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[实用新型]一种晶圆装载杯-CN202020614672.2有效
发明人：赵德文;孟松林;赵慧佳 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2020-04-22 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：一种晶圆装载杯，其特征在于，包括：同轴设置于所述装载杯中心的托架，该托架具有圆圈状的环形边缘用于承接卸落的晶圆；同轴设置于所述托架圆周外围的支撑卡圈，用于支撑和/或定位晶圆承载头，所述支撑卡圈的顶面设置成高于所述托架的顶面以及设置于所述支撑卡圈的至少一个设置成向所述装载杯的中心轴线方向喷射流体的喷嘴。
一种装载

[实用新型]一种底面具有凹凸结构的保持环和承载头-CN202020567963.0有效
发明人：孟松林;赵德文;王宇 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2020-04-16 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种底面具有凹凸结构的保持环和承载头，所述保持环由环形部构成，所述环形部由金属部和非金属部层叠胶合而成；所述环形部包括顶面、底面、外侧面和内侧面，所述顶面与承载头固定连接，所述底面与抛光表面抵接，所述外侧面设置于环形部的外侧并连接顶面与底面，所述内侧面设置于环形部的内侧并连接顶面与底面，所述底面设置有连通内侧面和外侧面的供液槽；所述顶面设置有螺纹孔，所述螺纹孔位于所述供液槽的对应位置。
一种底面具有凹凸结构保持承载

[发明专利]一种用于化学机械抛光的保持环和承载头-CN202010297804.8在审
发明人：赵德文;路新春;李长坤;孙张璞;孟松林 -专利权人：清华大学;华海清科股份有限公司
申请日： 2020-04-16 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于化学机械抛光的保持环和承载头，所述环形部包括顶面、底面、外侧面和内侧面，所述顶面与承载头固定连接，所述底面与抛光表面抵接，所述外侧面设置于环形部的外侧并连接于顶面与底面之间，所述内侧面设置于环形部的内侧并连接于顶面与底面之间。
一种用于化学机械抛光保持承载

[发明专利]用于金属膜厚测量的差分探头装置-CN201810270780.X有效
发明人：王军星;郭振宇;赵德文;王同庆;沈攀;万明军;路新春 -专利权人：清华大学;华海清科股份有限公司
申请日： 2018-03-29 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： G01B7/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于金属膜厚测量的差分探头装置，包括：激励源，用于提供振荡源；差分探头，差分探头具有第一线圈通道和第二线圈通道，且对应包括第一线圈和第二线圈；采集模块，用于在探头正下方产生磁场，且在探头正下方的被测金属薄膜的表面产生感应磁场时，采集探头的等效阻抗；中央处理模块，用于使得第一线圈和第二线圈同时工作，并且根据等效阻抗得到线圈阻抗的变化值，以根据线圈阻抗的变化值得到被测金属薄膜的厚度。该装置可以通过非接触式进行金属膜厚的测量，从而消减共模量的干扰，提高测试的稳定性。
用于金属膜测量探头装置

[实用新型]一种保持环-CN201921585844.1有效
发明人：赵德文;刘远航;孟松林 -专利权人：清华大学;华海清科股份有限公司
申请日： 2019-09-23 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种保持环，包括第一环形部及第二环形部，所述第一环形部由金属材料制成，所述第二环形部由非金属材料制成，所述第一环形部的至少一面与第二环形部紧贴固定。
一种保持

[实用新型]一种承载头测试装置-CN201921692546.2有效
发明人：赵德文;刘远航;孟松林;王江涛;李硕 -专利权人：清华大学;华海清科股份有限公司
申请日： 2019-10-11 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： G01M3/26 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种承载头测试装置，包括箱体、接收法兰、挡板、支撑组件及测控组件，所述接收法兰固定设置于箱体顶部以接收承载头，所述挡板通过支撑组件可移动地架设于接收法兰上部，所述测控组件经由连接法兰加载测试承载头，其中，所述箱体表面配置有导轨，所述支撑组件的下部卡接于所述导轨并且其上部与所述挡板固定连接，所述挡板的底面设置有防粘连结构以防止承载头的底部与挡板粘连。本申请提供的一种承载头测试装置，用于化学机械抛光设备中承载头的检测，能够适用于各种不同尺寸及规格的承载头的安装和检测、检测效率高、作业故障率低、不容易产生故障、具有良好的推广价值。
一种承载测试装置

[发明专利]晶圆传输装置-CN201610855022.5有效
发明人：王剑;许振杰;郑家旺;陈祥玉;王同庆;李昆;路新春 -专利权人： 华海清科股份有限公司;清华大学
申请日： 2016-09-26 - 公布日： 2020-05-22 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆传输装置，晶圆传输装置包括：晶圆夹持组件；竖直移动组件，所述竖直移动组件设置成驱动所述晶圆夹持组件竖直移动；水平移动组件，所述水平移动组件设置成驱动所述竖直移动组件水平移动。通过设置竖直移动组件和水平移动组件，可以在上下方向上输送和输出晶圆，可以避免在工艺腔室的侧面开设窗口，从而一方面可以避免泄露以及液体溅射，可以降低工艺腔室的密封要求，另一方面可以减小晶圆传输装置的占地面积，降低晶圆传输装置的生产成本。
传输装置

[实用新型]一种修整头-CN201920994764.5有效
发明人：许振杰;王春龙 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2019-06-28 - 公布日： 2020-05-22 - 主分类号： B24B53/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种修整头，包括修整组件和用于承载修整组件的基座组件，所述修整组件可相对于基座组件旋转并竖直移动以修整抛光垫；并且，所述修整头中设置有传感器以监测修整组件相对于基座组件的竖直位置。本申请提供的修整头用于化学机械抛光设备中抛光垫的修整活化，其结构合理，内部设置传感器实时监测修整组件相对于基座组件的竖直位置，实时获取修整组件底面距离抛光垫的距离，以保证良好的修整效果。
一种修整

[实用新型]一种压力控制装置和化学机械抛光装置-CN201920720791.3有效
发明人：许振杰;王春龙;赵德文 -专利权人：清华大学;华海清科股份有限公司
申请日： 2019-05-18 - 公布日： 2020-05-12 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本实用新型涉及化学机械抛光技术领域，公开了一种压力控制装置和化学机械抛光装置。压力控制装置包括压力控制模块和第一压力传感器，压力控制模块中集成有正压控制单元和负压控制单元；正压控制单元的输入端连接正压供给源，负压控制单元的输入端连接负压供给源，正压控制单元的输出端与负压控制单元的输出端共同连接终端元件；第一压力传感器连接在终端元件的气路端口处；正压控制单元、负压控制单元和第一压力传感器分别与控制器连接；控制器获取第一压力传感器采集的终端元件的端口压力，并控制正压控制单元和/或负压控制单元的开关，以使端口压力稳定在预设目标压力。化学机械抛光装置包括与承载头内的压力腔室气路连接的压力控制装置。
一种压力控制装置化学机械抛光

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