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[发明专利]一种平面磁控溅射阴极-CN201810647610.9在审
发明人：朱刚毅;朱刚劲;朱文廓 -专利权人：广东腾胜真空技术工程有限公司
申请日： 2018-06-22 - 公布日： 2018-09-28 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种平面磁控溅射阴极，包括阳极罩，设置在阳极罩内部的靶体，移动式设置在靶体内部的磁轭板，安装在磁轭板上的多个磁钢，安装在靶体上的靶材；靶体的上端设有凹槽，靶材位于靶体上端的凹槽内，阳极罩的上端设有敞口区域，从俯视方向上看，阳极罩的敞口区域包围着靶材。本发明的平面磁控溅射阴极的靶材利用率高，属于平面磁控溅射阴极的技术领域。
平面磁控溅射阴极阳极罩靶体上端靶材敞口区域磁轭板靶材利用率移动式设置体内部磁钢俯视包围

[发明专利]带自动翻片装置的磁材镀膜生产设备-CN201810647626.X在审
发明人：朱刚毅;朱刚劲;朱文廓 -专利权人：广东腾胜真空技术工程有限公司
申请日： 2018-06-22 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及带自动翻片装置的磁材镀膜生产设备，包括传送带装置，翻片装置，沿着镀膜生产路线依次设置的入片料架、进片室、进过渡室、进缓冲室、镀膜室、出缓冲室、出过渡室、出片室、出片料架；翻片装置包括架体，固定在架体上的导轨，沿着导轨滑动的第二取放机构、第一取放机构，托盘架，用于翻转托盘的翻转机构；托盘架上设有倒置的托盘，第一取放机构位于托盘架的上方，第二取放机构位于翻转机构的一侧，第一取放机构位于翻转机构的另一侧，翻转机构位于架体的内部；传送带装置的一端位于入片料架处，传送带装置的另一端位于出片料架处。本镀膜生产设备可对磁材进行双面镀膜，属于磁材镀膜的生产的技术领域。
取放机构镀膜生产翻转机构磁材传送带装置托盘架架体自动翻片装置托盘翻片装置过渡室缓冲室出片导轨料架片料双面镀膜依次设置倒置出片室镀膜室进片室翻转滑动镀膜生产

[发明专利]一种均匀性的多弧离子镀膜设备-CN201610495743.X有效
发明人： 朱文廓;朱刚劲;朱刚毅 -专利权人：广东腾胜真空技术工程有限公司
申请日： 2016-06-27 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种均匀性的多弧离子镀膜设备，包括多弧靶、真空室、设置在真空室内的路轨和架体；所述的架体上设有支撑件、中心轴、回转盘；用于支撑架体的支撑件移动式地安装在路轨上，回转盘套装在中心轴上，回转盘上设有相对回转盘转动的自转轴，自转轴上设有夹具，安装在真空室上的多弧靶朝向夹具。镀膜设备还包括直线驱动机构，真空室上设有第二密封装置，所述的直线驱动机构穿过第二密封装置与架体相接。所述的液压缸穿过第二密封装置连接在伸出臂上，液压缸的活塞杆的端部设有用于抓紧伸出臂的抓爪。本发明能实现工件镀膜均匀度的修正，提高了产品整体的品质，属于真空镀膜的技术领域。
一种均匀离子镀膜设备

[发明专利]多功能卷绕镀膜设备及方法-CN201610493694.6有效
发明人： 朱文廓;朱刚劲;朱刚毅 -专利权人：广东腾胜真空技术工程有限公司
申请日： 2016-06-27 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开一种多功能卷绕镀膜设备及方法，其设备中，真空室的离子处理区上方设置离子处理机构，镀膜区内设置磁控溅射镀膜机构和条形电子发射装置，镀膜区下方设有e型电子枪镀膜机构，镀膜区一侧设有直式电子枪镀膜机构，坩埚设于e型电子枪镀膜机构下方，卷绕机构设于真空室内。其方法是先在真空室中安装e型电子枪镀膜机构、磁控溅射镀膜机构或直式电子枪镀膜机构中的一种，柔性基材通过卷绕机构在真空室内进行输送，通过离子处理机构对柔性基材进行表面处理，再通过已安装好的镀膜机构对柔性基材进行表面镀膜。本多功能卷绕镀膜设备集成度高，设备成本低，占用空间也小，使用灵活而方便。
多功能卷绕镀膜设备方法

