专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]PVD除尘装置及PVD镀膜设备-CN202320322537.4有效
  • 请求不公布姓名 - 广东利元亨智能装备股份有限公司
  • 2023-02-23 - 2023-06-30 - C23C14/56
  • 本实用新型涉及电池镀膜技术领域,具体而言,涉及一种PVD除尘装置及PVD镀膜设备。PVD除尘装置包括第一运输组件、除尘组件以及负压机;第一运输组件用于沿预设方向输送载板;除尘组件与第一运输组件连接;除尘组件与负压机连通,且除尘组件正对于载板用于放置电池片的装载面,以形成对装载面进行除尘的负压区域。该PVD除尘装置能够对载板进行除尘,避免在载板的表面残留粉尘颗粒,从而能够避免粉尘落到待镀膜的硅片上对硅片造成污染,进而避免电池片因粉尘而出现隐裂或破片的问题。
  • pvd除尘装置镀膜设备
  • [实用新型]一种电芯入壳工装及设备-CN202320588374.4有效
  • 请求不公布姓名 - 广东利元亨智能装备股份有限公司
  • 2023-03-22 - 2023-06-30 - H01M10/04
  • 本实用新型涉及电池的加工生产技术领域,公开了一种电芯入壳工装及设备。本实用新型的电芯入壳工装包括固定座以及在固定座上从上往下依次设置的外壳推入部件、对中部件和电芯推入部件;外壳推入部件用于夹持外壳并将外壳向下推入至对中部件;电芯推入部件用于装载电芯并将电芯向上推入至对中部件;对中部件包括两个夹块和用于驱动两个所述夹块的第一驱动件;两个所述夹块闭合形成用于匹配容纳外壳下端及电芯上端的对中槽,所述对中槽的内壁下端设有导向倒角。本实用新型有效保证了电芯与外壳之间的同轴度,能够避免电芯入壳过程中出现的碰撞现象,保证了电芯的完整性,提升了电池的良品率。
  • 一种电芯入壳工装设备
  • [实用新型]翻棒设备及切片生产线-CN202223425334.2有效
  • 请求不公布姓名 - 广东利元亨智能装备股份有限公司;广东舜储智能装备有限公司
  • 2022-12-19 - 2023-06-30 - B28D7/04
  • 本申请涉及光伏技术领域,提供了一种翻棒设备及切片生产线,翻棒设备包括:晶托,晶托与晶棒粘接为一体;支撑组件,支撑组件包括固定部,固定部与晶托连接;施力机构,施力机构与支撑组件连接,施力机构驱动支撑组件旋转,以驱动所述晶托和所述晶棒共同旋转。根据本申请提供的翻棒设备,利用晶托与晶棒连接,并利用固定部与晶托连接,从而通过驱动支撑组件旋转来带动晶托旋转,进而带动晶棒与晶托共同旋转,从而实现晶棒的翻转。由于晶托与晶棒共同旋转,支撑组件对晶托直接施力,避免了像现有技术中因为直接夹持晶棒而导致晶棒失衡、夹持不稳的情况出现。翻棒设备有利于以相对快的速度完成晶棒的翻转,从而提高对晶棒的翻转过程的执行效率。
  • 设备切片生产线
  • [实用新型]镀膜设备-CN202320710601.6有效
  • 请求不公布姓名 - 广东利元亨智能装备股份有限公司
  • 2023-03-31 - 2023-06-30 - C23C14/22
  • 本实用新型提供一种镀膜设备,涉及镀膜技术领域。所述镀膜设备包括储气罐、腔体以及多个进气管道,所述多个进气管道中的每一所述进气管道的第一端均与所述储气罐连接,所述多个进气管道所包括的多个第二端分别与所述腔体的不同位置连接,所述储气罐中的气体能够经任一所述进气管道进入所述腔体的内部。如此,储气罐中的气体分别通过多个进气管道自腔体的不同的位置进入腔体的内部,如此,提升了储气罐对腔体的供气的均匀性,进而提升了产品的镀膜效果。
  • 镀膜设备
  • [实用新型]一种输送装置-CN202320359378.5有效
  • 请求不公布姓名 - 广东利元亨智能装备股份有限公司
  • 2023-02-28 - 2023-06-30 - H01L21/677
  • 本实用新型的实施例提供了一种输送装置,涉及硅片制造技术领域。该输送装置包括输送板和多孔介质,输送板上设有通气孔,多孔介质设置在输送板上,且与输送板共同限定出气流腔室,其中,通气孔、气流腔室以及多孔介质依次连通,向通气孔中通入气体,气流经过气流腔室后,再从多孔介质中排出,以形成气膜,该气膜可以托举硅片,减少硅片与输送装置的表面接触,且由于采用多孔介质对硅片吹气,顶升硅片,硅片的运输稳定性更好,进而能够避免硅片破损,提高对硅片运输的稳定性。
  • 一种输送装置
  • [实用新型]一种吹气装置-CN202320360490.0有效
  • 请求不公布姓名 - 广东利元亨智能装备股份有限公司
  • 2023-02-28 - 2023-06-30 - H01L21/677
  • 本实用新型实施例提供了一种吹气装置,涉及非接触式运输器械技术领域。吹气装置包括本体,本体开设有带有出气口的凹槽,本体开设有与凹槽连通的进气口,从进气口进入凹槽内的气流能从出气口排出后吹向物料,以使物料悬浮在本体上方。当外部气体向进气口吹气时,气体会进入本体的凹槽内,并从凹槽的出气口排出,并且该气流吹向物料,在一定量的正压气体推动下,能够使得物料悬浮在本体的上方。因此,利用本体替代运输装置中的夹持装置及吸盘,便能够保证物料不会因为与运输装置中的夹持装置或吸盘直接接触而导致物料的破损问题。
