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[实用新型]一种晶圆后处理系统-CN201920898239.3有效
发明人： 李长坤;赵德文;魏聪;王同庆;路新春 -专利权人：清华大学;天津华海清科机电科技有限公司
申请日： 2019-06-14 - 公布日： 2020-04-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及化学机械抛光后处理技术领域，公开了一种晶圆后处理系统，包括：晶圆提升装置，用于从清洗液中提拉浸入清洗液的晶圆；气体喷射装置，用于在晶圆从清洗液中提升的过程中，向晶圆表面附着的清洗液的弯液面区域喷射第一温度的干燥气体，以使晶圆表面的附着物按照与提升方向相反的方向从晶圆表面剥离；液面监测装置，与气体喷射装置连接，用于检测弯液面区域的位置以使气体喷射装置喷射的干燥气体对准该弯液面三相接触线区域。
一种晶圆后处理系统

[实用新型]一种晶圆后处理系统-CN201920898244.4有效
发明人：赵德文;李长坤;路新春 -专利权人：清华大学
申请日： 2019-06-14 - 公布日： 2020-04-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及化学机械抛光后处理技术领域，公开了一种晶圆后处理系统，包括：清洗槽，用于容纳清洗晶圆的清洗液；晶圆提升装置，用于从清洗液中提升浸没于清洗液的晶圆；晶圆提升装置包括：第一移动机构，用于固定晶圆的位于清洗液中的下侧位置进行提升；第二移动机构，用于在第一移动机构将晶圆提升至预设位置时，固定晶圆的位于清洗液液面以上的已经被清洗干燥的上侧位置继续提升直至晶圆脱离清洗液。
一种晶圆后处理系统

[发明专利]一种用于基板后清洗的流体控制装置和流体供应设备-CN201910331457.3在审
发明人：郭振宇;赵德文;李长坤;路新春 -专利权人：清华大学;天津华海清科机电科技有限公司
申请日： 2019-04-24 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于基板后清洗的流体控制装置和流体供应设备，该设备包括流体存储容器和用于控制流体存储容器的管路通断的执行部件，以及与执行部件连接的流体控制装置。该装置包括受控于主控模块的第一控制部件和受控于安全控制模块的第二控制部件；第一控制部件与第二控制部件串联至用于控制流体存储容器的管路通断的执行部件；在主控模块工作异常时，安全控制模块控制第二控制部件动作以使执行部件断开流体存储容器的管路。
一种用于基板后清洗流体控制装置供应设备

[发明专利]一种亚微米级液膜的厚度的测量方法-CN201910517090.4有效
发明人： 李长坤;赵德文;王同庆;路新春 -专利权人：清华大学
申请日： 2019-06-14 - 公布日： 2020-04-07 - 主分类号： G01B5/06 文献下载
摘要：一种亚微米级液膜的厚度的测量方法，包括，将载有所述液膜的试样水平放置使得所述液膜水平朝上自然静置以蒸发其中的水分；统计试样表面的特定区域的至少一种特定的纳米荧光颗粒的数量；根据所述特定区域的纳米荧光所述纳米颗粒的数量颗粒的数量与液膜及厚度之间的关系获得所述亚微米级液膜的厚度；其中，所述试样为薄片状并且形成所述液膜的液体中含有纳米荧光颗粒可统计的具有标识的纳米颗粒。
一种微米级液膜厚度测量方法

[发明专利]用于润滑剂参数测量系统的防护装置-CN201810781667.8有效
发明人：赵德文;李长坤;王江涛;王同庆;路新春 -专利权人：清华大学;天津华海清科机电科技有限公司
申请日： 2018-07-17 - 公布日： 2020-03-24 - 主分类号： G01N33/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于润滑剂参数测量系统的防护装置，包括：外围防护组件，所述外围防护组件包括横向设置的底板和从所述底板竖向向上延伸的上围壁，所述底板上设有透光孔和排泄口，所述透光孔的孔壁竖向向上延伸且超出所述底板的上表面；测试盘组件，所述测试盘组件包括测试盘和密封设置在所述测试盘的外周壁上的隔离圈，所述隔离圈的上顶面高于所述测试盘的上表面；所述测试盘组件位于所述底板上方且位于所述上围壁中。使用该防护装置，可以持续向测试盘组件中供给润滑剂进行测量，测量稳定性高，同时，还能有效地防止了润滑剂污染测量系统。
用于润滑剂参数测量系统防护装置

[实用新型]箱体内隔板组立夹装装置-CN201920727499.4有效
发明人：李长春;赵明军;王成军;李长坤 -专利权人：淄博金宇钢结构有限公司
申请日： 2019-05-19 - 公布日： 2020-01-07 - 主分类号： B25B11/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种箱体内隔板组立夹装装置，包括三角形支架和工作台，三角形支架上设有电机，工作台上固定设有转动轴，转动轴穿过三角形支架的轴承通过传动链条与电机连接，工作台上设有两个侧板，两个侧板之间设有移动台和立板，工作台和移动台上均设有若干压紧装置。夹装过程简单易操作，启动驱动装置即可压紧隔板；移动台可以调整位置，使组立夹装装置可以适用多种隔板组立夹装；通过电机可以调整工作台至任意角度，方便隔板全方位加工。
三角形支架工作台隔板夹装装置移动台转动轴侧板夹装组立电机本实用新型传动链条电机连接调整位置驱动装置压紧装置隔板组内隔板立板压紧轴承穿过移动加工

