专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]电子组件嵌入式基板-CN202010449065.X在审
  • 黄美善;姜德万;张俊亨 - 三星电机株式会社
  • 2020-05-25 - 2021-06-18 - H01L23/31
  • 本发明提供一种电子组件嵌入式基板,所述电子组件嵌入式基板包括芯结构,所述芯结构包括第一绝缘主体和芯布线层并且具有腔和阻挡层。电子组件设置在所述腔中。所述阻挡层包括:第一金属层,嵌在所述第一绝缘主体中并且所述第一金属层的内表面的一部分从所述第一绝缘主体暴露;以及第二金属层,设置在所述第一金属层下方并且所述第二金属层的上表面的至少一部分被设置为所述腔的底表面。所述腔具有第一壁表面和第二壁表面,所述第一金属层的内表面和所述第一绝缘主体的内表面分别作为所述第一壁表面和所述第二壁表面,并且所述第一壁表面的倾斜度不同于所述第二壁表面的倾斜度。
  • 电子组件嵌入式
  • [发明专利]一种用于正性或负性光刻胶的清洗剂组合物-CN03802089.0无效
  • 吴世泰;姜德万;崔景洙 - 克拉瑞特国际有限公司
  • 2003-01-09 - 2005-05-11 - G03F7/32
  • 本发明涉及一种用于清洗光刻胶的组合物并提供一种清洗组合物,其中,含颜料的负性光刻胶在经清洗、温和烘干、曝光和显影之后,在所述清洗区域与未清洗区域之间的边界面上不存在所述光刻胶残余物。本发明提供一种用于清洗正性或负性光刻胶的组合物,包括:(a)0.1-20wt%的分子量为50-2000的烷基醚聚合物;和(b)80-99.9wt%的一种有机溶剂,包括(b-1)1-20重量份的二丙二醇甲基醚(DPGME)、10-50重量份的N-甲基吡咯烷酮(NMP)和50-90重量份的甲基异丁基酮(MIBK),或(b-2)10-90重量份的二甲基甲酰胺(DMF)或二甲基乙酰胺(DMAc)和10-50重量份的正丁基乙酸酯。
  • 一种用于光刻洗剂组合

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