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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]自由形式畸变校正-CN202310822557.2在审
发明人：塔纳·科斯坤;托马斯·L·莱蒂格;建峰·陈 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在一些实施方式中提供了打印并处理层的方法和系统。所述层可以在晶片上或在应用面板上。之后，测量实际打印并处理的特征的位置。基于这些特征的测量差异与设计位置之间的差异，创建至少一个畸变模型。反演每个畸变模型以创建相应的校正模型。当有多个区段时，可以为每个区段创建畸变模型和校正模型。可以组合多个校正模型以创建全局校正模型。
自由形式畸变校正

[发明专利]自由形式畸变校正-CN201880032584.7有效
发明人：塔纳·科斯坤;托马斯·L·莱蒂格;建峰·陈 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：在一些实施方式中提供了打印并处理层的方法和系统。所述层可以在晶片上或在应用面板上。之后，测量实际打印并处理的特征的位置。基于这些特征的测量差异与设计位置之间的差异，创建至少一个畸变模型。反演每个畸变模型以创建相应的校正模型。当有多个区段时，可以为每个区段创建畸变模型和校正模型。可以组合多个校正模型以创建全局校正模型。
自由形式畸变校正

[发明专利]微LED阵列作为照射源-CN201780026100.3有效
发明人： 建峰·陈;克里斯多弗·丹尼斯·本彻 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-06-12 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： H01L27/15 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式一般涉及用于执行光刻工艺的设备和系统。更具体地，提供用于将图像投影到基板上的紧凑照射工具。在一个实施方式中，一种照射工具包括微LED阵列，所述微LED阵列包括一个或多个微LED。每个微LED产生至少一个光束。所述照射工具还包括：分束器，与所述微LED阵列相邻；一个或多个耐火透镜部件，与所述分束器相邻；和投影透镜，与所述一个或多个耐火透镜部件相邻。安装板有利地提供具有多个照射工具的系统中的紧凑对准，所述照射工具中的每个是可容易地移除和替换的。
led 阵列作为照射

[发明专利]图案放置校正的方法-CN201780085557.1有效
发明人：塔纳·科斯坤;建峰·陈 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：提供了用于校正基板上的图案放置的方法和设备。在一些实施方式中，一种用于校正基板上的图案放置的方法，包括：检测基板的三个参考点；检测多组三个裸片位置点，每组指示裸片的取向，所述多组三个裸片位置点包括与第一裸片相关联的第一组和与第二裸片相关联的第二组；计算所述第一裸片和所述第二裸片在所述基板上的所述取向的局部变换；从所述多组三个裸片位置点中选择三个取向点，其中所述取向点不是同一组的成员；从来自所述一组点的选定的所述三个取向点计算所述基板的第一全局变换；以及存储所述基板的所述第一全局变换和所述局部变换。
图案放置校正方法

[发明专利]线栅偏振器制造方法-CN201780015199.7有效
发明人： D·马克莱;建峰·陈 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-02-10 - 公布日： 2021-09-03 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本公开内容一般涉及用于使用干涉光刻制造用于LCD的线栅偏振器的系统和方法，所述系统和方法也可用于产生大面积光栅图案。在一个实施方式中，一种方法包括：在铝涂覆的平板显示器基板上方沉积底部抗反射涂覆层；在底部抗反射涂覆层上方沉积光刻胶层；和利用来自相位光栅掩模的图像将光刻胶层曝光。利用相位光栅掩模的曝光通过使用半Dyson光学系统将来自相位光栅掩模的±1衍射级成像到基板上来完成。多个半Dyson系统一般并行地用于图案化大面积基板的线栅偏振器的精细的几何线和空间。每个半Dyson系统包括主镜、正透镜和掩模版。
偏振制造方法

[发明专利]用于数字光刻的焦点定心方法-CN201780026015.7有效
发明人：叶欣·董;道格拉斯·约瑟夫·万·迪恩·布鲁克;安托尼·P·马内斯;建峰·陈 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-07-13 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本文公开的实施方式总体涉及调整数字光刻系统的聚焦设置。方法包括扫描光刻胶的表面。所述光刻胶形成在基板上。确定数字光刻系统的聚焦设置。在光刻胶上定位多个曝光位置。针对多个聚焦设置测量曝光部的侧壁宽度。响应于确定最小侧壁宽度来调整聚焦设置。
用于数字光刻焦点定心方法

[发明专利]用于多带电粒子束平板印刷术的像素融合-CN201580011781.7有效
发明人： 建峰·陈;托马斯·拉伊迪 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-02-26 - 公布日： 2020-03-17 - 主分类号： G06F30/39 文献下载
摘要：公开一种在平板印刷术制造工艺中将掩模数据图案施加至基板的系统和方法。在一个实施方式中，平行成像写入系统包括多个空间光调制器(SLM)成像单元以及被配置成控制所述多个SLM成像单元的控制器。所述多个SLM成像单元中的每个包括一或多个照明光源、一或多个对准光源、一或多个投影透镜以及多个微镜，所述多个微镜被配置成将来自一或多个照明光源的光投影至对应一或多个投影透镜。在平板印刷术制造工艺中，在将掩模数据写入基板的过程中，所述控制器使所述多个SLM成像单元的移动与所述基板的移动同步。
用于带电粒子束平板印刷术像素融合

[发明专利]使用倍频干涉光刻的线栅偏振器制造方法-CN201880038858.3在审
发明人： 建峰·陈;克里斯托弗·丹尼斯·本彻;D·马克莱 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-04-24 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本公开整体涉及用于使用Markle‑Dyson曝光系统和双重显影(DTD)倍频制造线栅偏振器(WGP)的方法和系统。在一个实施方式中，所述方法包括：将光刻胶层沉积在涂覆铝的显示器衬底之上；使用Markle‑Dyson系统通过双重显影将所述光刻胶层图案化以形成光刻胶图案；以及将所述光刻胶图案转移到所述涂覆铝的显示器衬底中以制造具有例如小于或等于约100nm的更精细的间距和增大的频率的WGP。
光刻胶图案光刻胶层衬底涂覆显影显示器曝光系统栅偏振器图案化增大的制造线倍频沉积精细制造

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