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[发明专利]一种分光光度计测定铜酸蚀刻液中氯离子的方法及应用-CN202310692792.2在审
发明人：魏春雷;徐帅;马强;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;刘长乐;丁荣;方新军;戚玉霞 -专利权人： 四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2023-06-12 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G01N21/31 文献下载
摘要：本发明公开了一种分光光度计测定铜酸蚀刻液中氯离子的方法，包括以下步骤：制备氯离子标准溶液；待测溶液前处理；分光光度计测定吸光度，绘制标准曲线。本发明通过加入硝酸溶液，可以避免蚀刻液本身pH值的影响，并且排除碳酸根的干扰，避免形成碳酸银沉淀，造成氯离子检测误差。并且前处理简单，不受待测溶液本身pH的影响，所需试剂少，无制毒成分，环境友好，操作简单，测试步骤少，节约时间，废液处理简单。
一种分光光度计测定蚀刻氯离子方法应用

[实用新型]一种SEM样品台-CN202222823468.3有效
发明人：凌明华;徐帅;李闯;张红伟;黄海东;胡天齐;王毅明;方新军;戚玉霞 -专利权人：江苏和达电子科技有限公司;四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2022-10-25 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G01N23/2204 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种SEM样品台，属于SEM显微镜零部件技术领域，该一种SEM样品台，包括底台部；凸出部，一体成型于所述底台部的工作面，并以所述凸出部的上表面以及两侧面作为样品的附着面；固定件，由导电材料制成，固定于所述底台部的工作面，且位于所述凸出部的一侧；移动件。通过在一体成型于底台部工作面的凸出部的两侧分别设置固定件和移动件，通过控制移动件的线性移动，配合固定于底台部上工作面上固定件，从而实现固定件和移动件两相对夹持面间距的调节，从而实现对粘接于所述凸出部两侧面的样品进行夹持，并将固定件和移动件作为该样品的导电介质，以提高成像的清晰度。
一种 sem 样品

[发明专利]一种ITO蚀刻液组合物及其制备方法-CN202310515299.3在审
发明人：徐帅;马强;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;刘长乐;丁荣;魏春雷;方新军;戚玉霞 -专利权人： 四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2023-05-08 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： C09K13/06 文献下载
摘要：本发明涉及化学蚀刻液技术领域，尤其涉及IPC C09K13领域，更具体的，涉及一种ITO蚀刻液组合物及其制备方法。组分包括：草酸和/或草酸盐3‑10％，无机酸和/或无机酸盐0.01‑0.1％，有机碱0.5‑5％，表面活性剂0.01‑0.5％，去离子水补足余量。有机碱和表面活性剂的重量比为(1‑2)：(0.1‑0.5)，可提高ITO设备的稼动率，同时提高In负载达到2000ppm，提高药液使用周期较长，节省企业材料成本；表面活性剂包括萘系阴离子表面活性剂，可有效抑制草酸铟的结晶。
一种 ito 蚀刻组合及其制备方法

[发明专利]一种低成本的铜钼蚀刻液组合物及其制备与使用方法-CN202310294562.0在审
发明人：刘长乐;丁荣;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;马强;魏春雷;徐帅;方新军;戚玉霞 -专利权人： 四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2023-03-24 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明涉及专利IPC分类的C23F1领域，尤其涉及一种低成本的铜钼蚀刻液组合物及其制备与使用方法。包括主剂和辅剂，以质量百分比计，所述主剂包括：过氧化氢6～20％，有机酸1～15％，有机碱1～15％，过氧化氢稳定剂0.1～5％，缓蚀剂0.001～1％，表面活性剂0.1‑10％，电化学调节剂0.3‑5％，超纯水补充余量；所述辅剂包括：有机酸5～30％，有机碱5～30％，过氧化氢稳定剂0.01～2％，缓蚀剂0.001～1％，表面活性剂0.1‑10％，电化学调节剂0.3‑5％，超纯水补充余量。解决倒角与蚀刻形貌的问题，具有14000ppm的铜离子负载能力，钼残下限可达0.50μm。
一种低成本蚀刻组合及其制备使用方法

[发明专利]一种纯铜金属刻蚀液及其使用方法-CN202310294563.5在审
发明人：刘长乐;丁荣;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;马强;魏春雷;徐帅;方新军;戚玉霞 -专利权人： 四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2023-03-24 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及金属表面化学处理领域，尤其涉及IPC C23F1领域，具体涉及一种纯铜金属刻蚀液及其使用方法。所述主剂的组分按照主剂的质量百分比计，包括：氧化剂3‑15％，强氧化性酸1‑15％，有机酸1‑15％，有机碱0.5‑15％，双氧水稳定剂0.01‑4.0％，金属缓蚀剂0.01‑1.0％。所述辅剂的组分按照辅剂的质量百分比计，包括：有机酸1‑40％，金属缓蚀剂0.01‑1％。本发明具有拥有极佳的蚀刻范围，能实现表面无金属残留、无倒角、无裂缝、较高的铜负载量，能有满足超精细产品的生产要求。
一种金属刻蚀及其使用方法

