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[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN202080045638.0在审
发明人：王惠瑜;丹吴直纮;山本庆;丸茂和博 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-04-28 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： C07C309/17 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种能够形成缺陷被抑制的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法。并且，本发明的其他课题在于提供一种包括上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法的图案形成方法、及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法为至少包含通过酸的作用分解而极性增大的树脂、通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物及溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法，是通过上述光化射线或放射线的照射产生酸的化合物包含选自由化合物(I)～下述化合物(III)组成的组中的1种以上的化合物，将包含上述通过酸的作用分解而极性增大的树脂及第1溶剂的第1溶液与选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上的化合物混合而制造感光化射线性或感放射线性树脂组合物的方法。
感光射线放射线性树脂组合制造方法图案形成电子器件

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN202080011046.7在审
发明人：上村稔;小岛雅史;后藤研由;山本庆;川岛敬史 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-01-10 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： C09K3/00 文献下载
摘要：本发明提供一种长期保存时的保存稳定性优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含由通式(I)表示的化合物和酸分解性树脂。M1+A‑‑L‑B‑M2+ (I)。
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

[发明专利]感光化射线性或感辐射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN202080006340.9在审
发明人：后藤研由;小岛雅史;上村稔;山本庆;白石康晴;王惠瑜 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-01-08 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种能够形成缺陷被抑制的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含酸分解性树脂以及通过光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物，上述通过光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物包含：选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上；以及选自由以通式(1)表示的化合物及由通式(2)表示的化合物组成的组中的1种以上。
感光射线辐射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

[发明专利]感光化射线性或感辐射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN202080006354.0在审
发明人：丹吴直纮;小岛雅史;上村稔;后藤研由;白川三千纮;山本庆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-01-17 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含：树脂A，通过酸的作用而极性增大；树脂B，包含选自由含有氟原子且在酸的作用下极性增大的树脂B1、含有氟原子且在碱的作用下极性增大的树脂B2、及含有氟原子且在酸的作用和碱的作用中的任一作用下极性都增大的树脂B3组成的组中的1种以上；以及化合物，通过光化射线或辐射线的照射而产生酸，通过上述光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物包含选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上，其中，上述树脂B1～上述树脂B3不包含含有离子键合性基团的重复单元。
感光射线辐射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

[发明专利]感光化射线性或感辐射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN202080006371.4在审
发明人：小岛雅史;上村稔;金子明弘;后藤研由;山本庆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-01-14 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种即使在长期保存情况下也能得到LWR性能优异的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含由通式(I)表示的化合物和酸分解性树脂。M1+A‑‑L‑B‑M2+ (I)。
感光射线辐射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

[发明专利]图案形成方法、上层膜形成用组合物、抗蚀剂图案及电子元件的制造方法-CN201580052504.0有效
发明人：后藤研由;井上尚纪;山本庆;丹呉直纮;白川三千纮 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2015-09-28 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明提供一种DOF、EL及水渍缺陷性能良好的图案形成方法、利用所述图案形成方法而形成的抗蚀剂图案、所述图案形成方法中使用的上层膜形成用组合物、以及包含所述图案形成方法的电子元件的制造方法。所述图案形成方法包括：步骤a，将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成抗蚀剂膜；步骤b，通过在所述抗蚀剂膜上涂布上层膜形成用组合物，而在所述抗蚀剂膜上形成上层膜；步骤c，对形成有所述上层膜的所述抗蚀剂膜进行曝光；以及步骤d，使用包含有机溶剂的显影液，对经所述曝光的所述抗蚀剂膜进行显影而形成图案；并且所述上层膜的表面的水的后退接触角为80°以上。
图案形成方法上层组合抗蚀剂电子元件制造

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法-CN201980039802.4在审
发明人：小岛雅史;上村稔;川岛敬史;后藤研由;山本庆;丸茂和博;王惠瑜 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2019-07-01 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种可获得LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种涉及上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：光产酸剂A，其产生通式(I)所表示且pKa为‑1.00以上的酸；选自由产生pKa比由光产酸剂A产生的酸大1.00以上的酸的光产酸剂B、及共轭酸的pKa比由光产酸剂A产生的酸大1.00以上的含氮化合物C组成的组中的1种以上；以及酸分解性树脂，在包含产生pKa小于‑1.00的酸的光产酸剂D情况下，光产酸剂A的含有摩尔数相对于光产酸剂D的含有摩尔数之比为1.0以上。
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

[发明专利]感光性树脂组合物及其制造方法、抗蚀剂膜、图案形成方法以及电子器件的制造方法-CN201980021461.8在审
发明人： 山本庆;大石康史;丹吴直紘;高桥秀知 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2019-03-19 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种感光性树脂组合物及其制造方法以及使用上述感光性树脂组合物而成的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，该感光性树脂组合物包含烯属不饱和化合物、通过酸的作用而极性增大的树脂及金属原子，上述金属原子的含量的合计相对于感光性树脂组合物的总质量为1ppt以上且30ppb以下，上述烯属不饱和化合物的含量相对于感光性树脂组合物的总质量为0.0001质量％以上且1质量％以下。
感光性树脂组合及其制造方法抗蚀剂膜图案形成以及电子器件

[发明专利]负型图案形成方法、保护膜形成用组合物及电子元件制法-CN201580047686.2有效
发明人：井上尚纪;丹呉直纮;山本庆;白川三千纮;后藤研由 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2015-09-15 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明涉及一种负型图案形成方法、保护膜形成用组合物及电子元件制法，所述图案形成方法能够形成焦点深度及曝光宽容度优异且线边缘粗糙度得到抑制的图案。本发明的图案形成方法包括：将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤；将保护膜形成用组合物涂布于所述感光化射线性或感放射线性膜上而形成保护膜的步骤；对由保护膜被覆的感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤；以及利用包含有机溶剂的显影液，对经曝光的感光化射线性或感放射线性膜进行显影的步骤；保护膜含有：包含至少一个选自由醚键、硫醚键、羟基、硫醇基、羰基键及酯键所组成的组群中的基团或键的化合物(A)，以及树脂(X)。
图案形成方法保护膜组合电子元件制法

