“李长坤”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果221个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]晶圆支撑装置-CN202021541514.5有效
发明人：赵德文;刘远航;王江涛;李长坤 -专利权人：华海清科（北京）科技有限公司
申请日： 2020-07-30 - 公布日： 2020-09-15 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本申请涉及一种晶圆支撑装置，包括：晶圆支撑轮组，其包括相对设置的第一晶圆支撑轮组和第二晶圆支撑轮组，以通过第一晶圆支撑轮组的滚轮与第二晶圆支撑轮组的滚轮支撑晶圆；和对心支架，其包括相对设置的第一对心支架和第二对心支架，以在第一晶圆支撑轮组的滚轮和第二晶圆支撑轮组的滚轮未支撑所述晶圆时支撑所述晶圆，从而确保所述晶圆始终得到支撑并被保持在期望的位置。本申请能够确保在晶圆处理过程中的任何时候均有支撑结构对晶圆起到支撑作用并将晶圆保持在期望的位置，从而有效避免由于滚轮粘附晶圆引起的跌落和交互失败，提高晶圆处理操作的可靠性和稳定性。
支撑装置

[发明专利]晶圆磨削方法及晶圆磨削系统-CN202010749663.9在审
发明人：刘远航;赵德文;李长坤;马旭;路新春 -专利权人：清华大学;华海清科股份有限公司
申请日： 2020-07-30 - 公布日： 2020-09-04 - 主分类号： B24B19/22 文献下载
摘要：本申请涉及一种晶圆磨削方法，其包括以下步骤：面形特征检测步骤，在该步骤中在晶圆的待磨削表面上选择多个测量点并测量晶圆在各个测量点处的厚度；面形特征识别步骤，在该步骤中基于在所述面形特征检测步骤中测得的各个厚度来获取所述待磨削表面的凸凹度；位姿调节磨削步骤，在该步骤中基于在所述面形特征识别步骤中得到的凸凹度来调整用于载置所述晶圆的晶圆工作台与用于进行磨削操作的磨削工具之间的相对空间位置关系，从而通过所述磨削工具对所述待磨削表面进行补偿性磨削操作。本申请还涉及构造成实施所述晶圆磨削方法的磨削系统。本申请具有能够提高晶圆磨削的效率和精度的优点。
磨削方法系统

[发明专利]基板减薄方法、基板减薄设备及其操作方法-CN202010528141.6有效
发明人：路新春;赵德文;刘远航;王江涛;李长坤 -专利权人：清华大学;华海清科股份有限公司
申请日： 2020-06-10 - 公布日： 2020-09-04 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本公开涉及一种基板减薄方法，包括：对基板进行磨削；当完成磨削后，利用能够根据基板的厚度分布分区调节压力的承载头对基板进行化学机械抛光。其中，在完成磨削之后且在化学机械抛光之前，测量已完成磨削的基板的厚度分布，并且根据基板的厚度分布调整承载头对基板的各分区的加载压力；或者在化学机械抛光期间，在线测量基板的厚度分布，并且根据基板的厚度分布调整承载头对基板的各分区的加载压力。通过将磨削和化学机械抛光工艺相结合，提供了加工基板最为经济有效的技术路线，而且通过根据基板厚度分布进行化学机械抛光，提高了基板的厚度均匀性，可为超高密度的半导体堆叠制程提供技术保障。本公开还涉及一种基板减薄设备及其操作方法。
基板减薄方法设备及其操作方法

[发明专利]一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头-CN202010297821.1在审
发明人：孟松林;赵德文;李长坤;倪孟骐 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2020-04-16 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头，所述化学机械抛光保持环包括环形部，所述环形部包括金属部和非金属部，所述金属部设置于非金属部的上侧并通过粘接层结合形成为层叠结构；其中，所述金属部的顶面和外侧面涂覆有防护层，所述防护层的厚度为0.01μm‑50μm以防止金属离子及其他污染物对晶圆制程影响。
一种化学机械抛光保持承载

[实用新型]一种基板清洗头及基板清洗装置-CN201920764827.8有效
发明人：赵德文;李长坤;蒋阳波;刘远航;路新春 -专利权人：清华大学
申请日： 2019-05-24 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基板清洗头及基板清洗装置，该基板清洗头包括：具有一定厚度的圆盘状基座及同心连接于所述基座下表面的圆形清洁垫，所述基座沿厚度方向具有多个流体通道，所述清洁垫具有多个通孔，每个通孔耦合至不同的流体通道，使得清洗液可经由所述多个通孔中的一部分喷射至基板表面并在与污染物结合后经由另一部分通孔吸走；所述清洁垫的截面半径小于所述基座的截面半径，所述基座的外周侧设置有斜向贯通的冲洗通道，使得冲洗液可通过冲洗通道的上方端口及冲洗通道经由位于清洁垫外侧的下方端口流出，以去除附着于清洁垫外周侧的污染物。
一种基板清洗头清洗装置

