“华海清科股份有限公司”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果384个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种晶圆滑片风险的评估方法及化学机械抛光装置-CN202211570496.7在审
发明人：杨朝霞;温世乾;倪孟骐;赵德文;路新春 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-08 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： G06F30/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆滑片风险的评估方法及化学机械抛光装置，包括：S100、采集气膜和保持环的摩擦力矩，分别记为torqueA和torqueB；对保持环的平均摩擦力fRR赋值，使总合摩擦力矩等于torqueB，根据fRR计算保持环所受的侧向力FRR和摩擦系数μs；对气膜的平均摩擦力fw赋值，使总合摩擦力矩等于torqueA，根据fw计算晶圆所受的侧向摩擦力FW和摩擦系数μk；定义边界条件a和b，令a＝μs‑μk，b＝FRR‑FW，若a‑0.5和/或b‑1500，则晶圆存在滑片风险。本发明提供的滑片评估方法根据侧向摩擦力和摩擦系数的大小可判断当前工况和其他工况的差异，可复现现场工况。
一种圆滑风险评估方法化学机械抛光装置

[发明专利]采用球磨法制备二氧化铈悬浮液的方法及其产品与应用-CN202111174255.6在审
发明人：谢李乐;王同庆;路新春 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2021-10-09 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本申请涉及无机材料技术领域，提供了一种采用球磨法制备二氧化铈悬浮液的方法及其产品与应用。本申请提供的采用球磨法制备二氧化铈悬浮液的方法包括步骤：将二氧化铈颗粒进行球磨，然后分散到水中，得到二氧化铈悬浮液；球磨步骤中：磨球直径为1‑10mm，磨球和磨料的质量比为2‑10：1，水和磨料的质量比为2‑32：1，球磨时间为6‑12小时。本申请对微米级团聚状二氧化铈颗粒进行球磨，二氧化铈颗粒平均直径能降低到90‑180nm；并且将球磨后二氧化铈颗粒分散在水里后，可以维持良好的稳定性；可应用到氧化硅和氮化硅的化学机械抛光中，从而实现很好的抛光效果。
采用法制氧化悬浮液方法及其产品应用

[发明专利]一种基板磨削方法-CN202211684451.2在审
发明人：刘远航;付永旭;陈超;路新春 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： B24B7/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种基板磨削方法，其包括：实时检测磨削基板受到的磨削力；计算磨削力引起的磨削工作台的倾斜角度变化；根据基板的已加工面形和目标面形，确定磨削工作台的倾斜角度调整方案，以补偿磨削力引起的倾斜角度变化。
一种磨削方法

[发明专利]一种具有温度调节功能的抛光转台和化学机械抛光设备-CN202210873890.1在审
发明人：许振杰;王同庆;张国铭;路新春 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-07-25 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有温度调节功能的抛光转台和化学机械抛光设备，其中，抛光转台包括：旋转组件；抛光盘，其连接在所述旋转组件上，并用于在其上覆盖抛光垫；温度调整元件，其与所述抛光盘连接，用于调节所述抛光垫的温度；流体介质通道，其设置于所述温度调整元件的下方，以进行散热或供热。本发明利用温度调整元件对抛光垫进行温度调节，同时流体介质通道配合作业。
一种具有温度调节功能抛光转台化学机械抛光设备

[发明专利]一种基板磨削方法-CN202211546030.3在审
发明人：路新春;刘远航;靳凯强;赵德文 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-05 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： B24B7/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种基板磨削方法，其包括：S1，使用校核装置确定砂轮的竖向初始位置；S2，根据砂轮的竖向初始位置、基板初始面形和基板目标面形，设定基板磨削参数；S3，根据基板磨削参数实施基板磨削加工；其中，步骤S1包括：对校核装置的量块进行恒温处理；校核装置的量块移动至吸盘的上侧；主轴组件沿竖直方向朝所述量块移动；主轴组件底部的砂轮抵压于量块，使得量块下部的检测传感器抵压于吸盘表面；检测传感器触发主轴组件停止移动信号，此时砂轮的位置为砂轮的竖向初始位置。
一种磨削方法