[发明专利]一种超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物及其制备方法-CN202310323581.1在审
发明人：徐帅;马强;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;刘长乐;丁荣;魏春雷;方新军;戚玉霞 -专利权人： 四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2023-03-29 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及蚀刻液技术领域(IPC分类号为C23F1/18)，尤其涉及一种超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物及其制备方法，所述组合物包括主剂和辅剂，所述主剂的制备原料包括：过氧化氢、氟源、有机酸、丁基醚衍生物、第一氨基氮唑衍生物、第一溶剂。所制备的金属蚀刻液组合物具有远高于现有技术的铜离子负载量，负载能力可达25000ppm，蚀刻性能良好，蚀刻持久性强，蚀刻液使用寿命长，经济效益高，实际应用中能够显著为企业节省成本并提高成品效果，具有极高的应用价值。
一种超高离子负载金属蚀刻组合及其制备方法

[实用新型]一种小型反应釜-CN202222131786.3有效
发明人：凌明华;徐帅;张红伟;李闯;黄海东;胡天齐;王毅明;方新军;戚玉霞 -专利权人：江苏和达电子科技有限公司;四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2022-08-12 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： B01F27/80 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种小型反应釜，属于反应釜技术领域，该一种小型反应釜，包括壳体部件，所述壳体部件内部中空形成有反应区间，所述壳体部件包括内层壳体和外层壳体，且所述内层壳体和外层壳体之间形成有控温区间；感温部件，所述感温部件的测温探头延伸至所述反应区间内；控温部件，通过管道同所述壳体部件上的流体进口和流体出口连接。通过设置感温部件对反应区间内液体温度进行测量，通过控制器对测量的数据进行处理，并将测量所得到的数值同标椎值进行比较，通过比较的结果控制控温部件的运行，进而对控温组件内流体的温度进行调节，进而实现反应区间内温度的调节，使反应温度可控化，从而降低实验误差。
一种小型反应

[发明专利]一种铜蚀刻液组合物及其制备方法和应用-CN202011552376.5有效
发明人：徐帅;张红伟;李闯;胡天齐;钱铁民 -专利权人：江苏和达电子科技有限公司;四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2020-12-24 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： C23F1/14 文献下载
摘要：本发明提供一种铜蚀刻液组合物及其制备方法和应用，所述铜蚀刻液包括主剂和辅剂，所述主剂和辅剂中至少一者中含有三聚氰胺和/或其衍生物。本发明的铜蚀刻液组合物价格低廉，且经所述铜蚀刻液处理过的铜/钼膜层表面无金属残留、无倒角、无裂缝、且具有较小的关键尺寸损失(CD‑loss)、较适当的锥角(taper angle)、较高的铜负载量、较小的CD‑loss变化量和较小锥角变化量。
一种蚀刻组合及其制备方法应用

[实用新型]一种小型蚀刻机-CN202222132142.6有效
发明人：凌明华;徐帅;张红伟;李闯;黄海东;胡天齐;王毅明;方新军;戚玉霞 -专利权人：江苏和达电子科技有限公司;四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2022-08-12 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种小型蚀刻机，属于蚀刻机技术领域，该一种小型蚀刻机，包括壳体部件，内部形成有一工作区间；隔板部件，垂直设置于所述壳体部件内，从而将所述工作区间划分为相互独立的水洗区间和蚀刻区间；载物基台，设置于所述工作区间内。通过设置隔板部件将壳体部件的内部空间分为相互独立的蚀刻区间和水洗区间，配合蚀刻组件和水洗组件实现相应的蚀刻和水洗作业，通过设置推料组件带动放置有玻璃基板的载物基台在水洗区间和蚀刻区间之间运动，从而将玻璃基板的水洗作业和蚀刻作业联系在一起，实现产线化作业。
一种小型蚀刻

[发明专利]一种性能优异的金属蚀刻液及其制备方法-CN202111226379.4在审
发明人：徐帅;张红伟;李闯;胡天齐;钱铁民;马强;刘长乐;刘金兵 -专利权人：江苏和达电子科技有限公司;四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2021-10-21 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： C23F1/14 文献下载
摘要：本发明属于C23F技术领域，更具体的涉及一种性能优异的金属蚀刻液及其制备方法。一种性能优异的金属蚀刻液组合物，制备原料包括氧化剂和含羟基聚合物；所述的含羟基聚合物的数均分子量为200‑10000。经本发明提供的金属蚀刻液组合物通过位阻型缓蚀剂聚乙烯醇的加入，可以减弱金属的侧蚀刻，减小线宽损失；pH稳定剂的加入，可以保证体系中存在合适的氢离子浓度，稳定了对金属的去除能力；经过本申请中丙二酸、苹果酸的加入，可以螯合金属离子，减弱金属离子对过氧化氢的催化分解作用，在稳定体系pH的同时可以稳定双氧水的分解，并且可以满足超高清中小尺寸面板的生产需求，生产过程无环境有害物加入，环保度高，废液处理成本低，在企业生产中具有较高的推广价值。
一种性能优异金属蚀刻及其制备方法