[发明专利]配置辅助阳极的低温沉积设备-CN201810647616.6在审
发明人：朱刚毅;朱刚劲;朱文廓 -专利权人：广东腾胜真空技术工程有限公司
申请日： 2018-06-22 - 公布日： 2018-08-28 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及配置辅助阳极的低温沉积设备，包括真空室和均置于真空室内的柔性基材、放卷辊、第一导辊、水冷鼓、第二导辊、收卷辊、多对磁控靶、多个辅助阳极；柔性基材依次绕过放卷辊、第一导辊、水冷鼓、第二导辊、收卷辊；多对磁控靶沿着水冷鼓圆周表面的圆周方向依次布置，每对磁控靶之间布置一个辅助阳极；第一导辊和第二导辊对称设置在真空室内，放卷辊和收卷辊对称设置在真空室内，水冷鼓设置在真空室的中心。本发明还涉及另外一种配置辅助阳极的低温沉积设备，低温沉积设备可以避免二次电子轰击到基材上，属于基材镀膜的技术领域。
导辊辅助阳极低温沉积水冷磁控靶放卷辊收卷辊对称设置柔性基材真空室室内配置二次电子基材镀膜依次布置基材绕过轰击

[实用新型]一种用于镀膜机的封闭式上下片系统-CN201721311629.3有效
发明人：朱刚劲;朱刚毅;朱文廓 -专利权人：肇庆兆达光电科技有限公司
申请日： 2017-10-11 - 公布日： 2018-07-10 - 主分类号： B65G47/91 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种用于镀膜机的封闭式上下片系统，包括壳体和均设置在壳体内部的基片移载机构、夹具移载机构、出料机构、上料机构、基片识别机构、方圆识别机构、机械手、承接机构、方形基片存放架、圆形基片存放架；上料机构，基片识别机构，用于识别夹具形状的方圆识别机构，用于夹取夹具的机械手，用于装载夹具的承接机构，用于存放方形基片的方形基片存放架，用于存放圆形基片的圆形基片存放架依次布置且均位于基片移载机构和夹具移载机构的下方；壳体上设有入料口和出料口，上料机构位于入料口处，出料机构位于出料口处。封闭式的上下片系统能实现基片的自动装夹和卸载，属于基片上下片的技术领域。
夹具移载机构存放架方形基片上料机构圆形基片片系统机械手承接机构出料机构基片识别出料口镀膜机入料口壳体本实用新型夹具形状壳体内部依次布置夹取卸载装载

[实用新型]一种双端进出的玻璃镀膜设备-CN201721312022.7有效
发明人：朱刚毅;朱刚劲;朱文廓 -专利权人：广东腾胜真空技术工程有限公司
申请日： 2017-10-11 - 公布日： 2018-05-18 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种双端进出的玻璃镀膜设备，包括依次连接且均设有滚筒传送机构的前进出片室、前过渡室、前缓冲室、镀膜室、后缓冲室、后过渡室、后进出片室；前进出片室的出入口处设有真空锁，前进出片室和前过渡室之间设有真空锁，前过渡室和前缓冲室之间设有真空锁，后缓冲室和后过渡室之间设有真空锁，后过渡室和后进出片室之间设有真空锁，后进出片室的出入口处设有真空锁；连通的前缓冲室、镀膜室、后缓冲室形成相通的真空室；镀膜室内设有多个定向旋转靶，定向旋转靶位于玻璃的上方，定向旋转靶内设有用于形成夹角磁场的磁铁。本实用新型可镀制较厚的膜层，属于玻璃镀膜的技术领域。
一种进出玻璃镀膜设备

[发明专利]一种双端进出的玻璃镀膜设备-CN201710942947.8在审
发明人：朱刚毅;朱刚劲;朱文廓 -专利权人：广东腾胜真空技术工程有限公司
申请日： 2017-10-11 - 公布日： 2018-01-05 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种双端进出的玻璃镀膜设备，包括依次连接且均设有滚筒传送机构的前进出片室、前过渡室、前缓冲室、镀膜室、后缓冲室、后过渡室、后进出片室；前进出片室的出入口处设有真空锁，前进出片室和前过渡室之间设有真空锁，前过渡室和前缓冲室之间设有真空锁，后缓冲室和后过渡室之间设有真空锁，后过渡室和后进出片室之间设有真空锁，后进出片室的出入口处设有真空锁；连通的前缓冲室、镀膜室、后缓冲室形成相通的真空室；镀膜室内设有多个定向旋转靶，定向旋转靶位于玻璃的上方，定向旋转靶内设有用于形成夹角磁场的磁铁。本发明可镀制较厚的膜层，属于玻璃镀膜的技术领域。
一种进出玻璃镀膜设备