[发明专利]一种化学机械抛光系统-CN202211570483.X在审
发明人：王春龙;王国栋;许振杰;赵德文;王同庆 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-08 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光系统，其包括：前置单元；抛光单元；清洗单元，设置于前置单元与抛光单元之间；所述抛光单元包括多个抛光模块，所述抛光模块包括抛光盘、抛光组件和装卸台，所述装卸台设置于抛光盘的外侧，所述抛光组件设置于抛光盘和装卸台的上侧；所述抛光组件包括支撑架和悬挂于支撑架下方的承载头，旋转的支撑架能够带动承载头装载的晶圆在装卸台与抛光盘之间移动；所述抛光模块还包括设置于承载头上方的保湿机构，所述保湿机构包括输液件和防护件，所述防护件罩设于所述承载头的上侧；所述承载头旋转至装卸台时，所述输液件能够与所述防护件插接固定并输送流体，以在承载头的外周侧形成水帘。
一种化学机械抛光系统

[发明专利]一种化学机械抛光系统和抛光方法-CN202211523667.0在审
发明人：路新春;许振杰;王国栋;赵德文;王同庆 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-01 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光系统和抛光方法，所述化学机械抛光系统包括前置单元；抛光单元；清洗单元，设置于前置单元与抛光单元之间；其中，所述清洗单元包括第一清洗单元和第二清洗单元，所述第一清洗单元和第二清洗单元相对于清洗单元的横向中心线对称设置；所述第一清洗单元和第二清洗单元包括后处理模块、前部传输机械手和后部传输机械手，所述后处理模块竖向层叠设置以形成层叠模组；所述第一清洗单元和第二清洗单元分别配置一对层叠模组，其中一个层叠模组与前部传输机械手的连线平行于另一个层叠模组与后部传输机械手的连线。
一种化学机械抛光系统抛光方法

[发明专利]一种晶圆清洗方法和清洗控制系统-CN202211577220.1在审
发明人：赵德文;李长坤;刘洪旺 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-05 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆清洗方法和清洗控制系统，所述晶圆清洗方法包括：将待清洗的晶圆放置于清洗装置中，支撑部竖直支撑晶圆；清洗刷朝向晶圆移动以抵接于晶圆表面，支撑部带动晶圆绕轴线转动；清洗装置中的喷杆朝向晶圆表面喷射清洗液，清洗刷吸附晶圆表面的清洗液并旋转刷除晶圆表面的颗粒物；其中，所述喷杆的喷嘴和/或喷孔喷射清洗液时，喷射方向与晶圆旋向相同的喷杆段的喷射流量大于喷射方向与晶圆旋向相反的喷杆段的喷射流量。
一种清洗方法控制系统

[发明专利]一种晶圆旋转机构和晶圆处理装置-CN202210874101.6在审
发明人：曹自立;李长坤 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-07-25 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆旋转机构和晶圆处理装置，该机构包括主动轮组件和从动轮组件；所述主动轮组件包括前压盖、后压盖和驱动轮，所述前压盖和后压盖配合将驱动轮夹紧在二者之间，所述驱动轮的侧边缘具有环形卡槽，所述环形卡槽用于抵接晶圆并带动晶圆旋转，所述环形卡槽由弹性材料制成，所述环形卡槽包括两个相对的用于限位晶圆的侧壁，所述侧壁的内侧具有倾斜的引导面。
一种旋转机构处理装置

[发明专利]一种分布式清洗装置-CN202111634245.6有效
发明人：吴兴;王剑;王同庆 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种分布式清洗装置，用于对放置在晶圆交互装置上的晶圆进行保湿并当抛光头位于晶圆交互装置上方时冲洗抛光头，晶圆交互装置包括由上至下依次连接的托架、连接板和升降机构。分布式清洗装置包括：晶圆正面保湿组件，包括第一组喷嘴，用于向上喷洒液体对晶圆正面进行保湿；晶圆背面保湿组件，安装在支撑件上，包括第二喷嘴座和第二喷嘴，用于向晶圆背面喷洒液体进行保湿；其中，支撑件与晶圆交互装置相邻设置；抛光头清洗组件，安装在支撑件上，包括第三喷嘴座和第三组喷嘴，用于冲洗抛光头的保持环和气膜。
一种分布式清洗装置

