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[发明专利]一种硅基光电器件单片集成方法-CN202310371075.X在审
发明人：胡浩;柳俊;向诗力 -专利权人：湖北九峰山实验室
申请日： 2023-04-09 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅基光电器件单片集成方法，包括如下步骤：在硅衬底上形成光子隔离层；在光子隔离层上沉积非晶硅层；对非晶硅层进行激光退火，使非晶硅层表层晶化为多晶硅层；在非晶硅层制备光无源器件；在多晶硅层制备光有源器件。本发明的方法能够协同发挥非晶硅传输损耗小、多晶硅迁移率高的优势，从而提高光电器件品质。
一种光电器件单片集成方法

[发明专利]基于C-N动态共价键的纳米压抑抗蚀剂及其制备方法和应用-CN202310325280.2在审
发明人： 向诗力 -专利权人：湖北九峰山实验室
申请日： 2023-03-29 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： C08G18/66 文献下载
摘要：本发明提供了一种纳米压印抗蚀剂及其制备方法和应用。该抗蚀剂由聚己内酯二醇、官能化的六芳基联咪唑在催化剂的催化条件下与甲苯二异氰酸酯发生加成聚合，制备得到；其中，所述官能化的六芳基联咪唑的分子式如式(Ⅰ)所示，该抗蚀剂在30～60℃、405～450nm，光功率密度≥3mW/cm2的可见光照射下，聚合物网络结构中的六芳基联咪唑单元中的两个咪唑环之间的动态C‑N共价键裂解，转化为具有流动性的低分子量聚合物，避光静置后，聚合物网络结构中的C‑N动态共价键复合，恢复为高聚物，该抗蚀剂既可以避免在高温下衬底与模板的热膨胀系数不一样造成的转印图案移位问题，还可以避免使用对生物体有害的紫外光，压印后的图案表面平整度较好、边缘整齐。
基于动态共价键纳米压抑抗蚀剂及其制备方法应用

[发明专利]一种具有介电支撑层的T形栅及其制备方法-CN202310227204.8在审
发明人： 向诗力;柳俊 -专利权人：湖北九峰山实验室
申请日： 2023-03-09 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L29/423 文献下载
摘要：本发明提供一种具有介电支撑层的T形栅及其制备方法，上述的具有介电支撑层的T形栅包括：衬底、介电支撑层、栅脚及栅帽；栅脚的一端与衬底的上表面连接，栅脚的另一端与栅帽的底面中部区域连接，栅帽与栅脚构建形成T形结构；介电支撑层设于栅帽的下表面与衬底的上表面之间；介电支撑层与栅脚平行布设，用于支撑栅帽和栅脚。该具有介电支撑层的T形栅的引入使得可定义的栅脚宽度尺寸相较于现有技术可以做到更小，还能对栅脚和栅帽起到一定的稳定支撑的作用，使整体结构在使用过程中不易坍塌，提高了T形栅器件的机械稳定性和工艺良率；同时，由于其并非整面沉积，因此栅极寄生电容的增加可控制在很小范围内。
一种具有支撑及其制备方法

[发明专利]一种适用于UV-NIL技术的掩模板、及其制备方法和应用-CN202310148509.X在审
发明人： 向诗力;柳俊 -专利权人：湖北九峰山实验室
申请日： 2023-02-20 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G03F1/54 文献下载
摘要：本发明涉及纳米压印领域，具体涉及一种适用于紫外‑纳米压印技术(UV‑NIL)的掩模板、及其制备方法和应用。该掩模板，包括透明基板、位于透明基板上的凸起及位于凸起之间的凹槽，所述凹槽与预设图形相对应，所述凸起顶部及凸起周边覆盖有遮光层。该掩膜板结构简单，通过两次沉积遮光层即可制备得到；该掩模板因其凸起部位侧面能够避免曝光，压印过程中近邻侧面的光刻胶层随厚度深入，固化程度逐渐下降，控制显影时间，即可得到易于剥离(liff‑off)的底切(undercut)结构。
一种适用于 uv nil 技术模板及其制备方法应用

[发明专利]一种T型栅模板及其制备方法和应用-CN202310195915.1在审
发明人： 向诗力;柳俊;彭文斌 -专利权人：湖北九峰山实验室
申请日： 2023-02-28 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种T型栅模板及其制备方法和应用，属于半导体器件技术领域。所述T型栅模板由透明材料制成，包括基板、位于所述基板上的第一凸起结构和位于所述第一凸起结构上的第二凸起结构；所述第一凸起结构的侧面覆盖有遮光层；所述第二凸起结构的侧面覆盖有遮光层。在紫外‑纳米压印光刻技术中使用该T型栅模板制备T型栅时，不需要旋涂多层光刻胶就能形成底切结构，使得光刻胶易于剥离，且不会影响T型栅的机械稳定性。该模板可用于T栅结构器件的大批量复制，生产效率极高。
一种模板及其制备方法应用