  • 一种吹气装置
  • [实用新型]翻板装置及镀膜设备-CN202320700736.4有效
  • 请求不公布姓名 - 广东利元亨智能装备股份有限公司
  • 2023-03-31 - 2023-06-30 - C23C14/50
  • 本申请涉及真空镀膜设备技术领域,尤其是涉及一种翻板装置及镀膜设备,翻板装置包括驱动组件、连接组件和翻板部,所述翻板部经由所述连接组件与所述驱动组件连接,所述连接组件包括垫块部、连接部和预压部,所述连接部的第一部分经由所述垫块部与所述翻板部的连接,使得所述连接部的第二部分与所述翻板部之间形成安置间隙,所述预压部设置于所述安置间隙,且所述预压部的两端分别与所述连接部和所述翻板部连接。根据本申请提供的翻板装置及镀膜设备,有效地拓展了驱动组件对翻板部的施力范围,提高了翻板部的受力均匀性,有效地避免了因翻板部受力不均导致的翻板部发生翘边、嵌缝、漏气等气密性不良的现象。
  • 装置镀膜设备
  • [实用新型]位置检测校正装置及镀膜设备-CN202320710485.8有效
  • 请求不公布姓名 - 广东利元亨智能装备股份有限公司
  • 2023-03-31 - 2023-06-30 - G01B11/00
  • 本申请涉及光伏生产设备技术领域,尤其是涉及一种位置检测校正装置及镀膜设备,位置检测校正装置包括:连接基体,连接基体用于与待检测装置连接;标定组件,标定组件设置于连接基体,标定组件设置有定位部;校正构件,校正构件与连接基体相连接;检测构件,检测构件能够朝向标定部投射检测光线。本申请提供的位置检测校正装置,能够对待检测装置的所在位置高度进行检测,检测过程操作简单、耗时短且精度高,还能够根据检测结果对待检测装置的高度进行调节,并且在对待检测装置进行高度调节的过程中提供参照,不仅降低了调节难度,还显著提高了调节精度。
  • 位置检测校正装置镀膜设备
  • [实用新型]膜层厚度调节装置及镀膜设备-CN202320705488.2有效
  • 请求不公布姓名 - 广东利元亨智能装备股份有限公司
  • 2023-03-31 - 2023-06-30 - C23C14/54
  • 本申请涉及镀膜设备技术领域,尤其是涉及一种膜层厚度调节装置及镀膜设备,膜层厚度调节装置包括:固定构件;拨片,拨片的数量为多个,多个拨片顺次排布于固定构件,多个拨片位于用于发生镀膜的靶材与基材之间;每一个拨片均与固定构件活动连接,通过调节多个拨片中的至少一个拨片相对固定构件伸长或回缩,能够调节靶材的溅射区域的范围。本申请提供的膜层厚度调节装置,结构简单,便于安装,且调节操作过程简单、快捷,调节精度高,能够提高对基材所镀膜层厚度的一致性,进而提高了膜层质量,也提高了良品率。
  • 厚度调节装置镀膜设备
  • [发明专利]一种PVD工艺腔体及其应用-CN202310336217.9在审
  • 周剑波;余越华;朱争强;钟小兰 - 广东利元亨智能装备股份有限公司
  • 2023-03-30 - 2023-06-27 - C23C14/02
  • 本发明公开了一种PVD工艺腔体及其应用,其中PVD工艺腔体包括:腔体组件,内部设有用于硅片加工的加工区域,腔体组件上设有用于与抽真空件相连通的若干抽真空口;均匀加热组件,设置于腔体组件内,用于均匀加热加工区域;第一匀气组件,设置于腔体组件内,与若干抽真空口相连通,朝向加工区域内硅片的表面设置,能够均匀气流;第二匀气组件,设置于腔体组件内,位于第一匀气组件下方,与若干抽真空口相连通,朝向加工区域设置,能够均匀气流;第一匀气组件、第二匀气组件相对设置,且二者之间为加工区域和均匀加热组件。实现抽气功能与烘干功能二合一,并能提高硅片的良品率和生产效率。本发明应用于硅片处理设备领域。
  • 一种pvd工艺及其应用
  • [发明专利]一种硅片输送装置及输送方法-CN202310188503.5在审
  • 请求不公布姓名 - 广东利元亨智能装备股份有限公司
  • 2023-02-28 - 2023-06-27 - H01L21/677
  • 本发明的实施例提供了一种硅片输送装置及输送方法,涉及太阳能电池制造领域。该硅片运输装置包括支座、多孔介质以及气浮板,支座设有通气孔,通气孔用于与外部第一气源连接,多孔介质设置于支座,多孔介质设置于硅片的下方,多孔介质的孔隙用于输出正压气流,从而在多孔介质的表面形成气膜,气浮板和支座相邻设置,气浮板设有气流导向槽,多孔介质从硅片的下方进行供气,气流经过通气孔进入多孔介质的空洞中,在多孔介质的表面形成气膜使硅片悬浮,气浮板的气流导向槽能够引导气流的流动方向和硅片的运输方向一致,能够提高硅片的运输稳定性,避免影响硅片质量,提高生产效率。
  • 一种硅片输送装置方法

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