[实用新型]一种低温沉积磁控溅射镀膜装置-CN201620666812.4有效
发明人： 朱文廓;朱刚劲;朱刚毅 -专利权人：广东腾胜真空技术工程有限公司
申请日： 2016-06-27 - 公布日： 2016-12-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开一种低温沉积磁控溅射镀膜装置，包括磁控靶和辅助电极，磁控靶设于基材的一侧或两侧，磁控靶的一侧或两侧设置辅助电极。其方法是在基材一侧设置磁控靶，在磁控靶外侧设置辅助电极，磁控靶对基材进行溅射镀膜时，通过辅助电极实施正偏压，利用异性相吸的原理，将溅射过程中产生的电子吸附到辅助电极表面，减少电子对基材表面的轰击，降低基材的温升，从而实现长时间的低温沉积。本实用新型可克服电子轰击对基材表面温升的影响，防止不耐温材料沉积过程中出现起皱折、拉伸、变形等缺陷，从而提高产品质量，由于可长时间进行低温沉积膜层，不仅能提高生产效率，镀膜设备中也可省去冷却机构的设置，降低生产成本，加强市场竞争力。
一种低温沉积磁控溅射镀膜装置

[实用新型]一种带品质智能检测系统的真空镀膜设备-CN201620667912.9有效
发明人： 朱文廓;朱刚劲;朱刚毅 -专利权人：广东腾胜真空技术工程有限公司
申请日： 2016-06-27 - 公布日： 2016-12-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种带品质智能检测系统的真空镀膜设备，包括真空室和均设置在真空室的隔板、多个磁控靶、基材、离子处理器、运行线路组件；运行线路组件包括沿着基材运行路径依次设置的放卷辊、第一导辊、第二导辊、第一检测辊、第三导辊、水冷鼓、第四导辊、第二检测辊、第五导辊、第六导辊、收卷辊；多个磁控靶沿着水冷鼓圆周表面的圆周方向布置，水冷鼓的两侧均设置一块隔板，用于对基材进行处理的离子处理器设置在真空室上；品质智能检测系统包括打标靶和测厚仪，测厚仪和打标靶沿着基材的运行方向依次设置在第四导辊和第六导辊之间。本实用新型能自动标记有缺陷的镀膜基材，提高生产效率，降低生产成本，属于真空镀膜的技术领域。
一种品质智能检测系统真空镀膜设备

[实用新型]电子束辅助等离子溅镀挠性覆铜板的设备-CN201620670169.2有效
发明人： 朱文廓;朱刚劲;朱刚毅 -专利权人：广东腾胜真空技术工程有限公司
申请日： 2016-06-27 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及电子束辅助等离子溅镀挠性覆铜板的设备，包括真空室和均设置在真空室内的隔板、多个电子束辅助装置、多对磁控靶、基材、用于控制基材运行的运行线路组件；运行线路组件包括沿着基材运行路径依次设置的放卷辊、第一导辊、第一检测辊、第二导辊、水冷鼓、第三导辊、第二检测辊、第四导辊、收卷辊；多对磁控靶沿着水冷鼓圆周表面的圆周方向布置，每对磁控靶的两侧均布置一个电子束辅助装置；放卷辊、第一导辊、第一检测辊、第二导辊、第三导辊、第二检测辊、第四导辊、收卷辊位于隔板的上方，电子束辅助装置、磁控靶位于隔板的下方。本实用新型有效改善金属薄层的沉积质量，大幅度提升金属薄层和基材的结合力，属于电子工业术领域。
电子束辅助等离子溅镀挠性覆铜板设备