[发明专利]一种铜金属蚀刻液组合物及其使用方法-CN202111285921.3在审
发明人：徐帅;张红伟;李闯;胡天齐;钱铁民;马强;刘长乐;刘金兵 -专利权人：江苏和达电子科技有限公司;四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2021-11-02 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明属于C23F技术领域，更具体的涉及一种铜金属蚀刻液组合物及其使用方法。一种铜金属蚀刻液组合物，制备原料包括主剂和辅剂；所述的主剂的制备原料包括：氧化剂、碳原子数大于2的羧酸类物质、含胺类物质、稳定剂、缓蚀剂和溶剂；所述的辅剂的制备原料至少包括有机酸和有机碱。经本发明提供的铜金属蚀刻组合物可以保证在蚀刻过程完成后具有较高的铜负载量，可达10000ppm以上，并且不会出现倒角和拖尾现象，保证了其在蚀刻领域的应用价值。
一种金属蚀刻组合及其使用方法

[发明专利]一种叠层金属和金属氧化物蚀刻液组合物及其使用方法-CN202110239107.1有效
发明人：徐帅;张红伟;李闯;胡天齐;钱铁民 -专利权人： 四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2021-03-04 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明提供一种叠层金属和金属氧化物蚀刻液组合物及其使用方法，原料包括：按质量百分数计，过氧化氢5‑20％，无机酸1‑10％，氟离子源0.01‑1％，络合剂1‑10％，碱类化合物1‑10％，金属缓蚀剂0.01‑1％，溶剂补充余量。本发明提供一种叠层金属和金属氧化物蚀刻液组合物及其使用方法不仅能有效蚀刻叠层金属和金属氧化物，而且蚀刻形貌好，蚀刻精度高，能有效满足客户的要求。
一种金属氧化物蚀刻组合及其使用方法

[发明专利]一种双氧水系金属蚀刻液组合物及其使用方法-CN202111237290.8在审
发明人：徐帅;张红伟;李闯;胡天齐;钱铁民;马强;刘长乐;刘金兵 -专利权人：江苏和达电子科技有限公司;四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2021-10-21 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： C23F1/14 文献下载
摘要：本发明属于C23F技术领域，更具体的涉及一种双氧水系金属蚀刻液组合物及其使用方法。一种双氧水系金属蚀刻液组合物，制备原料按重量百分比计，包括：氧化剂5‑30％、酸类物质1‑15％、有机碱1‑15％、稳定剂0.01‑1％、缓蚀剂0.01‑4％、溶剂补充余量至100％。经本发明提供的金属蚀刻液组合物的无氟、无磷、环境友好、废液处理成本较低，符合国家环保要求，具有极高的推广意义和使用价值；经本发明提供的金属蚀刻液组合物具有较高的铜离子负载能力，铜离子负载量≥6000ppm，可以在使用过程中调节铜与钼铌金属膜的蚀刻速率比；经本发明提供的金属蚀刻液组合物中无氢氟酸的使用，不会影响产品的品质，保证了此蚀刻液在蚀刻领域的使用价值。
一种双氧水金属蚀刻组合及其使用方法

[发明专利]一种钛合金蚀刻液组合物及其使用方法-CN202110160013.5有效
发明人：徐帅;张红伟;李闯;胡天齐;钱铁民 -专利权人： 四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2021-02-05 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明提供了一种钛合金蚀刻液组合物及其使用方法。所述组合物包括主剂和辅剂。本发明通过主剂和辅剂相互配合，选用特定质量含量不同的化合物或其组合，与不同金属或金属氧化物发生化学反应，使其变为可溶性的金属盐，具备较高的铜离子负载能力，能够达到良好的蚀刻形貌。
一种钛合金蚀刻组合及其使用方法

[实用新型]一种废弃铜蚀刻液用回收装置-CN202220938278.3有效
发明人：方新军;戚玉霞;阳建 -专利权人： 四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2022-04-22 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： B01F27/90 文献下载
摘要：本实用新型公开一种废弃铜蚀刻液用回收装置，包括回收器壳体，回收器壳体顶部的一侧安装有第一电机，第一电机的输出端贯穿回收器壳体的顶部连接有齿轮，齿轮啮合有齿环，齿环的外部一体成型有连接环，连接环的底部贯通有曝气管，曝气管的外部等距开设有多组气孔，连接环的顶部与第一连接管的一端连接，第一连接管贯穿回收器壳体顶部开设的滑槽并且连接有第二连接管，第二连接管的另一端与气泵的输出端连接，本实用新型通过启动第一电机，带动齿轮转动，使齿轮啮合的齿环转动，使与齿环一体成型的连接环利用限位环在滑槽中转动，带动曝气管转动，可以改变曝气管的位置，增加曝气范围，使废液与反应药剂的反应效率更快，提高回收效率。
一种废弃蚀刻回收装置

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