升降轴之上。第一动力件设于底座,用以提供动力给升降式主收集件,以使升降式主收集件升降。升降控制件连接第一动力件,以控制第一动力件传递动力给升降式主收集件的升降轴对应的升降轮组件。
  • 处理装置

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