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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种减薄设备-CN202310253217.2在审
发明人：刘远航;马旭;李森;靳凯强;路新春 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2023-03-16 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： B24B27/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种减薄设备，包括：设备前端模块，用于实现晶圆的进出，所述设备前端模块设置在所述减薄设备的前端；磨削模块，用于对至少两片晶圆同时进行粗磨削和/或精磨削，所述磨削模块设置在所述减薄设备的末端；抛光模块，用于在完成磨削之后对至少两片晶圆同时进行化学机械抛光，所述抛光模块邻接所述磨削模块设置；两个对称分布的清洗模块，位于抛光模块和设备前端模块之间；两个对称分布的传输模块，分别位于抛光模块的两侧。
一种设备

[发明专利]一种晶圆清洗装置-CN202211738455.4在审
发明人：申兵兵;李长坤 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-31 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆清洗装置，包括：槽体，其内部形成有供晶圆清洗的容置腔；清洗组件，包括位于晶圆两侧的滚刷；支撑组件，其位于所述清洗组件的下方并与晶圆边缘接触，用于支撑并限定晶圆在竖直平面内旋转；其中，所述支撑组件包括主动轮和测速轮，所述测速轮配置有制动件，所述制动件用于控制所述测速轮停止旋转。本发明提供的晶圆清洗装置为测速轮配置了制动件，测速轮的转动轴与制动件的转子相连，当冲洗完成后通过制动件对测速轮进行制动，使得测速轮可以及时止停，防止刮伤晶圆。
一种清洗装置

[发明专利]一种化学机械抛光装置和抛光方法-CN202111269332.6在审
发明人：赵德文 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光装置和抛光方法，所述化学机械抛光装置包括：抛光盘，其顶面设置有可拆卸的填充环；承载头，用以接收并加载晶圆于抛光盘上部的抛光垫；所述填充环拆卸后，抛光盘顶面形成有环状凹槽；使得承载头可以旋转并沿抛光垫的径向移动，以控制晶圆与所述环状凹槽之间的水平距离，调节晶圆边缘的去除速率。
一种化学机械抛光装置抛光方法

[发明专利]一种化学机械抛光装置和抛光方法-CN202111269109.1在审
发明人：赵德文 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光装置和抛光方法，所述化学机械抛光装置包括抛光盘，其顶面设置有凹槽；承载头，用以接收并加载晶圆于抛光盘顶面的抛光垫；使得承载头可以旋转并沿抛光垫的径向移动，以控制晶圆与所述凹槽之间的水平距离，调节晶圆边缘部分的去除速率。
一种化学机械抛光装置抛光方法

[发明专利]一种化学机械抛光装置和抛光方法-CN202111269300.6在审
发明人：赵德文 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光装置和抛光方法，所述化学机械抛光装置包括抛光盘；承载头，用以接收并加载晶圆于所述抛光盘上部的抛光垫；所述抛光盘顶面设置有凹槽，所述凹槽与抛光垫形成密封腔，压力调节部与所述密封腔连通以调节腔室压力，以使凹槽上侧的抛光垫发生形变；使得承载头可以旋转并沿抛光垫的径向移动，以控制晶圆与所述凹槽之间的水平距离，调节晶圆边缘部分的去除速率。
一种化学机械抛光装置抛光方法

[发明专利]一种承载头和化学机械抛光设备-CN202211685610.0在审
发明人：王宇;温世乾;马逸麟 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种承载头和化学机械抛光设备，承载头包括连接在枢轴下方的基座组件，在基座组件下方夹持有弹性膜以形成加压腔室，在加压腔室内定位有内卡环，在加压腔室外设有外卡环；所述基座组件下方还连接有围绕加压腔室和外卡环设置的保持环；所述外卡环和保持环之间设有相互配合的限位结构，用于限制外卡环的活动进而限制弹性膜的移动范围。
一种承载化学机械抛光设备

[发明专利]一种晶圆减薄方法及减薄装置-CN202211694359.4在审
发明人：李森;刘远航;赵德文;路新春 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-28 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： B24B7/22 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆减薄方法及减薄装置，所述晶圆减薄方法在减薄装置中进行，所述减薄装置包括转台，所述转台的表面配置有六个工位，分别包括多个装卸工位、多个粗磨工位和多个精磨工位；所述晶圆减薄方法包括：提供至少一片晶圆，由所述装卸工位上片；所述转台带动晶圆转动进入各所述粗磨工位，进行多次粗磨减薄；所述转台继续带动晶圆转动进入各所述精磨工位，进行多次精磨减薄。本发明提供的减薄装置配置了6加工工位，可采用不同的加工模式兼容不同硬度材料的减薄工艺，节省了加工时间，大幅提升了晶圆减薄的产能和设备利用率。
一种晶圆减薄方法装置