[发明专利]一种磨削面形预测方法、磨削系统及终端设备-CN202111533915.5有效
发明人：陶红飞;刘远航;赵德文;路新春 -专利权人：清华大学;华海清科股份有限公司
申请日： 2021-12-15 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： B24B7/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种磨削面形预测方法、磨削系统及终端设备，方法包括：设置不同的姿态调节参数，对晶圆进行磨削；测量磨削后的晶圆厚度，提取晶圆的面形特征；采取机器学习算法建立姿态调节参数与面形特征之间的映射关系，得到面形预测模型。本发明能够得到晶圆磨削的面形预测模型，提高了预测的准确性和可靠性。
一种磨削预测方法系统终端设备

[实用新型]一种用于化学机械抛光的承载头和化学机械抛光设备-CN202223021695.0有效
发明人：王宇;孟松林;魏兴武 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-11-10 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于化学机械抛光的承载头和化学机械抛光设备，承载头包括连接在枢轴下方的基座组件，在基座组件下方夹持有弹性膜以形成可加压腔室，在可加压腔室内定位有内压环，在可加压腔室外设有外压环，外压环和内压环套设装配；所述弹性膜的起始端固定于基座组件，弹性膜穿过外压环和内压环之间的相交面并绕内压环的外缘延伸从而包裹内压环并在底部形成用于抵接晶圆的底面；所述内压环的底面靠近边缘的位置设有第一垫片，通过内压环按压所述第一垫片以调节晶圆边缘的形貌。
一种用于化学机械抛光承载设备

[实用新型]一种化学机械抛光系统-CN202223196521.8有效
发明人：许振杰;请求不公布姓名;陈映松;吴兴;赵德文;路新春 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-01 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学机械抛光系统，所述化学机械抛光系统包括：前置单元；抛光单元；清洗单元，设置于前置单元与抛光单元之间；所述抛光单元包括多个抛光模块和晶圆传输机构，所述抛光模块围绕所述晶圆传输机构设置，所述晶圆传输机构能够在相邻抛光模块之间传输晶圆；所述抛光模块包括抛光盘、抛光组件和装卸台，所述装卸台设置于抛光盘的外侧，所述抛光组件设置于抛光盘和装卸台的上侧；所述抛光组件包括支撑架和悬挂于支撑架下方的承载头，所述支撑架旋转，以带动承载头装载的晶圆在装卸台与抛光盘之间移动。
一种化学机械抛光系统

[实用新型]一种晶圆清洗装置-CN202223466754.5有效
发明人：刘远航;杨尧;马旭 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种晶圆清洗装置，包括：旋转组件以及位于所述旋转组件上方的喷淋组件，所述旋转组件用于承载晶圆并带动所述晶圆旋转；其中，所述喷淋组件包括喷淋部和围绕所述喷淋部外周设置的护罩，所述护罩内形成有多条抽吸通道。本实用新型在原有清洗设备的基础上，在喷淋部外周增设了护罩，可在清洗的同时阻挡二流体飞溅和水雾逸散；此外，为了防止飞溅至护罩内壁的水雾聚集后贴壁成股流下，本实施例在护罩内设置有多条抽吸气道，在二流体喷射形成水雾时，通过护罩内的抽吸气道，将飞溅的二流体和逸散的水雾吸出，以此达到清除水雾的目的。
一种清洗装置

[发明专利]一种化学机械抛光系统和抛光方法-CN202211523645.4在审
发明人：许振杰;请求不公布姓名;陈映松;吴兴;赵德文;路新春 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-01 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光系统和抛光方法，所述化学机械抛光系统包括：前置单元；抛光单元；清洗单元，设置于前置单元与抛光单元之间；所述抛光单元包括多个抛光模块和晶圆传输机构，所述抛光模块围绕所述晶圆传输机构设置，所述晶圆传输机构能够在相邻抛光模块之间传输晶圆；所述抛光模块包括抛光盘、抛光组件和装卸台，所述装卸台设置于抛光盘的外侧，所述抛光组件设置于抛光盘和装卸台的上侧；所述抛光组件包括支撑架和悬挂于支撑架下方的承载头，所述支撑架旋转，以带动承载头装载的晶圆在装卸台与抛光盘之间移动。
一种化学机械抛光系统抛光方法