[发明专利]基于六芳基联咪唑分子开关的紫外正性光刻胶及使用方法-CN202110490116.8在审
发明人：朱明强;向诗力;李冲 -专利权人：湖北高碳光电科技有限公司
申请日： 2021-05-06 - 公布日： 2021-09-03 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明属于微电子加工材料技术领域，更具体地，涉及一种基于六芳基联咪唑分子开关的紫外正性光刻胶及使用方法。其包括含低聚物二元醇、官能化的六芳基联咪唑分子开关交联剂以及自由基淬灭剂的A胶和包含催化剂和二异氰酸酯的B胶。利用该光刻胶进行光刻时，该光刻胶聚合物曝露于紫外光照下，六芳基联咪唑(HABI)单元中两个咪唑环之间的动态C‑N共价键响应光照裂解，含动态HABI单元的高分子聚合物因此解聚形成低聚物；自由基淬灭剂用于确保该光刻胶在曝光解聚形成低聚物后不会自发复原，从而保证光刻胶曝光部分形成的低聚物能溶解于显影液中，而未曝光部分不会被显影液溶解，显影后得到具有高分辨率的正性图案。
基于六芳基联咪唑分子开关紫外光刻使用方法

[发明专利]一种光刺激响应性凝胶材料、其制备和应用-CN201910247062.5有效
发明人：朱明强;苏玉煊;李冲;向诗力 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2019-03-29 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： C08G18/66 文献下载
摘要：本发明属于机械化学传导材料技术领域，更具体地，涉及一种光刺激响应性凝胶材料、其制备和应用。在遮光条件以及惰性气体保护下，将多羟基修饰的六芳基联咪唑类分子的有机溶液、聚二元醇以及小分子多元醇混合搅拌，得到混合溶液；将二异氰酸酯与所述混合溶液混合，在催化剂作用下发生交联反应，固化成型后得到包含有机溶剂的光刺激响应性凝胶材料；该凝胶材料置于溶剂中对光刺激响应灵敏，其形变程度可以通过光照时间进行调控，照射时间越长，形变越明显。本发明制备的智能凝胶材料为双交联网络结构，主链上含六芳基联咪唑，可以兼顾凝胶的形变能力和力学性能。本发明制备出的光驱动的凝胶反应过程简单，成本低廉，适用范围广。
一种刺激响应凝胶材料制备应用

[发明专利]一种可自愈光控塑性聚氨酯弹性体材料、其制备和应用-CN201810510455.6有效
发明人：朱明强;向诗力;李冲;赵鹏举 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2018-05-24 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： C08G18/73 文献下载
摘要：本发明公开了一种聚氨酯弹性体材料及其制备方法，通过以六芳基联咪唑(HABI)类光致变色分子和多元醇作为弹性体材料的交联剂，构筑出有双交联网络结构的聚氨酯弹性体材料，相应地获得了一种对紫外光有快速响应的智能变形聚氨酯材料，且该材料具有自愈合功能。本发明的聚氨酯弹性体有着很好的韧性、延展性和抗疲劳性等机械物理性能，作为一种智能材料，在驱动器、软体机器人、人造生物器官、传感器、制造业、医疗保健、可穿戴设备和医疗器械等方面有着潜在的应用市场。
一种自愈光控塑性聚氨酯弹性体材料制备应用

[发明专利]一种向光性形状记忆聚合物材料、其制备方法及应用-CN201811063475.X有效
发明人：朱明强;向诗力;李冲;赵鹏举 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2018-09-12 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： C08G18/73 文献下载
摘要：本发明属于柔性智能驱动材料技术领域，更具体地，涉及一种兼具光响应和温度响应的向光性形状记忆聚合物材料、其制备方法及应用。该智能聚合物材料为具有双交联网络结构的聚氨酯弹性体材料，其为以聚己内酯二醇作为扩链剂，以四羟基功能化的六芳基联咪唑类分子开关为动态交联点，以多元醇作为固定交联点，与异氰酸酯发生交联反应得到的聚合物材料。该聚合物材料在紫外光照以及温度驱动条件下，表现出快速的形变响应，具有良好的向光性，温度驱动条件下形变可逆，由此解决现有技术的智能光驱动材料需要将厚度降低至微米级才能表现出驱动效果，或者驱动反应迟钝、不可逆等技术问题。
一种形状记忆聚合物材料制备方法应用

[发明专利]一种拉伸变色聚氨酯弹性体材料及其制备方法-CN201710862966.X有效
发明人：朱明强;向诗力;龚文亮 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2017-09-22 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： C08G18/76 文献下载
摘要：本发明属于机械化学传导材料技术领域，具体涉及一种拉伸变色聚氨酯弹性体材料及其制备方法。通过采用以低聚物二元醇，二异氰酸酯以及六芳基联咪唑类分子为原料制备得到以六芳基联咪唑为变色单元的拉伸变色聚氨酯弹性体材料，该聚氨酯弹性体对机械力响应灵敏，其变色程度与所施加的应力成正比，应力越大，变色越明显。本发明制备的聚氨酯弹性体材料为线性结构，主链上含六芳基联咪唑，聚氨酯材料受应力发生应变的过程，应力会顺着主链向六芳基联咪唑上传导，最终致使六芳基联咪唑两个咪唑环之间C‑N键的断裂，形成颜色区别于六芳基联咪唑的三苯基咪唑自由基，撤出应力，聚氨酯材料恢复至初始无颜色状态，此过程可逆。
六芳基联咪唑聚氨酯弹性体材料变色拉伸制备聚氨酯材料主链低聚物二元醇聚氨酯弹性体二异氰酸酯苯基咪唑变色单元传导材料线性结构响应灵敏颜色区别颜色状态原料制备成正比机械力自由基咪唑环可逆传导机械化断裂撤出施加恢复

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