[发明专利]一种用于化学机械抛光的弹性膜和承载头-CN202211728619.5在审
发明人：赵德文;温世乾;孟松林;王宇 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于化学机械抛光的弹性膜和承载头，所述弹性膜包括：圆形的底板部；外周壁，其包括直立部、褶皱部和第一水平延伸部，所述直立部沿所述底板部的周缘向上竖直延伸而成，所述褶皱部位于所述直立部之上，所述第一水平延伸部自所述褶皱部顶端朝向内侧水平延伸而成；以及至少一个内周壁，其同心设置于所述外周壁的内侧；其中，所述褶皱部为开口向内的梯形折边。
一种用于化学机械抛光弹性承载

[发明专利]一种用于化学机械抛光的承载头和抛光系统-CN202211722047.X在审
发明人：马逸麟;温世乾;孟松林;孙张璞;赵德文 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于化学机械抛光的承载头和抛光系统，所述承载头包括：基座；承载盘，设置于所述基座的下方；弹性膜，设置于所述承载盘下方；保持环，设置于承载盘的下方并位于弹性膜的外周侧；压盖，设置于所述承载盘的上方；防护罩，连接于所述基座并罩设于所述压盖的外周侧；所述压盖的外周侧配置有阻液结构，以防止液体经由防护罩与压盖之间的间隙向上传输。
一种用于化学机械抛光承载抛光系统

[发明专利]一种旋转式晶圆交互系统-CN202111633899.7有效
发明人：吴兴;请求不公布姓名;许振杰;请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种旋转式晶圆交互系统，包括托盘组件和至少一个晶圆交互装置；所述托盘组件包括旋转轴和至少两个用于承接晶圆的托盘，托盘与旋转轴连接并可跟随旋转轴转动以在不同工位轮转；所述晶圆交互装置围绕所述旋转轴布置并位于所述托盘的正下方，所述晶圆交互装置包括托架和升降机构，所述托架与所述升降机构连接以实现升降。
一种旋转式晶圆交互系统

[发明专利]晶圆清洗装置-CN202111655200.7有效
发明人：刘远航;刘健;马旭;路新春 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： B08B5/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆清洗装置，包括清洗组件和用于容纳清洗组件的箱体，所述箱体具有顶盖、侧壁和底板，在箱体顶部设置防滴液机构，用于避免顶盖的下表面的液体滴落在晶圆表面造成污染。
清洗装置

[实用新型]一种晶圆清洗装置-CN202223563009.2有效
发明人：睢英照;请求不公布姓名;赵德文;路新春 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： B08B1/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆清洗装置，其包括：壳体；支撑组件，设置于壳体中，其包括主动轮和从动轮，以竖向支撑并带动晶圆转动；清洗刷，水平设置于壳体中并能够绕轴线转动，以对晶圆进行刷洗；位置校核组件，以测量和调整主动轮和/或从动轮的水平位置，使得主动轮和从动轮位于同一平面中。
一种清洗装置

[实用新型]一种应用马兰戈尼效应的晶圆清洗干燥装置-CN202222979181.X有效
发明人：申兵兵;李长坤;赵德文;路新春 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-11-09 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种应用马兰戈尼效应的晶圆清洗干燥装置，包括：箱体；晶圆承载移动组件，用于接收晶圆，带动晶圆平行移位并沿竖直方向提升晶圆；双喷淋组件，其包括位于上方的出气口和位于下方的出液口，在晶圆上升过程中，出液口向晶圆表面第一区域喷液的同时出气口向晶圆表面第二区域喷气，其中，第一区域与第二区域相交并位于第二区域下方，以在相交位置发生马兰戈尼效应剥离晶圆表面的污染物。
一种应用马兰效应清洗干燥装置

[实用新型]一种承载头和化学机械抛光设备-CN202223494109.4有效
发明人：王宇;温世乾;马逸麟 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种承载头和化学机械抛光设备，承载头包括连接在枢轴下方的基座组件，在基座组件下方夹持有弹性膜以形成加压腔室，在加压腔室内定位有内卡环，在加压腔室外设有外卡环；所述基座组件下方还连接有围绕加压腔室和外卡环设置的保持环；所述外卡环和保持环之间设有相互配合的限位结构，用于限制外卡环的活动进而限制弹性膜的移动范围。
一种承载化学机械抛光设备

[实用新型]一种磨削工作台和晶圆减薄设备-CN202223494086.7有效
发明人：赵德文;刘远航;靳凯强 -专利权人： 华海清科股份有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： B24B27/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磨削工作台和晶圆减薄设备，磨削工作台包括由上至下依次叠放的安装盘、支撑环和基座，安装盘用于承载吸盘，支撑环与基座固定连接，安装盘与基座中的驱动机构连接，支撑环内部设有气浮结构，以实现安装盘悬浮于支撑环时在驱动机构的驱动下转动，所述支撑环的上表面具有三个高度完全一致的最高点，使得安装盘抵接于支撑环上表面时保持水平。
一种磨削工作台晶圆减薄设备

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