[发明专利]图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物和膜、及制造电子元件的方法-CN201480015627.2有效
发明人：伊藤纯一;渋谷明规;后藤研由;白川三千纮;山本庆;吉野文博 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-03-14 - 公布日： 2020-01-14 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物和膜、及制造电子元件的方法。根据一个实施例，一种图案形成方法包含(a)由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜；(b)使所述膜曝光；及(c)用含有机溶剂的显影剂使经曝光的所述膜显影，从而形成负型图案。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含(A)当受酸作用时在所述含有机溶剂的显影剂中的溶解度降低的树脂，所述树脂含有具有以下通式(1)所表示的任何内酯结构的重复单元；及(B)在曝露于光化射线或放射线时产生酸的化合物。
图案形成方法感光射线放射线性树脂组合制造电子元件

[发明专利]图案形成方法、抗蚀剂图案及电子元件的制造方法-CN201580052713.5有效
发明人：井上尚纪;丹呉直纮;白川三千纮;山本庆;后藤研由 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2015-09-25 - 公布日： 2019-12-24 - 主分类号： G03F7/38 文献下载
摘要：本发明提供一种DOF及LER良好的图案形成方法、抗蚀剂图案及电子元件的制造方法。所述图案形成方法包括：步骤a，将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成抗蚀剂膜；步骤b，通过在所述抗蚀剂膜上涂布上层膜形成用组合物后，在100℃以上进行加热而在所述抗蚀剂膜上形成上层膜；步骤c，对形成有所述上层膜的所述抗蚀剂膜进行曝光；以及步骤d，使用包含有机溶剂的显影液，对经所述曝光的所述抗蚀剂膜进行显影而形成图案。
图案形成方法抗蚀剂电子元件制造

[发明专利]图案形成方法和各自使用它的电子器件制造方法和电子器件-CN201380034450.6有效
发明人：山中司;井口直也;上羽亮介;山本庆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-08-19 - 公布日： 2019-05-28 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：图案形成方法按下列顺序包括：(a)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(I)在基板上形成第一膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(I)包含在含有有机溶剂的显影液中的溶解度由于酸的作用所致的极性增加而降低的树脂；(b)将所述第一膜曝光；(c)使用含有有机溶剂的显影液将已曝光的第一膜显影以形成第一阴图型图案；(e)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(II)在所述基板上形成第二膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(II)包含在含有有机溶剂的显影液中的溶解度由于酸的作用所致的极性增加而降低的树脂；(f)将所述第二膜曝光；以及(g)使用含有有机溶剂的显影液将已曝光的第二膜显影以形成第二阴图型图案。
图案形成方法各自使用电子器件制造

[发明专利]图案形成方法、光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物、抗蚀剂膜、电子器件的制造方法以及电子器件-CN201380026683.1有效
发明人：伊藤纯一;山口修平;高桥秀知;山本庆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-05-23 - 公布日： 2018-10-09 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：提供一种图案形成方法，其包括：(i)由光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物形成膜的步骤；(ii)将膜曝光的步骤；以及(iii)通过使用含有有机溶剂的显影液进行显影以形成阴图型图案的步骤，其中所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物含有(A)能够通过酸的作用增加极性以降低在含有有机溶剂的显影液中的溶解度的树脂，(B)能够在用光化射线或放射线照射时生成酸的化合物，(C)溶剂，以及(D)含有具有氟原子并且不具有CF3部分结构的重复单元的树脂。
图案形成方法光化射线敏感放射线树脂组合抗蚀剂膜电子器件制造以及

[发明专利]处理液及图案形成方法-CN201680057969.X在审
发明人：平野修史;椿英明;土桥彻;二桥亘;山本庆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2016-09-26 - 公布日： 2018-06-08 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种能够同时抑制抗蚀剂L/S图案中的图案崩塌的发生和抗蚀剂C/H图案中的遗漏不良的发生的抗蚀剂膜图案化用处理液及图案形成方法。本发明的处理液为用于对由感光化射线性或感放射线性树脂组合物得到的抗蚀剂膜进行显影及清洗中的至少一种且含有有机溶剂的抗蚀剂膜图案化用处理液，所述处理液含有相对介电常数为4.0以下的第1有机溶剂和相对介电常数为6.0以上的第2有机溶剂。
处理液抗蚀剂膜有机溶剂相对介电常数图案形成抗蚀剂图案化图案感放射线性树脂组合物崩塌感光显影遗漏射线清洗

[发明专利]上层膜形成用组合物以及使用了该上层膜形成用组合物的图案形成方法及电子器件的制造方法-CN201680011620.2在审
发明人：后藤研由;井上尚纪;丹吴直纮;山本庆;白川三千纮 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2016-02-18 - 公布日： 2017-10-13 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明提供一种上层膜形成用组合物以及使用了该上层膜形成用组合物的图案形成方法和电子器件的制造方法，本发明的含有聚合物的光致抗蚀剂用上层膜形成用组合物中，能够通过光致抗蚀剂用上层膜形成用组合物，以较高的焦点深度性能形成具有超微细的宽度或孔直径，例如60nm以下的沟槽图案或孔图案，所述光致抗蚀剂用上层膜形成用组合物在聚合物的通过凝胶渗透色谱法测定的分子量分布中，重均分子量为4万以上的高分子量成分的峰面积相对于整体峰面积为0.1％以下。
上层形成组合以及使用图案方法电子器件制造

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