[实用新型]一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头-CN202020560952.X有效
发明人：孟松林;赵德文;李长坤;倪孟骐 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2020-04-16 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头，所述化学机械抛光保持环包括环形部，所述环形部包括金属部和非金属部，所述金属部设置于非金属部的上侧并通过粘接层结合形成为层叠结构；其中，所述金属部的顶面和外侧面涂覆有防护层，以防止金属离子及其他污染物对晶圆制程影响。
一种化学机械抛光保持承载

[发明专利]一种用于化学机械抛光的保持环和承载头-CN202010297804.8在审
发明人：赵德文;路新春;李长坤;孙张璞;孟松林 -专利权人：清华大学;华海清科股份有限公司
申请日： 2020-04-16 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于化学机械抛光的保持环和承载头，所述环形部包括顶面、底面、外侧面和内侧面，所述顶面与承载头固定连接，所述底面与抛光表面抵接，所述外侧面设置于环形部的外侧并连接于顶面与底面之间，所述内侧面设置于环形部的内侧并连接于顶面与底面之间。
一种用于化学机械抛光保持承载

[实用新型]一种倒锥体混凝土基础坡面测控工具-CN201921578090.7有效
发明人：王欢;李长坤;左丽岗 -专利权人：北京燕化天钲建筑工程有限责任公司
申请日： 2019-09-20 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： E02D33/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种倒锥体混凝土基础坡面测控工具，包括直杠尺、顶部环形滑轨及底部环形滑轨，顶部环形滑轨及底部环形滑轨与倒锥体混凝土基础同轴地分别设置于倒锥体混凝土基础的顶部及底部，直杠尺沿倒锥体混凝土基础的母线设置，直杠尺的两端分别通过滑动配合件与顶部环形滑轨及底部环形滑轨滑动配合；上述测控工具依倒锥体混凝土基础的坡面设置，无中心转轴，利用倒锥体混凝土基础底部和顶部的滑轨固定直杠尺，直杠尺两端均可有效固定，不存在倒塌的问题，安全可靠，在坡面基础混凝土抹压时，只需在倒锥体混凝土基础的顶部和底部各1人，沿圆形轨道推动测控工具即可，坡面测控不影响基础施工，可边施工边检测，实际操作简便快捷，省时省力。
一种锥体混凝土基础测控工具

[实用新型]一种基板清洗头及基板清洗装置-CN201920764868.7有效
发明人： 李长坤;蒋阳波;赵德文;刘远航;路新春 -专利权人：清华大学
申请日： 2019-05-24 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基板清洗头及基板清洗装置，所述基板清洗头包括：具有一定厚度的圆盘状基座及同心连接于所述基座下表面的圆形清洁垫，所述基座沿厚度方向具有多个流体通道，所述清洁垫具有多个通孔，每个通孔耦合至不同的流体通道，使得清洗液可经由所述多个通孔中的一部分喷射至基板表面并在与基板表面的污染物结合后经由另一部分通孔吸走。
一种基板清洗头清洗装置

[实用新型]一种基板清洗头及基板清洗装置-CN201920764826.3有效
发明人：蒋阳波;赵德文;李长坤;刘远航;路新春 -专利权人：清华大学
申请日： 2019-05-24 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基板清洗头及基板清洗装置，基板清洗头包括具有一定厚度的圆盘状基座及同心连接于所述基座下表面的圆形清洁垫，所述基座沿厚度方向具有多个通道，所述清洁垫具有多个通孔，每个通孔耦合至不同的通道，不同的流体管延伸通过所述通道至所述清洁垫的通孔，使得清洗液可经由所述流体管及通孔喷射至基板表面并在与污染物结合后经由其他通孔吸走。
一种基板清洗头清洗装置