[实用新型]一种用于基板后清洗的流体控制装置和流体供应设备-CN201920565995.4有效
发明人：郭振宇;赵德文;李长坤 -专利权人：清华大学;天津华海清科机电科技有限公司
申请日： 2019-04-24 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于基板后清洗的流体控制装置和流体供应设备，该设备包括流体存储容器和用于控制流体存储容器的管路通断的执行部件，以及与执行部件连接的流体控制装置。该装置包括受控于主控模块的第一控制部件和受控于安全控制模块的第二控制部件；第一控制部件与第二控制部件串联至用于控制流体存储容器的管路通断的执行部件；在主控模块工作异常时，安全控制模块控制第二控制部件动作以使执行部件断开流体存储容器的管路。
控制部件安全控制模块流体存储容器流体控制装置存储容器控制流体主控模块受控通断流体供应设备本实用新型部件连接工作异常基板断开串联清洗

[发明专利]一种倒锥体混凝土基础坡面测控工具-CN201910891618.4在审
发明人：王欢;李长坤;左丽岗 -专利权人：北京燕化天钲建筑工程有限责任公司
申请日： 2019-09-20 - 公布日： 2019-12-10 - 主分类号： E02D33/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种倒锥体混凝土基础坡面测控工具，包括直杠尺、顶部环形滑轨及底部环形滑轨，顶部环形滑轨及底部环形滑轨与倒锥体混凝土基础同轴地分别设置于倒锥体混凝土基础的顶部及底部，直杠尺沿倒锥体混凝土基础的母线设置，直杠尺的两端分别通过滑动配合件与顶部环形滑轨及底部环形滑轨滑动配合；上述测控工具依倒锥体混凝土基础的坡面设置，无中心转轴，利用倒锥体混凝土基础底部和顶部的滑轨固定直杠尺，直杠尺两端均可有效固定，不存在倒塌的问题，安全可靠，在坡面基础混凝土抹压时，只需在倒锥体混凝土基础的顶部和底部各1人，沿圆形轨道推动测控工具即可，坡面测控不影响基础施工，可边施工边检测，实际操作简便快捷，省时省力。
混凝土基础倒锥体环形滑轨直杠坡面测控滑动配合件基础混凝土滑动配合基础施工母线设置圆形轨道中心转轴滑轨省时同轴省力倒塌检测施工

[实用新型]一种盖缝防掀式桥梁伸缩缝装置-CN201920233931.4有效
发明人： 李长坤;段庆普 -专利权人：济南城建集团有限公司
申请日： 2019-02-25 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： E01D19/06 文献下载
摘要：本实用新型涉及桥梁伸缩缝技术领域，特别涉及一种盖缝防掀式桥梁伸缩缝装置，包括边梁、中梁、横梁和盖板，边梁有两组并焊接于位移箱顶部；边梁上部开设有防掀件滑动槽，前部开设有传动弹簧位移孔，防掀件滑动槽底部设有纵坡；传动弹簧位移孔内安装有穿心杆，穿心杆内置于传动弹簧中，传动弹簧分别固定于中梁和边梁上；所述边梁后部两侧分别对称固定有位移筒和锚板，所述锚板上固定有锚筋Ⅰ；所述中梁顶部可拆卸连接有盖板，底部固定有横梁；所述盖板底部两侧对称固定有“L”形的防掀件；所述横梁两端通过支座支承于位移箱内；所述边梁和中梁之间镶嵌有止水带。本实用新型可防止盖板变形掀起及伸缩缝积尘嵌死，也能降低缝内空气振动噪声。
边梁传动弹簧盖板本实用新型对称固定穿心杆滑动槽位移孔横梁锚板桥梁伸缩缝装置可拆卸连接桥梁伸缩缝横梁两端空气振动伸缩缝位移筒位移箱止水带积尘两组锚筋前部掀式支承纵坡焊接噪声变形镶嵌掀起

[发明专利]一种用于基板干燥的流体供给装置和基板干燥设备-CN201910532275.2在审
发明人： 李长坤;赵德文;路新春 -专利权人：清华大学
申请日： 2019-06-19 - 公布日： 2019-11-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及化学机械抛光后处理技术领域，公开了一种用于基板干燥的流体供给装置和基板干燥设备，其中，流体供给装置包括存储主体、第一管路和第二管路，第一管路和第二管路分别与存储主体连通，第一管路和第二管路在存储主体外部通过加热管路连通；第一管路用于供给第一流体，第一流体的一部分流至存储主体内，第一流体的另一部分分流至加热管路加热后汇入第二管路并在第二管路中与存储主体内压出的第二流体混合后得以输出。提高了基板干燥的效果。
存储主体流体供给装置第一流体基板基板干燥设备加热管路连通化学机械抛光后处理第二流体内压加热分流输出外部