[实用新型]多辊单室双面卷绕镀膜设备-CN201620665811.8有效
发明人： 朱文廓;朱刚劲;朱刚毅 -专利权人：广东腾胜真空技术工程有限公司
申请日： 2016-06-27 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型公开一种多辊单室双面卷绕镀膜设备，包括真空室、卷绕机构和镀膜机构，真空室为横置的圆筒状或方形箱状结构，真空室内部的空间包括卷绕区和镀膜区，且卷绕区和镀膜区之间通过水冷隔板隔离，水冷隔板上设有供卷材经过用的通孔，卷绕机构位于卷绕区内，镀膜机构位于镀膜区内。其方法是放卷辊放出的卷材穿过水冷隔板后进入镀膜区，在镀膜区内经过多组磁控靶逐渐进行双面镀膜，最后穿过水冷隔板进入卷绕区中由收卷辊进行收集。本实用新型通过在单一的真空室中设置卷绕机构和镀膜机构，并通过设置多组磁控靶和水冷辊实现卷材的双面镀膜，简化柔性基材双面镀膜的工艺，有效提高镀膜效率，降低产品成本，提高其市场竞争力。
多辊单室双面卷绕镀膜设备

[实用新型]增强型磁控溅射卷绕镀膜设备-CN201620669304.1有效
发明人： 朱文廓;朱刚劲;朱刚毅 -专利权人：广东腾胜真空技术工程有限公司
申请日： 2016-06-27 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型公开一种增强型磁控溅射卷绕镀膜设备，其中，卷绕机构、离子处理机构和镀膜机构设于真空室中；卷绕机构中的水冷鼓组件包括水冷鼓、绝缘动力传动件、同步带、电机、电机座和电极馈入接头，水冷鼓一端设置绝缘动力传动件、绝缘动力传动件通过同步带与电机连接，电机安装于电机座上，电极馈入接头设于绝缘动力传动件的外端，电极馈入接头外接偏压装置的负电位或正电位。其方法是当柔性基材送至水冷鼓处，水冷鼓先外接偏压装置的负电位，通过离子处理机构对柔性基材表面进行轰击处理；然后水冷鼓外接偏压装置的正电位，通过镀膜机构对柔性基材表面进行溅射镀膜。本实用新型可大幅提升膜层质量，特别是提高膜层的结合力，增强膜层附着力。
增强磁控溅射卷绕镀膜设备

[实用新型]多功能卷绕镀膜设备-CN201620665357.6有效
发明人： 朱文廓;朱刚劲;朱刚毅 -专利权人：广东腾胜真空技术工程有限公司
申请日： 2016-06-27 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开一种多功能卷绕镀膜设备，真空室的离子处理区上方设置离子处理机构，镀膜区内设置磁控溅射镀膜机构和条形电子发射装置，镀膜区下方设有e型电子枪镀膜机构，镀膜区一侧设有直式电子枪镀膜机构，坩埚设于e型电子枪镀膜机构下方，卷绕机构设于真空室内。其方法是先在真空室中安装e型电子枪镀膜机构、磁控溅射镀膜机构或直式电子枪镀膜机构中的一种，柔性基材通过卷绕机构在真空室内进行输送，通过离子处理机构对柔性基材进行表面处理，再通过已安装好的镀膜机构对柔性基材进行表面镀膜。本多功能卷绕镀膜设备集成度高，设备成本低，占用空间也小，使用灵活而方便。
多功能卷绕镀膜设备

[实用新型]一种均匀性的多弧离子镀膜设备-CN201620667913.3有效
发明人： 朱文廓;朱刚劲;朱刚毅 -专利权人：广东腾胜真空技术工程有限公司
申请日： 2016-06-27 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种均匀性的多弧离子镀膜设备，包括多弧靶、真空室、设置在真空室内的路轨和架体；所述的架体上设有支撑件、中心轴、回转盘；用于支撑架体的支撑件移动式地安装在路轨上，回转盘套装在中心轴上，回转盘上设有相对回转盘转动的自转轴，自转轴上设有夹具，安装在真空室上的多弧靶朝向夹具。镀膜设备还包括直线驱动机构，真空室上设有第二密封装置，所述的直线驱动机构穿过第二密封装置与架体相接。所述的液压缸穿过第二密封装置连接在伸出臂上，液压缸的活塞杆的端部设有用于抓紧伸出臂的抓爪。本实用新型能实现工件镀膜均匀度的修正，提高了产品整体的品质，属于真空镀膜的技术领域。
一种均匀离子镀膜设备