[发明专利]一种顺桥向交错拉索斜支圆环塔斜拉桥及施工方法-CN202010246897.1在审
发明人： 李长坤;陈兆慧;林国伟;叶长允;张清泉;孙杰;段庆普 -专利权人：济南城建集团有限公司;济南城建设计研究院有限责任公司;山东汇通建设集团有限公司;济南市市政工程建设集团有限公司;山东汇友市政园林集团有限公司;山东泉建工程检测有限公司
申请日： 2020-03-31 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： E01D11/04 文献下载
摘要：本发明属于斜拉桥技术领域，具体涉及到一种顺桥向交错拉索斜支圆环塔斜拉桥及施工方法，包括顺桥向的圆环塔，所述圆环塔下部两侧分别固结连接斜支柱，斜支柱与主梁固结连接，主梁两端通过支座支承在桥台上，主梁向下固结连接两斜腿桥墩，斜腿桥墩与基础固结连接；所述圆环塔上部内侧和主梁边跨之间交错锚固有斜拉索，圆环塔下部和主梁中跨之间锚固有斜拉索，交错锚固的斜拉索一端锚固在圆环塔上部，穿过圆环塔后另一端锚固在主梁边跨梁底。本发明的顺桥向交错拉索斜支圆环塔斜拉桥提高了该桥型景观效果，改善了圆环塔受力状态，可跨越较窄的主河槽，适用地形更广泛。
一种交错拉索斜支圆环斜拉桥施工方法

[发明专利]晶圆干燥装置-CN201810030585.X有效
发明人：赵德文;李长坤;路新春 -专利权人：清华大学;天津华海清科机电科技有限公司
申请日： 2018-01-12 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆干燥装置，晶圆干燥装置包括底座、储液池、晶圆驱动模组、晶圆干燥模组及调整模组。储液池设在底座上，储液池内适于装载去离子水。晶圆驱动模组设在底座上，晶圆驱动模组用于驱动晶圆升降。晶圆干燥模组用于朝向脱离液面的晶圆与去离子水形成的弯月面处喷射低表面张力物质，诱发沿弯面向下的Marangoni流动，促使晶圆表面吸附水膜的剥离，从而实现晶圆干燥。调整模组用于调整晶圆干燥模组朝向晶圆喷射低表面张力物质的喷射参数。根据本发明实施例的晶圆干燥装置，能够方便地调整晶圆干燥的相关参数，有利于分析各喷射工艺参数对干燥效果的影响机制，加深对晶圆干燥机理的认识。
干燥装置

[实用新型]一种基板处理液的存储装置和基板后处理设备-CN201920691174.5有效
发明人：赵德文;李长坤;路新春 -专利权人：清华大学
申请日： 2019-05-14 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及化学机械抛光后处理技术领域，公开了一种基板处理液的存储装置和基板后处理设备。基板后处理设备包括基板清洗模块和基板干燥模块，基板干燥模块包括存储装置。存储装置包括存储主体、第一管路、第二管路和第三管路，存储主体具有分别与管路气密连接的第一连接口、第二连接口和第三连接口；第一管路用于向存储主体内通入气体以增加存储主体内的压力；第二管路气密连接于压力检测部；第三管路气密连接于处理液供给管和排出管，供给管和排出管分别设置有独立的开关组件，使得可以通过第三管路向存储主体内加入处理液或从存储主体排出处理液。
一种处理存储装置基板后设备

[实用新型]一种用于基板干燥的流体供给装置和基板干燥设备-CN201920930588.9有效
发明人： 李长坤;赵德文;路新春 -专利权人：清华大学
申请日： 2019-06-19 - 公布日： 2020-04-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及化学机械抛光后处理技术领域，公开了一种用于基板干燥的流体供给装置和基板干燥设备，其中，流体供给装置包括存储主体、第一管路和第二管路，第一管路和第二管路分别与存储主体连通，第一管路和第二管路在存储主体外部通过加热管路连通；第一管路用于供给第一流体，第一流体的一部分流至存储主体内，第一流体的另一部分分流至加热管路加热后汇入第二管路并在第二管路中与存储主体内压出的第二流体混合后得以输出。提高了基板干燥的效果。
一种用于干燥流体供给装置干燥设备

[实用新型]一种基于马兰戈尼效应的晶圆后处理系统-CN201920897473.4有效
发明人： 李长坤;赵德文;路新春 -专利权人：清华大学
申请日： 2019-06-14 - 公布日： 2020-04-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及化学机械抛光后处理技术领域，公开了一种基于马兰戈尼效应的晶圆后处理系统，包括：晶圆提升装置，用于从清洗液中提拉浸入清洗液的晶圆；气体喷射装置，用于在晶圆从清洗液中提升的过程中，向晶圆表面附着的清洗液的弯液面区域喷射第一温度的干燥气体，以使晶圆表面的附着物按照与提升方向相反的方向从晶圆表面剥离。
一种基于马兰效应晶圆后处理系统