专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种改进底喷装置的对撞式气流磨磨室-CN202220378562.X有效
  • 董文;何欢;韩志明;张葆华;郭敬东;张敏刚;赵亚利;杨连圣;赵菁;胡磊 - 山西金山磁材有限公司
  • 2022-02-24 - 2022-07-19 - B02C19/06
  • 本实用新型公开了一种改进底喷装置的对撞式气流磨磨室,涉及钕铁硼制粉领域。包括磨室,磨室的上部设有主轴,主轴沿径向伸入磨室、且头部连接有涡轮分级器,主轴正对的磨室的侧壁设有出料口,位于主轴的下部设有侧重传感器的固定件,固定件环绕于磨室四周,侧重传感器位于固定件的外边缘端,磨室的中部侧壁倾斜设有加料口,磨室的下部侧壁设有四个均布的侧喷嘴,侧喷嘴倾斜设置且与磨室连通;磨室的底部设置有向磨室内喷气体的底喷装置,底喷装置包括喷嘴座和喷嘴盖,喷嘴座的喷口为喇叭状,喷口的外侧与喷嘴盖螺纹连接,喷嘴盖的喷出面上开有若干个均匀的喷嘴孔。本实用新型改善了底喷气流,提供其稳定性,提高生产效率,使粉末粒度分布变好。
  • 一种改进装置气流磨磨
  • [实用新型]一种超声波震动悬浮粉末成型装置-CN202220383036.2有效
  • 韩志明;郭敬东;杨连圣;闫广沛;赵亚利;董文;杨逢春;赵菁 - 山西金山磁材有限公司
  • 2022-02-25 - 2022-07-19 - B22F3/03
  • 本实用新型公开了一种超声波震动悬浮粉末成型装置,涉及烧结钕铁硼生产领域。该装置包括粉末成型的模具,模具的模具侧条上部开有超声波导入孔,所开的超声波导入孔高于粉料填装高度,超声波导入孔内端与模具的模腔内连通,超声波导入孔的外端与一根中空管件固定连接,中空管件的端部与超声波震动装置固定连接,超声波震动装置由电子模块控制来调节震动频率。本实用新型解决了烧结钕铁硼成型过程中粉末取向不充分,密度分度不均匀以及烧结后毛坯外观变形和开裂的问题;在模具侧条上端开孔固定超声波震动装置,在超声波和磁场的叠加作用下,粉末在模腔内震动悬浮,获得更高的饱和度,产品密度分布更加均匀,大幅提升烧结钕铁硼性能和外观质量。
  • 一种超声波震动悬浮粉末成型装置
  • [发明专利]一种磁控溅射平面靶磁通装置-CN202210274215.7有效
  • 杨连圣;张葆华;何欢;张敏刚;郭敬东;韩志明;赵菁;赵亚利 - 山西金山磁材有限公司
  • 2022-03-21 - 2022-06-07 - C23C14/35
  • 本发明公开了一种磁控溅射平面靶磁通装置,涉及磁控溅射镀膜设备领域。该装置包括壳体、矩形磁体结构与靶材,壳体的上表面开有设置靶材的窗口,靶材的两端通过压板压紧、且通过沉头螺栓固定;壳体内侧上表面与靶材的下表面平齐,靶材下方设置有隔板,隔板下方设置为平面靶材冷却水道,平面靶材冷却水道下方为矩形磁体结构,其通过L形的卡桩安装于壳体的内底面上,矩形磁体结构包括矩形的环状磁轭及底面的矩形磁轭,环状磁轭安装于矩形磁轭上,环状磁轭内按照海尔贝克的原理设置磁体阵列;磁体阵列的强磁性一面朝向靶材,弱磁性一面由矩形磁轭覆盖。本发明提高磁控溅射平面靶材溅射的均匀性,提高了靶材利用率,提升了生产效率,降低了生产成本。
  • 一种磁控溅射平面靶磁通装置
  • [发明专利]一种烧结钕铁硼镀膜及其真空镀膜工艺-CN201810853160.9有效
  • 何欢;李峰;郭敬东;张葆华 - 山西金山磁材有限公司
  • 2018-07-30 - 2020-03-31 - C23C14/35
  • 本发明涉及烧结钕铁硼镀膜相关领域,具体是一种烧结钕铁硼镀膜及其真空镀膜工艺,旨在解决现有钕铁硼镀膜及镀膜工艺的可靠性难以保障的技术问题。包括磁控溅射在钕铁硼磁材表面的Dy‑Al‑Mg合金层,还包括磁控溅射在所述Dy‑Al‑Mg合金层表面的B4C‑(c‑BN)复合层。Dy‑Al‑Mg合金层通过磁控溅射Dy‑Al‑Mg合金靶材实现,B4C‑(c‑BN)复合层通过两次溅射B4C‑(h‑BN)复合靶材实现,第一次在氩‑氮混合气体气氛下,另一次在氩‑氮‑氢混合气体气氛下,可在低气压条件下形成致密的高硬度立方c‑BN镀层。本发明针对钕铁硼材料特性,以全新的靶材和工艺实现对钕铁硼磁体表面形成致密的镀层,在提高磁性能的同时增强钕铁硼材料表面硬度及防腐耐磨性能。
  • 一种烧结钕铁硼镀膜及其真空镀膜工艺

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