[发明专利]一种晶圆后处理系统和方法-CN201910517084.9在审
发明人：赵德文;李长坤;路新春 -专利权人：清华大学
申请日： 2019-06-14 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及化学机械抛光后处理技术领域，公开了一种晶圆后处理系统和方法，系统包括：清洗槽，用于容纳清洗晶圆的清洗液；晶圆提升装置，用于从清洗液中提升浸没于清洗液的晶圆；晶圆提升装置包括：第一移动机构，用于固定晶圆的位于清洗液中的下侧位置进行提升；第二移动机构，用于在第一移动机构将晶圆提升至预设位置时，固定晶圆的位于清洗液液面以上的已经被清洗干燥的上侧位置继续提升直至晶圆脱离清洗液。
晶圆清洗液移动机构后处理系统提升装置种晶化学机械抛光清洗液液面后处理清洗干燥上侧位置下侧位置预设位置清洗槽浸没清洗容纳脱离

[发明专利]一种晶圆后处理系统和方法-CN201910517944.9在审
发明人： 李长坤;赵德文;魏聪;王同庆;路新春 -专利权人：清华大学;天津华海清科机电科技有限公司
申请日： 2019-06-14 - 公布日： 2019-10-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及化学机械抛光后处理技术领域，公开了一种晶圆后处理系统和方法，系统包括：晶圆提升装置，用于从清洗液中提拉浸入清洗液的晶圆；气体喷射装置，用于在晶圆从清洗液中提升的过程中，向晶圆表面附着的清洗液的弯液面区域喷射第一温度的干燥气体，以使晶圆表面的附着物按照与提升方向相反的方向从晶圆表面剥离；液面监测装置，与气体喷射装置连接，用于检测弯液面区域的位置以使气体喷射装置喷射的干燥气体对准该弯液面三相接触线区域。
清洗液气体喷射装置晶圆表面弯液面晶圆后处理系统干燥气体种晶喷射化学机械抛光液面监测装置三相接触线附着物后处理浸入方向相反提升装置附着提拉对准剥离检测

[发明专利]一种基于马兰戈尼效应的晶圆后处理系统和方法-CN201910517168.2在审
发明人： 李长坤;赵德文;路新春 -专利权人：清华大学
申请日： 2019-06-14 - 公布日： 2019-09-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及化学机械抛光后处理技术领域，公开了一种基于马兰戈尼效应的晶圆后处理系统和方法，系统包括：晶圆提升装置，用于从清洗液中提拉浸入清洗液的晶圆；气体喷射装置，用于在晶圆从清洗液中提升的过程中，向晶圆表面附着的清洗液的弯液面区域喷射第一温度的干燥气体，以使晶圆表面的附着物按照与提升方向相反的方向从晶圆表面剥离。
晶圆清洗液晶圆表面马兰戈尼效应后处理系统化学机械抛光气体喷射装置附着物后处理浸入方向相反干燥气体提升装置弯液面附着提拉喷射剥离

[发明专利]一种基板处理液的存储装置和基板后处理设备-CN201910399296.1在审
发明人：赵德文;李长坤;路新春 -专利权人：清华大学
申请日： 2019-05-14 - 公布日： 2019-09-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及化学机械抛光后处理技术领域，公开了一种基板处理液的存储装置和基板后处理设备。基板后处理设备包括基板清洗模块和基板干燥模块，基板干燥模块包括存储装置。存储装置包括存储主体、第一管路、第二管路和第三管路，存储主体具有分别与管路气密连接的第一连接口、第二连接口和第三连接口；第一管路用于向存储主体内通入气体以增加存储主体内的压力；第二管路气密连接于压力检测部；第三管路气密连接于处理液供给管和排出管，供给管和排出管分别设置有独立的开关组件，使得可以通过第三管路向存储主体内加入处理液或从存储主体排出处理液。
存储主体基板存储装置后处理设备气密连接连接口基板处理液干燥模块处理液排出管处理液供给管化学机械抛光压力检测部基板清洗开关组件后处理供给管排出

[发明专利]一种基板清洗头及基板清洗装置-CN201910439507.X在审
发明人： 李长坤;蒋阳波;赵德文;刘远航;路新春 -专利权人：清华大学
申请日： 2019-05-24 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种基板清洗头，包括：具有一定厚度的圆盘状基座及同心连接于所述基座下表面的圆形清洁垫，所述基座沿厚度方向具有多个流体通道，所述清洁垫具有多个通孔，每个通孔耦合至不同的流体通道，使得清洗液可经由所述多个通孔中的一部分喷射至基板表面并在与基板表面的污染物结合后经由另一部分通孔吸走。
通孔基板表面基板清洗流体通道清洁垫基板清洗装置基座下表面圆盘状基座同心连接耦合清洗液喷射污染物